JP2009283825A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009283825A JP2009283825A JP2008136566A JP2008136566A JP2009283825A JP 2009283825 A JP2009283825 A JP 2009283825A JP 2008136566 A JP2008136566 A JP 2008136566A JP 2008136566 A JP2008136566 A JP 2008136566A JP 2009283825 A JP2009283825 A JP 2009283825A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- word line
- region
- blocks
- block
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/06—Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
- G11C5/063—Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/04—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
- G11C16/0483—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells having several storage transistors connected in series
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/02—Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
- G11C5/025—Geometric lay-out considerations of storage- and peripheral-blocks in a semiconductor storage device
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/14—Word line organisation; Word line lay-out
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B41/00—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
- H10B41/10—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the top-view layout
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B41/00—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
- H10B41/30—Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the memory core region
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
【課題】ワード線の抵抗値を低減することができ、信号遅延に伴う書込特性の悪化を防ぐ。
【解決手段】隣り合うブロックBj−Bj+1はY方向に並設されており、これらの各ブロックBj−Bj+1内に構成される各ワード線WL(WL0〜WLm−1)は、その番号がソース線コンタクトCSの並設群を挟んでY方向対称で同一番号に設定されている。これらのブロックBj、Bj+1の同一番号のワード線WL(WL0〜WLm−1)が、実質的な電位印加部とは異なる位置において互いに構造的および電気的に接続されている。
【選択図】図6
【解決手段】隣り合うブロックBj−Bj+1はY方向に並設されており、これらの各ブロックBj−Bj+1内に構成される各ワード線WL(WL0〜WLm−1)は、その番号がソース線コンタクトCSの並設群を挟んでY方向対称で同一番号に設定されている。これらのブロックBj、Bj+1の同一番号のワード線WL(WL0〜WLm−1)が、実質的な電位印加部とは異なる位置において互いに構造的および電気的に接続されている。
【選択図】図6
Description
本発明は、メモリセルにワード線から電圧を印加するための構造を備えた半導体装置に関する。
この種の半導体装置では、ビット線とワード線とが互いに交差する方向に延伸しておりこれらの交差領域にメモリセルが配設されている。ワード線は、メモリセル領域のメモリセルアレイ内を渡って所定方向に沿って延伸されており、各メモリセルに電圧を印加可能に構成されている(例えば、特許文献1参照)。この特許文献1に開示されている構成によれば、ワード線の端部構造を改良することで隣り合うワード線間のリーク電流を抑制している。しかし、近年の微細化、設計ルールの縮小化に伴い、ワード線幅が細くなる傾向にあり、しかも製品の仕様上、ワード線長をより長くする必要があり、この場合信号の伝搬遅延が生じやすい。信号の伝搬遅延が生じるとセルの書込スピードが低下するため好ましくない。
特開2008−47904号公報
本発明は、ワード線の抵抗値を低減することができ、信号遅延に伴う書込特性の悪化を防ぐことを可能とした半導体装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様は、それぞれ所定方向に延伸すると共に前記所定方向に交差する交差方向に並設された第1ないし第Nのワード線(N≧2)であって、互いに同一の第1幅により形成されると共に、互いに同一の第1層に形成されたワード線をワード線群としてそれぞれ具備し、前記交差方向に隣接して配置された第1および第2のブロックであって、ブロック間の領域を挟んで前記第1ないし第Nのワード線が対称的に配設された状態で前記交差方向に併設された第1および第2のブロックを備え、前記第1層よりも上層に、前記第1幅よりも広い第2幅を有する配線層が形成され、前記第1および第2のブロックの第kのワード線(k=1〜Nのうち少なくとも何れか1つ)が前記配線層で互いに構造的に接続して構成されていることを特徴としている。
本発明によれば、ワード線が電位印加部とは異なる位置において構造的に接続されているため、ワード線の抵抗値を低減することができ、信号遅延に伴う書込特性の悪化を防ぐことができる。
以下、本発明の半導体装置をNAND型フラッシュメモリ装置に適用した一実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下に参照する図面内の記載において、同一または類似部分には同一又は類似の符号を付して表している。但し、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との比率、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なる。
図1は、NAND型フラッシュメモリ装置の電気的構成をブロック図によって概略的に示している。この図1に示すように、フラッシュメモリ装置1はメモリセル領域Mと周辺回路領域Pとから構成される。メモリセル領域Mには、多数のメモリセルがマトリクス状に配設されて構成されたメモリセルアレイArが設けられている。周辺回路領域Pには、メモリセルアレイArの各メモリセルからのデータ読出し/各メモリセルへのデータ書込み/各メモリセルのデータ消去を行うための制御回路CC、ロウ駆動回路RD、カラム駆動回路CD、センスアンプSAなどの周辺回路が設けられている。尚、メモリセルアレイArはメモリセル領域M内に構成され、周辺回路は周辺回路領域P内に構成される。尚、図1に示すように、メモリセルアレイArは単一の構成である実施形態を示すが、複数のプレーンに分割構成されていても良い。
次に、メモリセルアレイの概略構成を図2および図3を用いて説明する。図2は、主にメモリセルアレイ内の電気的構成を概略的に示しており、図3は、メモリセルアレイの平面図を模式的に示している。
図2に示すように、メモリセル領域M内のメモリセルアレイArは、セルユニットUC(NANDセルユニット)が多数マトリクス状に配設されることによって構成されている。セルユニットUC(UC0…UCn+1)は、ビット線BL(BL0…BLn+1)側にそれぞれ接続された選択ゲートトランジスタSTDと、ソース線CSL側に接続された選択ゲートトランジスタSTSと、当該2個(複数)の選択ゲートトランジスタSTS−STD間に複数個(例えばm=2のk乗=32個)直列接続されたメモリセルトランジスタMT(MT0…MTm−1)とからなる。
これらのセルユニットUCは、行方向にn+2列並列に配列されることによって1つのブロックBlock(Bj)を構成している。メモリセルアレイArは、1つのブロックBlock(B1〜Bj、Bj+1〜Bz)が列方向に複数列(z列)配列されることによって構成されている。
図3に示すように、行方向に配列された複数のセルユニットUCの選択ゲートトランジスタSTDは、そのゲート電極が選択ゲート線SGDによって電気的に接続されており、そのドレイン領域にはビット線コンタクトCBが接続されている。このビット線コンタクトCBは図3中X方向に直交交差するY方向(ビット線方向)に延伸するビット線BL(図2参照)に接続されている。
行方向に配列された複数のセルユニットUCの選択ゲートトランジスタSTSは、そのゲート電極が選択ゲート線SGLSによって電気的に接続されており、そのソース側がソース線コンタクトCSを介して図2に示すソース線CSLに共通接続されている。
行方向に配列された複数のセルユニットUCのメモリセルトランジスタMT(MT0〜MTm−1)は、それぞれ、そのゲート電極がワード線WL(WL0〜WLm−1)によって電気的に接続されている。尚、1つのブロックBj内におけるワード線WL(WL0〜WLm−1)が本発明のワード線群に相当する。図1に示すセンスアンプSAは、図2に示すビット線BL(BL0〜BLn+1)に接続されており、データの読出時に当該データを一時的に保存するラッチ回路を接続して構成されている。
図4は、ワード線の延伸方向に沿って示す断面構造(図3中のA−A線に沿って示す縦断面図)、図5は、アクティブエリアの延伸方向に沿って示す断面構造(図3中のB−B線に沿って示す縦断面図)を示している。
図5に示すように、半導体基板としてのシリコン基板2の表層にはnウェル2aが形成されており、このnウェル2aのさらに表層にはpウェル2bが形成されている。図4に示すように、pウェル2bの上部には、STI(Shallow Trench Isolation)構造の素子分離領域Sbが形成されている。この素子分離領域Sbは、X方向に所定間隔で複数形成されており、これによりアクティブエリアSaが図3に示すように、複数に分離されて構成されている。素子分離溝3内には素子分離膜4が例えばシリコン酸化膜により構成されている。
素子分離溝3により分離されたシリコン基板2の上面上にはゲート絶縁膜5が形成されている。このゲート絶縁膜5は、例えばシリコン酸化膜により形成されている。このゲート絶縁膜5の上面上には多結晶シリコン層6が構成されている。多結晶シリコン層6は浮遊ゲート電極FGとして機能する。素子分離膜4は、その上面がゲート絶縁膜3の上面より上方に位置すると共に多結晶シリコン層6の上面よりも下方に位置するように構成されている。素子分離膜4は、多結晶シリコン層6の下側面およびゲート絶縁膜5の側面に接触して構成されている。
多結晶シリコン層6の上面および側面ならびに素子分離膜4の上面にはゲート間絶縁膜7が形成されている。このゲート間絶縁膜7は、例えばONO(Oxide-Nitride-Oxide)膜により構成される。尚、ゲート間絶縁膜7はONO膜の成膜前後にラジカル窒化することで形成されたNONON膜や、アルミナ(Al2O3)を酸化膜および窒化膜の積層構造で挟んだNOAON膜で構成しても良い。
このゲート間絶縁膜7の上には制御ゲート電極CGが形成されている。この制御ゲート電極CGは、多結晶シリコン層8および当該多結晶シリコン層8の上部にタングステン(W)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)などの金属によってシリサイド化された金属シリサイド層9により構成されており、ワード線WL(WL0〜WLm−1)を構成している。このようにして、メモリセルトランジスタMT(MT0〜MTm−1)のゲート電極MGが、多結晶シリコン層6、ゲート間絶縁膜7、制御ゲート電極CGを積層したスタックゲート構造により構成されている。
図4に示すように、ワード線WL(WL0〜WLm−1)は、複数のアクティブエリアSaおよび複数の素子分離領域Sbの上方をX方向に渡って形成されていると共に、X方向に並設された浮遊ゲート電極FGの上方を渡って形成されている。ワード線WLは、メモリセルトランジスタMTのゲート電極MGをX方向に連結している。
図3に示すように、選択ゲート線SGLDと交差するアクティブエリアSa上には、選択ゲートトランジスタSTDの選択ゲート電極SGDが構成されており、選択ゲート線SGLDによって連結されている。選択ゲート線SGLSと交差するアクティブエリアSa上には、選択ゲートトランジスタSTSの選択ゲート電極SGSが構成されており、選択ゲート線SGLSによって連結されている。
次に、アクティブエリアの延伸方向に沿う断面構造について図5を参照して説明する。
図5に示すように、シリコン基板2の上面上にはレイヤLY1〜レイヤLY7からなる層構造が設けられている。レイヤLY1には、ゲート絶縁膜5、電極間絶縁膜10およびゲート電極FG、CG等が形成されている。レイヤLY2には、第1の層間絶縁膜12a、ヴィアプラグVP1、バリア膜11等が形成されている。レイヤLY3には、第1の層間絶縁膜12aの上面に形成された溝にワード線接続配線層13およびソース線接続配線層14等が形成されている。レイヤLY4には第2の層間絶縁膜12bが、レイヤLY5にはビット線BLが形成されている。また、レイヤLY6、LY7には第3の層間絶縁膜12cが形成され、レイヤLY7には後述する配線層15が形成される。
図5に示すように、シリコン基板2の上面上にはレイヤLY1〜レイヤLY7からなる層構造が設けられている。レイヤLY1には、ゲート絶縁膜5、電極間絶縁膜10およびゲート電極FG、CG等が形成されている。レイヤLY2には、第1の層間絶縁膜12a、ヴィアプラグVP1、バリア膜11等が形成されている。レイヤLY3には、第1の層間絶縁膜12aの上面に形成された溝にワード線接続配線層13およびソース線接続配線層14等が形成されている。レイヤLY4には第2の層間絶縁膜12bが、レイヤLY5にはビット線BLが形成されている。また、レイヤLY6、LY7には第3の層間絶縁膜12cが形成され、レイヤLY7には後述する配線層15が形成される。
シリコン基板2のpウェル2bの上面上のレイヤLY1にはゲート絶縁膜5を介して選択ゲートトランジスタSTDの選択ゲート電極SGDおよび選択ゲートトランジスタSTSの選択ゲート電極SGSが形成されている。選択ゲート電極SGD−SGS間のシリコン基板2上には、ゲート絶縁膜5を介して複数のメモリセルトランジスタMTのゲート電極MGがY方向に並設されている。
選択ゲートトランジスタSTDの選択ゲート電極SGD、および、選択ゲートトランジスタSTSの選択ゲート電極SGSは、メモリセルトランジスタMTのゲート電極MGの構造とほぼ同様の構造をなしているが、ゲート間絶縁膜7の平面中央に開口が構成されており、当該開口を介してゲート電極MGの多結晶シリコン層6および8が構造的に接触した状態で構成されている。
各ゲート電極MG−MG間、ゲート電極MGと選択ゲート電極SGDとの間、ゲート電極MGと選択ゲート電極SGSとの間のシリコン基板2表層にソース/ドレイン領域となる不純物拡散層2cが構成されている。また、選択ゲート電極SGS−SGS間のシリコン基板2の表層には高濃度の不純物拡散層2dがコンタクト領域として形成されている。この不純物拡散層2d上には下層のソース線コンタクトCS1がレイヤLY1からレイヤLY2にわたり構成されている。この下層ソース線コンタクトCS1の上のレイヤLY3にはローカルソース線である配線層14が構成されている。
各ゲート電極MG−MG間、ゲート電極MGと選択ゲート電極SGDとの間、ゲート電極MGと選択ゲート電極SGSとの間のレイヤLY1には、例えばシリコン酸化膜からなる、電極間絶縁膜10が形成されている。
電極間絶縁膜10、各ゲート電極SG、MGの上のレイヤLY2には、シリコン窒化膜からなるバリア膜11が形成されている。このバリア膜11上には、例えばシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜12が形成されている。
ゲート電極MGの上面上のレイヤLY2には、メモリセルトランジスタMT0のゲート電極MGに接続されたヴィアプラグVP1が形成されている。このヴィアプラグVP1は、例えばタングステン(W)などの配線材料がバリアメタルなどを介して構成されている。
ゲート電極MGの上面上のレイヤLY2には、メモリセルトランジスタMT0のゲート電極MGに接続されたヴィアプラグVP1が形成されている。このヴィアプラグVP1は、例えばタングステン(W)などの配線材料がバリアメタルなどを介して構成されている。
ヴィアプラグVP1の上面上のレイヤLY3には配線層13が構成されている。図5に示すY方向の断面内において、配線層13は、ヴィアプラグVP1の幅およびメモリセルトランジスタMT0のゲート電極MGよりも幅広に構成されている。ソース線コンタクトCS1の上面上のレイヤLY3には配線層14が構成されている。この配線層14は、配線層13と同一材料によって構成されている。
これらのヴィアプラグVP1および配線層13は、後述するように、隣り合うブロックBj、Bj+1間におけるワード線WL(WL0〜WLm−1)のうち同一番号のワード線WL(WL0〜WLm−1)を構造的および電気的に接続するために設けられている。
なお、配線層13はメモリセルトランジスタMT0のゲート電極MGのみならず、ゲート電極MGの1個おきにメモリセルトランジスタMT2、MT4、・・・MTm−2のゲート電極MGの上方のレイヤLY3にも形成されている。メモリセルトランジスタMT2、MT4、・・・MTm−2のゲート電極MGに対応した配線層13は図5に対して奥行方向にずれた位置でヴィアプラグVP2を介して対応するゲート電極MGに接続されている。
配線層13、14上のレイヤLY4には層間絶縁膜12bが形成され、この層間絶縁膜12b上のレイヤLY5にビット線BLが形成されている。このビット線BLは選択ゲート電極SGD間に構成されたビット線コンタクトCB(図3参照)を介して選択ゲート電極SGDのドレイン領域に接続されている。
配線層13はそれぞれ、後述するソースシャント領域において、レイヤLY7に設けられた上層配線層に接続されている。また、配線層14はソースシャント領域に設けられたコンタクトを介して上層ソース線に接続されている。
以下、ワード線の配線接続関係について説明する。図6は、ヴィアプラグVP1および配線層13、14の形成領域であるレイヤLY2、LY3の平面構造をメモリセル端部領域において模式的に示している。メモリセル領域M内において、実際にセルユニットUCが構成されるセルアレイ領域R1と、当該セルアレイ領域R1のゲート電極の構造周期性を確保するためのダミー領域R2とが、図6中X方向(ワード線延出方向)に区分されている。このダミー領域R2はリソグラフィ処理のマージンを確保しゲート電極構造などを周期性良く形成するために設けられている。
ダミー領域R2内では、セルユニットUCのゲート電極MG、SGD、SGS等の構造が設けられるものの、これらは実質的なメモリセルユニットの電気的要素としては機能しておらず、ダミーセルユニットとして構成されている。図6は、このメモリセル領域Mの端部のダミー領域R2内において、ソース線コンタクトCSのダミー形成領域(以下、ダミーコンタクト領域と称する)CSDの上方を渡って各ブロックBj、Bj+1間のワード線WLを構造的および電気的に接続した形態を示している。尚、セルアレイ領域R1とダミー領域R2との境界位置は図6に示す位置には限られない。
図5において説明したヴィアプラグVP1、配線層13、14の形成領域であるレイヤLY2、LY3内では、図6に示すように、配線層14がソース線コンタクトCS(CS1)の平面形成領域を包含するように構成されている。また、配線層13の連結部13aが、ダミー領域R2において、隣り合うブロックBj、Bj+1間の各ワード線WL(WL0〜WLm−1)をそれぞれ構造的および電気的に接続するように構成されている。
図6に示すように、ダミー領域R2において、各配線層13(MA0〜MAm−1)の連結部13aは、それぞれX方向に離間し、ダミーコンタクト領域CSDを跨いでY方向に沿って直線状に形成されている。この直線状構造の両端部においてヴィアプラグVP1が基板面と垂直方向に延設され、各配線層13(MA0〜MAm−1)と隣り合うブロックBj、Bj+1の同一番号のワード線WL(WL0〜WLm−1:制御ゲート電極CG)とがそれぞれ電気的に接続されている。
ブロックBj内では、配線層MA0は、ダミー領域R2内においてY方向に延びる直線状構造の一方の端部であるヴィアプラグVP1の形成領域からセルアレイ領域R1内に向かうようにX方向に直角に屈曲し、ワード線WL0の形成領域の上方に渡って形成された延伸部13bを有する。
同様に、その他の偶数番の配線層MA2…は、ブロックBj内において当該ダミー領域R2内のヴィアプラグVP1の形成領域からセルアレイ領域R1内に向かうようにそれぞれ対応する偶数番のワード線WL2…の直上方を渡ってX方向に延伸して形成された延伸部13bを有する。
図6に示すように、配線層MA1は、ブロックBj+1内においてダミー領域R2内のヴィアプラグVP1の形成領域からセルアレイ領域R1内に向かうようにワード線WL1の直上方を渡ってX方向に延伸する延伸部を有する。
図6に示すように、配線層MA1は、ブロックBj+1内においてダミー領域R2内のヴィアプラグVP1の形成領域からセルアレイ領域R1内に向かうようにワード線WL1の直上方を渡ってX方向に延伸する延伸部を有する。
同様に、その他の奇数番の配線層MA3…は、ブロックBj+1内においてダミー領域R2内のヴィアプラグVP1の形成領域からセルアレイ領域R1内に向かうように奇数番のワード線WL3…の直上方を渡ってX方向に延伸する延伸部を有する。
尚、これら配線層13(MA0〜MAm−1)の延伸部のY方向幅は、先に述べたように、ワード線WL(WL0〜WLm−1)の各Y方向幅に比較して幅広(例えば2倍)に形成されている。
偶数番の配線層MA0…が同一のブロックBj内をX方向に延伸すると共に、奇数番の配線層MA1…が同一のブロックBj+1内をX方向に延伸し、配線層13のY方向の配線幅がワード線WLのY方向幅に比較して幅広に構成されることで、奇数番および偶数番の配線層MA0…のデザインルールを幅広(例えば2倍)のピッチに緩和することができる。また、配線層13を幅広にすることで、リソグラフィ処理のY方向の合わせずれが生じたとしても、各配線層13がヴィアプラグVP1に確実に接触できる。これにより、配線間接続の信頼性を向上できる。
配線層13(MA0〜MAm−1)はそれぞれ対応した同一番号のワード線WL(WL0〜WLm−1)の上方を渡ってX方向に沿って形成されている。セルアレイ領域R1内において、ワード線WL(WL0〜WLm−1)は、X方向に周期的に設けられたヴィアプラグVP1により構造的および電気的に対応する配線層13に接続するように構成されている。
配線層13のX方向配線長が長い場合には配線層13の抵抗値が大きくなってしまい特にメモリセル領域Mの端部では半導体構造内の浮遊容量を考慮すると信号の伝搬遅延が生じてしまう。セルアレイ領域R1内において、周期的にワード線WLと配線層13とで接続することで、配線層13のインピーダンスを低下でき、一本のワード線WL(WL0〜WLm−1)の全体電位の均一化を図ることができる。尚、ワード線WLと配線層13との接続位置は厳密に同一周期に形成されている必要はない。
次に、ソースシャント領域における配線層13のスイッチ構造について説明する。
図7は、メモリセル領域のソースシャント領域(中間領域)におけるヴィアプラグVP2および配線層15の形成領域であるレイヤLY4〜LY7の平面構造を模式的に示しており、図8は図7中のC−C線に沿って示す縦断面図を示している。尚、この図7において、レイヤLY7に構成される配線層15については図中にハッチングを施して示している。このメモリセル領域Mの中間領域R3内およびその周辺領域は、例えばソース線CSLの電位をXY方向に周期的に同一電位に設定するための領域として設けられており、当該領域R3内に構成されたゲート電極MG、SGD、SGS等の電気的構成はメモリセルユニットの電気的要素としては機能しないダミーセルとして設けられている。
図7は、メモリセル領域のソースシャント領域(中間領域)におけるヴィアプラグVP2および配線層15の形成領域であるレイヤLY4〜LY7の平面構造を模式的に示しており、図8は図7中のC−C線に沿って示す縦断面図を示している。尚、この図7において、レイヤLY7に構成される配線層15については図中にハッチングを施して示している。このメモリセル領域Mの中間領域R3内およびその周辺領域は、例えばソース線CSLの電位をXY方向に周期的に同一電位に設定するための領域として設けられており、当該領域R3内に構成されたゲート電極MG、SGD、SGS等の電気的構成はメモリセルユニットの電気的要素としては機能しないダミーセルとして設けられている。
図7に示すように、配線層13(MA0〜MAm−1)はY方向に延伸して構成されており、当該配線層13の端部は、領域R3およびその周辺領域にて分断されている。この図7に示す領域内においては、偶数番の配線層MA0…は、一方の領域R1においてブロックBj内に形成され、この形成領域から中間領域R3を跨いだ他方の領域R1内においては配線層MB0…を介して隣りのブロックBj+1内に構成されている。奇数番の配線層MA1…は、一方のセルアレイ領域R1においてブロックBj+1内に形成され、この形成領域から中間領域R3を跨いだ他方のセルアレイ領域R1内においては配線層MB1…を介して隣りのブロックBj内に構成されている。すなわち、これらの配線層13は、中間領域R3を跨いで、隣り合うブロックBj、Bj+1間においてスイッチするように構成されている。
このようにしてスイッチする形態を適用すると、ワード線WLの抵抗低減効果がさらに高まる。しかも、チップサイズが大きくなるという副作用を生じることなく構成できる。
図7および図8に示すように、ブロックBj内の配線層MA0は中間領域R3まで延出し、その端部にレイヤLY4に形成されたヴィアプラグVP2が接続されている。ヴィアプラグVP2はレイヤLY5に形成された配線層16およびレイヤLY6に形成されたヴィアプラグVP3を介してレイヤLY7に形成された配線層MB0に接続されている。配線層MB0は図7中Y方向(アクティブエリア延出方向)に直線状にブロックBj+1に延出し、レイヤLY6に形成されたヴィアプラグ、レイヤLY5に形成された配線層、レイヤLY4に形成されたヴィアプラグを介してブロックBj+1内の配線層MA0の端部に接続されている。
図7および図8に示すように、ブロックBj内の配線層MA0は中間領域R3まで延出し、その端部にレイヤLY4に形成されたヴィアプラグVP2が接続されている。ヴィアプラグVP2はレイヤLY5に形成された配線層16およびレイヤLY6に形成されたヴィアプラグVP3を介してレイヤLY7に形成された配線層MB0に接続されている。配線層MB0は図7中Y方向(アクティブエリア延出方向)に直線状にブロックBj+1に延出し、レイヤLY6に形成されたヴィアプラグ、レイヤLY5に形成された配線層、レイヤLY4に形成されたヴィアプラグを介してブロックBj+1内の配線層MA0の端部に接続されている。
配線層MA1…も同様にヴィアプラグVP2、配線層16、ヴィアプラグVP3を介して配線層MB1…に接続され、隣り合うブロックBj、Bj+1間においてスイッチするように構成されている。なお、各配線層15はお互い交差しないよう配線層MB0を中心にL字形状に配置されている。
また、配線層MB0…は、配線層MA0…に比較して幅広(例えば2倍または3倍)に設定されており、リソグラフィ処理の合わせずれの緩和、ワード線WLの抵抗値の低減効果を奏している。
また、配線層MB0…は、配線層MA0…に比較して幅広(例えば2倍または3倍)に設定されており、リソグラフィ処理の合わせずれの緩和、ワード線WLの抵抗値の低減効果を奏している。
図9はメモリセルアレイArから周辺回路領域Pにかけての配線層MA0の配線パターンを示している。
図8に示すように、配線層MA0は図中X方向に隣り合うセルアレイ領域R1で互い違いに配置され、電位印加部Kを介して周辺回路領域Pの周辺回路に接続されている。また、ブロックBjおよびBj+1のワード線WL0は、ダミー領域R2においてヴィアプラグVP1および図9中Y方向に延出した配線層MA0によって構造的に接続して構成され、中間領域R3においてヴィアプラグVP2、配線層MB0によって構造的に接続して構成されている。
図8に示すように、配線層MA0は図中X方向に隣り合うセルアレイ領域R1で互い違いに配置され、電位印加部Kを介して周辺回路領域Pの周辺回路に接続されている。また、ブロックBjおよびBj+1のワード線WL0は、ダミー領域R2においてヴィアプラグVP1および図9中Y方向に延出した配線層MA0によって構造的に接続して構成され、中間領域R3においてヴィアプラグVP2、配線層MB0によって構造的に接続して構成されている。
図10は、周辺回路が書込対象となるメモリセルユニットのワード線に書込電圧を印加する場合に各ブロックにおいてワード線に印加される電圧を模式的に示している。特に図10(a)は、通常の従来のワード線構造を適用した場合の各ブロックにおける書込対象ワード線に対する電位印加状態を示しており、図10(b)は、本実施形態のワード線構造を適用した場合の各ブロックにおける書込対象ワード線に対する電位印加状態を示している。
図10(a)に示すように、周辺回路は、書込対象となるセルユニットUCのビット線BL(BL0〜BLn−1)にグランド電位(0V)を印加し、ドレイン側の選択ゲート電極SGDをオンし、ソース側の選択ゲート電極SGSをオフし、書込対象となるワード線WLの電位印加部Kに書込電位Vpgm(例えば、20V)を印加すると共に非書込対象となるワード線WLの電位印加部Kにグランド(0V)または中間電位を印加し、さらにpウェル2bにグランド電位を印加することで、書込対象となるメモリセルに通ずるワード線WL(WL0〜WLm−1)およびpウェル2b間に正の高電圧をかける。これにより、電子が浮遊ゲート電極FGに注入されることになりメモリセルトランジスタMT(MT0〜MTm−1)にデータを書き込むことができる。
本実施形態では、図10(b)に示すように、周辺回路が、隣り合うブロックBj−Bj+1について一方の書込対象ワード線WLに高電位(例えば20V)を印加すると、他方の同一番号のワード線WLにも高電位が印加されるが、例えば図10(b)に示すようにドレイン側の選択ゲート電極SGDが隣り合うブロック間で共通接続されていると共にソース側の選択ゲート電極SGSが隣り合うブロック間で別個に形成されている場合などには、書込非対象のブロックBjについての他の電気的構成(特に書込非対象ブロックの選択ゲートトランジスタSTDをオフ、選択ゲート電極SGS、ウェル2bなど)の電位を調整して印加すれば、隣りのブロックBjのメモリセルトランジスタMTにデータが書き込まれる虞をなくすことができる。
まとめると、本実施形態によれば次に示す特徴を備えている。隣り合うブロックBj−Bj+1はY方向に並設されているが、これらの各ブロックBj、Bj+1内に構成される各ワード線WL(WL0〜WLm−1)は、その番号がソース線コンタクトCSの並設群(ブロックBj、Bj+1の中間線状の電気的導電要素)を挟んでY方向対称で同一番号に設定されており、これらの隣り合うブロックBj、Bj+1の同一番号のワード線WL(WL0〜WLm−1)が、電位印加部Kとは異なる位置において上層の複数層(本実施形態ではレイヤLY3〜LY5)の積層構造によって互いに構造的および電気的に接続されている。これにより、各ワード線WL(WL0〜WLm−1)の抵抗値を低減することができ、信号遅延に伴う書込特性の悪化を防ぐことができる。
ワード線WL(WL0〜WLm−1)は、その周辺回路の電位印加部Kがメモリセル領域M内の一端側(図9に示すメモリセル領域M内の最左端の周辺回路領域P側)に設定されているが、その逆側の他端側(図9の最右端)の領域R2およびその周辺領域において配線層MA0…が各ブロックBj、Bj+1の同一番号のワード線WL(WL0〜WLm−1)をそれぞれ構造的に接続しているため、各ワード線WL(WL0〜WLm−1)の抵抗値を低減することができ、特に信号遅延が顕著となるワード線WLの他端側(図9の最右端の領域R2側)において構造的に接続されているため信号遅延に伴う書込特性の悪化を防ぐことができる。
レイヤLY3内に構成された配線層MA0…は、レイヤLY1内に構成された各ワード線WL(WL0〜WLm−1)のY方向幅よりも広いY方向幅(例えば2倍程度)で形成されており、ヴィアプラグVP1を介して同一番号の各配線が互いに接続されている。これにより、各ワード線WL(WL0〜WLm−1)の抵抗値を低減することができ、信号遅延に伴う書込特性の悪化を防ぐことができる。
さらに、配線層MA0…は、少なくとも領域R1内の一部において同一番号のワード線WL(WL0〜WLm−1)の直上方を渡って配設されており、偶数番の配線層MA0…は、単一のブロックBj内において同一の偶数番のワード線WL(WL0…)の直上方を渡って延伸されていると共に、奇数番の配線層MA1…は、単一のブロックBj+1内において同一の奇数番のワード線WL(WL1…)の直上方を渡って延伸されているため、幅広の配線層MA0…が対応するワード線WL(WL0〜WLm−1)に対してX方向に周期的に且つ容易に接続できるように形成できる。しかも、偶数番と奇数番の配線層MA0…が互いに構造的に接触する不良を防止できる。
また、偶数番の配線層MA0…と奇数番の配線層MA1…とが、ワード線WL(WL0〜WLm−1)のX方向の延設長に比較して短い間隔毎に設定された中間領域R3およびその周辺領域にて隣り合うブロックBj−Bj+1間で入れ替わって構成され、レイヤLY7の配線層MB0…は、これらの偶数番、奇数番の配線層MA0…をその上層のレイヤLY7において構造的および電気的に接続して構成されている。さらに、配線層MB0…は、配線層MA0…よりもY方向幅が幅広に構成されている。これにより、電位の均一化を図ることができる。また、各ワード線WL(WL0〜WLm−1)の抵抗値を低減でき、ワード線WL(WL0〜WLm−1)の電位降下を防ぐことができ、信号遅延に伴う書込特性の悪化を防ぐことができる。
ブロックBj−Bj+1間において、同一番号のワード線WL(WL0〜WLm−1)が、例えば領域R2内にてソース線コンタクトCSのダミー形成領域CSDを平面的に跨いで接続して構成されているため、書込電位を正常に印加することができる。
(他の実施形態)
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下に示す変形または拡張が可能である。
各ワード線WL(WL0〜WLm−1)が、その上層の複数層LY3〜LY5の積層構造の電気的導電要素によって構造的および電気的に接続された実施形態を示したが、上層または下層の単一層に構成された電気的導電要素によって構造的および電気的に接続されている形態に適用しても良い。
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下に示す変形または拡張が可能である。
各ワード線WL(WL0〜WLm−1)が、その上層の複数層LY3〜LY5の積層構造の電気的導電要素によって構造的および電気的に接続された実施形態を示したが、上層または下層の単一層に構成された電気的導電要素によって構造的および電気的に接続されている形態に適用しても良い。
各ワード線WL(WL0〜WLm−1)が中間領域R3、ダミー領域R2の双方で構造的および電気的に接続されている実施形態を示したが、電位印加部Kとは異なる位置で構造的に接続されていれば何れの一方の領域で形成されていても良い。中間領域R3、ダミー領域R3の双方で構造的に接続されていれば抵抗低減効果は高い。
各ワード線WL(WL0〜WLm−1)が、ダミー領域R2内のダミー形成領域CSDを跨いで構造的に接続されている実施形態を示したが、ドレイン側のビット線コンタクトCBの形成領域を跨いで構造的に接続されていても良い。この場合、周辺回路が、選択ゲートトランジスタSTD、STSの各ゲート電極SGD、SGSに対して書込処理時に印加する電圧を調整すれば良いことは言うまでもない。
電位印加部KがメモリセルアレイArの図中X方向一端側にのみ形成されている実施形態を示したが、周辺回路がメモリセルアレイArの両脇に形成されており、メモリセルアレイArのX方向両端に電位印加部Kが設けられている構造であっても同様に適用できる。
メモリセルアレイArが、単一のプレーン構成であるものに適用した実施形態を示したが、メモリセルアレイArが2つ以上のプレーンに分割されていても良い。ワード線WLの長さが前述実施形態に比較して短くなったとしても、近年の設計ルールの縮小化に伴いワード線WLの幅が短くなれば配線抵抗も大きくなるため前述実施形態に示すようなワード線WLの構造を適用すれば配線抵抗値の低減に寄与できることは言うまでもない。
フラッシュメモリ装置1に適用した実施形態を示したが、所定方向にワード線WLが延設された構造を具備したその他の種類の半導体装置に適用できる。
フラッシュメモリ装置1に適用した実施形態を示したが、所定方向にワード線WLが延設された構造を具備したその他の種類の半導体装置に適用できる。
図面中、1はフラッシュメモリ装置(半導体装置)、B1〜Bj、Bj+1〜Bzはブロック、WL(WL0〜WLm−1)はワード線(ワード線群)、Kは電位印加部、LY1〜LY5はレイヤ(層)、13〜15は配線層、BL(BL0〜BLn+1)はビット線、CSはソース線コンタクトを示す。
Claims (5)
- それぞれ所定方向に延伸すると共に前記所定方向に交差する交差方向に並設された第1ないし第Nのワード線(N≧2)であって、互いに同一の第1幅により形成されると共に、互いに同一の第1層に形成されたワード線をワード線群としてそれぞれ具備し、前記交差方向に隣接して配置された第1および第2のブロックであって、ブロック間の領域を挟んで前記第1ないし第Nのワード線が対称的に配設された状態で前記交差方向に併設された第1および第2のブロックを備え、
前記第1層よりも上層に、前記第1幅よりも広い第2幅を有する配線層が形成され、
前記第1および第2のブロックの第kのワード線(k=1〜Nのうち少なくとも何れか1つ)が前記配線層で互いに構造的に接続して構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記配線層は、前記ワード線に対応して前記ワード線の直上に配置され、前記所定方向に延伸する延伸部を有し、
前記ワード線のうち偶数番目のワード線に対応する延伸部は前記第1のブロックに設けられ、前記ワード線のうち奇数番目のワード線に対応する延伸部が前記第2のブロックに設けられたことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 - 前記第1および第2のブロックはそれぞれ中間領域によりメモリセルアレイ領域が第1のセルアレイ領域および第2のセルアレイ領域に分割されており、
前記第1のブロックの前記第1のセルアレイ領域に設けられた前記偶数番目のワード線に対応する延伸部は前記中間領域に設けられた配線層を介して前記第2のブロックの前記第2のセルアレイ領域に設けられた延伸部に接続され、
前記第2のブロックの前記第1のセルアレイ領域に設けられた前記奇数番目のワード線に対応する延伸部は前記中間領域に設けられた配線層を介して前記第1のブロックの前記第2のセルアレイ領域に設けられた延伸部に接続されたことを特徴とする請求項2記載の半導体装置。 - 前記第1および第2のブロックには、それぞれ前記ワード線より上方で、前記交差方向に延出するビット線が設けられ、前記延伸部は前記ビット線と前記ワード線の間に配置され、前記中間領域に配置された配線層は前記ビット線より上方に配置されたことを特徴とする請求項3記載の半導体装置。
- 前記配線層は、前記第1および第2のブロックの端部において、前記第1のブロックの第kのワード線上から前記第2のブロックの第kのワード線上にわたって前記交差方向に伸びる連結部を有し、前記第1および第2のブロックの第kのワード線と前記連結部との間には、前記第1および第2のブロックの第kのワード線と前記連結部とを電気的に接続するヴィアプラグが設けられたことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008136566A JP2009283825A (ja) | 2008-05-26 | 2008-05-26 | 半導体装置 |
US12/472,004 US7983083B2 (en) | 2008-05-26 | 2009-05-26 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008136566A JP2009283825A (ja) | 2008-05-26 | 2008-05-26 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009283825A true JP2009283825A (ja) | 2009-12-03 |
Family
ID=41342014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008136566A Pending JP2009283825A (ja) | 2008-05-26 | 2008-05-26 | 半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7983083B2 (ja) |
JP (1) | JP2009283825A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8716779B2 (en) * | 2009-07-30 | 2014-05-06 | Hynix Semiconductor Inc. | Flash memory device and mask for fabricating the same |
JP5431189B2 (ja) * | 2010-01-29 | 2014-03-05 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
KR20130022227A (ko) * | 2011-08-25 | 2013-03-06 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000307075A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-11-02 | Fujitsu Ltd | 半導体集積回路装置 |
JP2002151601A (ja) * | 2000-11-08 | 2002-05-24 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP2004103770A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3433808B2 (ja) | 1992-08-05 | 2003-08-04 | 株式会社日立製作所 | 半導体集積回路装置 |
JP3411129B2 (ja) | 1995-07-03 | 2003-05-26 | 沖電気工業株式会社 | 半導体メモリ |
JP2821393B2 (ja) | 1995-07-28 | 1998-11-05 | 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 | 半導体メモリ回路 |
JP2000183307A (ja) | 1998-12-15 | 2000-06-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体記憶装置 |
US7495294B2 (en) * | 2005-12-21 | 2009-02-24 | Sandisk Corporation | Flash devices with shared word lines |
JP2008047904A (ja) | 2007-08-10 | 2008-02-28 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
-
2008
- 2008-05-26 JP JP2008136566A patent/JP2009283825A/ja active Pending
-
2009
- 2009-05-26 US US12/472,004 patent/US7983083B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000307075A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-11-02 | Fujitsu Ltd | 半導体集積回路装置 |
JP2002151601A (ja) * | 2000-11-08 | 2002-05-24 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP2004103770A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090290403A1 (en) | 2009-11-26 |
US7983083B2 (en) | 2011-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10832776B2 (en) | Semiconductor device and semiconductor memory device | |
KR101169396B1 (ko) | 비휘발성 메모리 소자 및 그 동작 방법 | |
JP4504402B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
US20210118861A1 (en) | Nonvolatile memory device. | |
US11812609B2 (en) | Three-dimensional semiconductor device having a first main separation structure and a second main separation structure on a lower structure | |
US10608001B2 (en) | Nonvolatile memory devices having a lateral coupling structure and a single layer gate | |
KR100871183B1 (ko) | 반도체 집적 회로 장치 | |
JP5801341B2 (ja) | 半導体メモリ | |
JP2009283825A (ja) | 半導体装置 | |
KR100855579B1 (ko) | 반도체 메모리 장치 및 그 형성 방법 | |
JP2003051557A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
US8519467B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2009164349A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法 | |
KR20080082353A (ko) | 비휘발성 기억 장치 | |
KR20110001060A (ko) | 불휘발성 메모리 소자 및 그 제조방법 | |
JP2008205040A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US8390076B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
KR100486238B1 (ko) | 노어형 플래쉬 메모리소자의 셀 어레이부 | |
KR20080032693A (ko) | 불 휘발성 메모리 소자 | |
JP2011054886A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法 | |
JP2010165788A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
KR20100106770A (ko) | 반도체 소자 | |
KR20070056501A (ko) | 노아형 플레쉬 메모리 장치 | |
KR19980014258A (ko) | 메모리 셀 어레이 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100915 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121218 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121220 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130709 |