JP2009258585A5

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Publication number: JP2009258585A5
Application number: JP2008200247A
Authority: JP
Filing date: 2008-08-01
Publication date: 2011-06-23
Anticipated expiration: 2028-08-01

Description

本発明は、下記の構成であり、これにより本発明の上記目的が達成される。
＜１＞（ア）（Ａ）一般式（Ｉ−ａ）で表される酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含有するネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、
（イ）露光工程、
（エ）前記ネガ型現像液を用いて現像する工程
を含むパターン形成方法。

一般式（Ｉ−ａ）において、
Ｘａ _１は水素原子、アルキル基、シアノ基、又はハロゲン原子を表す。
Ａは、単結合又は２価の連結基を表す。
Ｘｐ ₁ は、酸素原子又はメチレン基を表す。
Ｒｘｐ ₁ は、アルキル基を表す。
Ｒｘｐ ₂ 〜Ｒｘｐ ₅ は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒｘｐ ₂ 〜Ｒｘｐ ₅ のいずれかが互いに結合して環構造を形成しても良い。
＜２＞更に、（ウ）アルカリ現像液であるポジ型現像液を用いて現像する工程を含む上記＜１＞に記載のパターン形成方法。
＜３＞前記ネガ型現像液を用いた現像の後、前記ポジ型現像液を用いて現像する上記＜２＞に記載のパターン形成方法。
＜４＞前記ネガ型現像液が、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤及びエーテル系溶剤からなる群より選択される少なくとも１種類の有機溶剤を含有する上記＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
＜５＞前記ネガ型現像液が、下記一般式（１）で表される溶剤を含有する上記＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載のパターン形成方法。

一般式（１）に於いて、
Ｒ及びＲ’は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。Ｒ及びＲ’は、互いに結合して環を形成してもよい。
＜６＞前記ネガ型現像液が、酢酸アルキルを含有する上記＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
＜７＞前記ネガ型現像液が、酢酸ブチルを含有する上記＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
＜８＞前記ネガ型現像液中の、全溶剤の総質量に占めるハロゲン原子を含まない有機溶剤の含有量が６０質量％以上である上記＜１＞〜＜７＞のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
＜９＞前記ネガ型現像液を用いた現像の後に、有機溶剤を含むリンス液を用いて洗浄する上記＜１＞〜＜８＞のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
＜１０＞前記リンス液が、炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤及びエーテル系溶剤からなる群より選択される少なくとも１種類の有機溶剤を含有する上記＜９＞に記載のパターン形成方法。
＜１１＞前記リンス液が、アルコール系溶剤を含有する上記＜１０＞に記載のパターン形成方法。
＜１２＞前記リンス液が、炭素数６〜８の直鎖状、分岐状又は環状の１価のアルコール系溶剤を含有する上記＜１１＞に記載のパターン形成方法。
＜１３＞前記リンス液の含水率が３０質量％以下である上記＜９＞〜＜１２＞のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
本発明は、上記＜１＞〜＜１３＞に記載の構成を有するものであるが、以下、他の事項も含めて記載している。

Claims

（ア）（Ａ）一般式（Ｉ−ａ）で表される酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含有するネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、
（イ）露光工程、
（エ）前記ネガ型現像液を用いて現像する工程
を含むパターン形成方法。

一般式（Ｉ−ａ）において、
Ｘａ_１は水素原子、アルキル基、シアノ基、又はハロゲン原子を表す。
Ａは、単結合又は２価の連結基を表す。
Ｘｐ₁は、酸素原子又はメチレン基を表す。
Ｒｘｐ₁は、アルキル基を表す。
Ｒｘｐ₂〜Ｒｘｐ₅は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒｘｐ₂〜Ｒｘｐ₅のいずれかが互いに結合して環構造を形成しても良い。
更に、（ウ）アルカリ現像液であるポジ型現像液を用いて現像する工程を含む請求項１に記載のパターン形成方法。
前記ネガ型現像液を用いた現像の後、前記ポジ型現像液を用いて現像する請求項２に記載のパターン形成方法。
前記ネガ型現像液が、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤及びエーテル系溶剤からなる群より選択される少なくとも１種類の有機溶剤を含有する請求項１〜３のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
前記ネガ型現像液が、下記一般式（１）で表される溶剤を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載のパターン形成方法。

一般式（１）に於いて、
Ｒ及びＲ’は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。Ｒ及びＲ’は、互いに結合して環を形成してもよい。
前記ネガ型現像液が、酢酸アルキルを含有する請求項１〜５のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
前記ネガ型現像液が、酢酸ブチルを含有する請求項１〜６のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
前記ネガ型現像液中の、全溶剤の総質量に占めるハロゲン原子を含まない有機溶剤の含有量が６０質量％以上である請求項１〜７のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
前記ネガ型現像液を用いた現像の後に、有機溶剤を含むリンス液を用いて洗浄する請求項１〜８のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
前記リンス液が、炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤及びエーテル系溶剤からなる群より選択される少なくとも１種類の有機溶剤を含有する請求項９に記載のパターン形成方法。
前記リンス液が、アルコール系溶剤を含有する請求項１０に記載のパターン形成方法。
前記リンス液が、炭素数６〜８の直鎖状、分岐状又は環状の１価のアルコール系溶剤を含有する請求項１１に記載のパターン形成方法。
前記リンス液の含水率が３０質量％以下である請求項９〜１２のいずれか一項に記載のパターン形成方法。