JP2009231217A - 直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体、直接メタノール型燃料電池およびガス拡散層用樹脂ペースト。 - Google Patents
直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体、直接メタノール型燃料電池およびガス拡散層用樹脂ペースト。 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】カソード側のガス拡散層が、下記構造単位を有する水酸基含有含フッ素重合体を含む。
[式(1)中、R1はフッ素原子、フルオロアルキル基又は−OR2で表される基(R2はアルキル基又はフルオロアルキル基を示す)を示す。式(2)中、R3は水素原子又はメチル基を、R4はアルキル基、−(CH2)x−OR5若しくは−OCOR5で表される基(R5はアルキル基又はグリシジル基を、xは0又は1の数を示す)、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を示す。式(3)中、R6は水素原子又はメチル基を、R7は水素原子又はヒドロキシアルキル基を、vは0又は1の数を示す。]
【選択図】なし
Description
CH3OH + H2O ( CO2 + 6H+ + 6e-
のような電気化学反応を起こし、プロトンがイオン交換樹脂膜を通り、電子が外部回路を通り仕事をし、カソード触媒層で
O2 + 4H+ + 4e- ( 2H2O
の電気化学反応で酸素と結合し水を生成する。
ここで、燃料電池で高出力を得るためには、上記の反応を効率よく行う必要がある。触媒層への反応物質の供給と触媒層からの生成物の排出、および触媒層、セパレーター間の電子伝導を効率よく行う方法として、例えばポリテトラフルオロエチレンで撥水処理を施したカーボンペーパーやその上にポリテトラフルオロエチレンとカーボン粉末から構成される微多孔層を積層したガス拡散層を備える技術が広く知られている。しかしながら、ポリテトラフルオロエチレンは化学的安定性、撥水性にすぐれる一方で他の物質との親和性が低いため、起動停止や保存環境など、膜電極接合体が置かれる環境変化が重なると、ガス拡散層が剥離し燃料電池の性能低下を引き起こすという問題があった。特に非パーフルオロポリマー電極電解質のような軟化点が分解温度と近い場合は、触媒層とガス拡散層間に十分な接着が得られるほど熱圧着時の温度を上げられないという問題があった。
[1]イオン交換樹脂膜と、触媒層と、ガス拡散層とを備えた膜電極接合体において、カソ
ード側のガス拡散層が、下記構造単位(a)、(b)及び(c)を有する水酸基含有含フッ素重合体(A)を含む、直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
(b)下記式(2)で表される構造単位。
(c)下記式(3)で表される構造単位。
はアルキル基又はフルオロアルキル基を示す)を示す]
1の数を示す)、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を示す]
[2]ガス拡散層が、電極層に接する微多孔層と該微多孔層に接する多孔性基材層からなり
、微多孔層が前記含フッ素ポリマー(A)を含む、[1]の直接メタノール型燃料電池用膜
電極接合体。
[3]微多孔層および多孔性基材層が含フッ素ポリマー(A)を含む、[2]の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
[4]ガス拡散層が、水酸基を有しない含フッ素重合体(B)を含む、[1]〜[3]の直接メタ
ノール型燃料電池用膜電極接合体。
[5]カソード側およびアノード側のガス拡散層が、水酸基含有含フッ素重合体(A)を含
む、[1]〜[4]の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
[6]水酸基含有含フッ素重合体(A)のガラス転移温度が30℃〜160℃である[1]〜[5]の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
[7]水酸基含有含フッ素重合体(A)がメタノール、および水に不溶である[1]〜[6]の直
接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
[8]アノード側およびカソード側の触媒層のうち少なくとも一方が、下記一般式(C−1
)、(C−2)、(C−3)および(C−4)で表される構成単位から選ばれる少なくとも1つの構成単位(C)ならびに下記一般式(D−1)および(D−2)で表される構成単位から選ばれる少なくとも1つの含フッ素構成単位(D)を有するスルホン化ポリアリーレンを含むことを特徴とする、[1]〜[7]の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
は−C(CF3)2−からなる群より選ばれた少なくとも1種の原子または基を示し、Jは単結合、−O−、−S−、−CH2−、CO−、−SO2−、−(CF2)p−(ここで、pは1〜10の整数である)、−C(CH3)2−、または−C(CF3)2−からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を示す。)
選ばれた少なくとも1種の原子または基を示し、Qは単結合、−O−、−S−、−CH2
−、−CO−、−SO2−、−(CF2)p−(ここで、pは1〜10の整数である)、−
C(CH3)2−、または−C(CF3)2−からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を示す。これらの置換基、結合基のうち少なくとも1つ以上のフッ素原子もしくはフッ素を含有する基を含む。)
[9][1]〜[8]の膜電極接合体を有する、直接メタノール型燃料電池。
[10]下記構造単位(a)、(b)及び(c)を有する水酸基含有含フッ素重合体(A)を含む、直接メタノール型燃料電池のガス拡散層用樹脂ペースト。
(b)下記式(2)で表される構造単位。
(c)下記式(3)で表される構造単位。
はアルキル基又はフルオロアルキル基を示す)を示す]
1の数を示す)、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を示す]
[膜電極接合体]
本願発明の膜電極接合体は、イオン交換樹脂膜と、触媒層と、ガス拡散層とを備えている。典型的には、イオン交換樹脂膜を挟んで一方にはカソード電極用の触媒層と他方にはアノード電極用の触媒層が設けられており、さらにカソード側およびアノード側の各触媒層のイオン交換樹脂膜と反対側に接して、カソード側およびアノード側にそれぞれガス拡散層が設けられている。以下、ガス拡散層、触媒層およびイオン交換樹脂膜についてそれぞれ説明する。
[ガス拡散層]
ガス拡散層は、多孔性基材又は多孔性基材と微多孔層の積層構造体からなる。ガス拡散層が多孔性基材と微多孔層の積層構造体からなる場合には、微多孔層が触媒層に接して設けられる。カソード側のガス拡散層は、撥水性を付与するために水酸基含有含フッ素重合体(A)を含んでいる必要があり、カソード側およびアノード側のガス拡散層が水酸基含有含フッ素重合体(A)を含んでいることが好ましい。ガス拡散層が多孔性基材と微多孔層の積層構造体からなる場合には、微多孔層と多孔質基材のいずれかの層又は両方の層が水酸基含有含フッ素重合体(A)を含んでおり、好ましくは微多孔層が、水酸基含有含フッ素重合体(A)を含んでいる。
(1)微多孔層
微多孔層は、炭素粉末と、撥水剤として水酸基含有含フッ素重合体(A)を含んでいる。また、これら成分に加えて、水酸基を有しない含フッ素重合体(B)を含むことができる。微多孔層は、炭素粉末等を溶媒に分散した微多孔層形成用ペーストを用いて形成される。
成しにくくて反応物の拡散が容易に行われない。炭素粉末の含量が90%重量を超える場合には、炭素粉末の脱落が起こる可能性があって好ましくない。
.5〜10mg/cm2に存在することが好ましい。塗布量が上記範囲未満であると、多
孔性基材の影響を受け、微多孔層の平滑性が十分でなく、微多孔層形成の効果が得られない。一方、塗布量が上記範囲を超えると、アノード側であれば、燃料であるメタノール水溶液の透過性、アノード触媒で生成された二酸化炭素の排出性が低下し、カソード側であれば、空気(酸素)の透過性、排水性が低下し、発電性能が低下することがある。上記の理由から微多孔層が複数の層で構成される場合は各層の塗布量の総和が前記範囲であることが好ましい。
(1−1)炭素粉末
炭素粉末としては、カーボン粉、カーボン繊維、フラーレン、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、および、表面を炭素膜で被覆した炭化ケイ素ウイスカーなどが挙げられる。これらは、1種単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。
(1−2)水酸基含有含フッ素重合体(A)
水酸基含有含フッ素重合体 (A)は、下記構造単位(a)、(b)及び(c)を含ん
でなる。
(b)下記式(2)で表される構造単位。
(c)下記式(3)で表される構造単位。
はアルキル基又はフルオロアルキル基を示す)を示す]
1の数を示す)、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を示す]
(i)構造単位(a)
上記式(1)において、R1及びR2のフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロシクロヘキシル基等の炭素数1〜6のフルオロアルキル基が挙げられる。また、R2のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。
(ii)構造単位(b)
式(2)において、R4又はR5のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ラウリル基等の炭素数1〜12のアルキル基が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基
等が挙げられる。
のがさらに好ましい。
(iii)構造単位(c)
式(3)において、R7のヒドロキシアルキル基としては、2−ヒドロキシエチル基、
2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル基、6−ヒドロキシヘキシル基が挙げられる。
素結合が形成されないため、触媒層とガス拡散層間に十分な接着が得られないからである。一方、含有率が60モル%を超えると、ガス拡散層に十分な撥水性を付与できず、二酸化炭素、水などの発電生成物の滞留により電池性能が低下するからである。
(iv)構造単位(d)及び構造単位(e)
水酸基含有含フッ素重合体は、さらに下記構造単位(d)を含んで構成することも好ましい。
式(4)において、R8又はR9のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基が、ハロゲン化アルキル基としてはトリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基等の炭素数1〜4のフルオロアルキル基等が、アリール基としてはフェニル基、ベンジル基、ナフチル基等がそれぞれ挙げられる。
式(5)で表される化合物を用いた場合には、構造単位(d)は、構造単位(e)の一部として水酸基含有含フッ素重合体に含まれる。
式(5),(6)において、R10〜R13のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数1〜12のアルキル基が挙げられ、R14〜R17のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基が挙げられる。
尚、構造単位(d)の含有率を、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を100モル%としたときに、0.1〜10モル%とすることが好ましい。この理由は、含有率が0.1モル%未満になると、硬化後の塗膜の表面滑り性が低下し、塗膜の耐擦傷性が低下する場合があるためであり、一方、含有率が10モル%を超えると、水酸基含有含フッ素重合体の透明性に劣り、コート材として使用する際に、塗布時にハジキ等が発生し易くなる場合があるためである。
(v)分子量
水酸基含有含フッ素重合体は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで、テトラヒドロフランを溶剤として測定したポリスチレン換算数平均分子量が5,000〜500,000であることが好ましい。この理由は、数平均分子量が5,000未満になると、水酸基含有含フッ素重合体の機械的強度が低下し、微多孔層と触媒層の接合性が低下することがあり、一方、数平均分子量が500,000を超えると、水酸基含有含フッ素重合体溶液、あるいは水酸基含有含フッ素重合体含有微多孔層ペーストの粘度が高くなり、含浸、あるいは塗工が困難となる場合があるためである。
(1−3)その他の含フッ素重合体(B)
微多孔質は、水酸基含有含フッ素重合体(A)に加えて、水酸基を有しない含フッ素重合体(B)を含んでいてもよい。水酸基を有しない含フッ素重合体(B)は、水酸基含有含フッ素重合体(A)と同様に多孔性基材に撥水性を付与する。水酸基を有しない含フッ素重合体(B)の具体例としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリパーフルオロアルキルビニルエーテル、ポリパーフルオロスルホニルフロライド、アルコキシビニルエーテル、シランカップリング剤、シリコーン樹脂、ワックス、ポリホスファゼン、分子内に脂肪族環構造を有するパーフルオロカーボン重合体、含フッ素オレフィオンと炭化水素系オレフィンとの共重合体、含フッ素アクリレートとアクリレートまたは/およびメタクリレートとの共重合体、ポリビニリデンフルオライド、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロパンなど、またはこれらのコポリマーがあげられる。この中で、撥水性の持続性および使用上の取り扱いやすさからフッ素樹脂が好ましく、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体がより好ましい。
(1−4)微多孔層形成用ペースト
本発明で使用される微多孔層は、以下に示す微多孔層形成用ペーストを用いて形成される。
本発明で用いられる微多孔層形成用ペーストの溶媒は、特に限定されないが、水、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、2−プロパノール、2−メチル−2−プロパノール、2−ブタノール、イソブチルアルコールなどのアルコール類;フラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1、2−ジメトキシエタンなどのエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトンなどのケトン類;ジメチルスルホキシド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロロドンなどが挙げられる。上記溶媒は、1種単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
イン酸カリウム・ジエタノールアミン塩、アルキルエーテルサルフェート・トリエタノールアミン塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェート・トリエタノールアミン塩、特殊変成ポリエーテルエステル酸のアミン塩、高級脂肪酸誘導体のアミン塩、特殊変成ポリエステル酸のアミン塩、高分子量ポリエーテルエステル酸のアミン塩、特殊変成燐酸エステルのアミン塩、高分子量ポリエステル酸アミドアミン塩、特殊脂肪酸誘導体のアミドアミン塩、高級脂肪酸のアルキルアミン塩、高分子量ポリカルボン酸のアミドアミン塩、ラウリン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウムラウリル硫酸エステルナトリウム塩、セチル硫酸エステルナトリウム塩、ステアリル硫酸エステルナトリウム塩、オレイル硫酸エステルナトリウム塩、ラウリルエーテル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、油溶性アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、高級アルコールリン酸モノエステルジナトリウム塩、高級アルコールリン酸ジエステルジナトリウム塩、ジアルキルジチオリン酸亜鉛などが挙げられる。
これらの中では、好ましくはアルキルフェノールエチレンオキサイド付加物である。微多孔層形成用ペーストに上記分散剤を添加すると、保存安定性および流動性に優れ、塗工時の生産性が向上する。
(1−5)微多孔層の形成方法
本発明で用いられる微多孔層の形成方法としては、撥水剤コート多孔性基材又は触媒層上に、前記ペーストを直接塗布後乾燥することにより形成することが可能であり、他の転写基材上に微多孔層形成用ペーストを塗布後乾燥して微多孔層を形成し、撥水剤コート多孔性基材又は触媒層上にホットプレスで転写してもよい。また上記微多孔層を数回に分けて積層することにより形成してもよい。
基材上に形成された塗膜の溶媒の除去は、温度30℃〜200℃、好ましくは40℃〜180℃、時間1分〜250分、好ましくは5分〜120分、乾燥して行うことができる。さらに、必要に応じて用いられる分散剤の除去は、必要に応じて溶媒に浸漬して分散剤を抽出することで行うことができる。溶媒としては、撥水剤を溶解せずに分散剤のみを溶解する溶媒から選ばれ、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノールなどのアルコール類などが挙げられる。また、撥水剤の分解、変質温度以下の温度で分散剤を熱分解して除去することもできる。熱分解は、温度200℃〜400℃、好ましくは250℃〜380℃、時間30秒〜250分、好ましくは10分〜180分である。転写基材としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)のシート、または表面を離型剤処理したガラス板や金属板なども用いることができる。
(1−6)微多孔層の撥水処理方法
本発明に用いられる水酸基含有含フッ素重合体(A)は撥水剤として前記の方法で多孔性基材または微多孔層に含ませることができる。また、水酸基含有含フッ素重合体以外の撥水剤を用いてガス拡散層を形成し、後から水酸基含有含フッ素重合体添加することにより含ませることもできる。後から添加する方法としては水酸基含有含フッ素重合体を有機溶剤を含む溶媒に溶解させた溶液、あるいは、水酸基含有含フッ素重合体を水を含む溶媒中に懸濁させた溶液をガス拡散層の触媒層と接触する表面に塗布、乾燥し、水酸基含有含フッ素重合体層を形成することができる。有機溶媒としては、特に限定されないが、ケトン系、エーテル系、アルコール系が好ましい。塗布方法は、特に限定されないが、ドクターブレード法、スクリーン印刷、スプレー塗工法などが挙げられる。含浸法として、まず有機溶剤に水酸基含有含フッ素重合体を溶解させた溶液を作成する。この溶液に多孔性基材または微多孔層を形成した多孔性基材を数分間程浸し、有機溶剤を乾燥して除去する。これによって接着フッ素樹脂を添加することができる。なお、有機溶剤は水酸基含有含フッ素重合体を溶解させ、水酸基含有含フッ素重合体の分解温度以下の沸点を有するものであれば良く、特に限定されない。後から水酸基含有含フッ素重合体添加する場合の添加量
は0.01〜5mg/cm2、好ましくは0.1〜1mg/cm2である。上記の範囲以下であると十分な接着性が得られず、上記の範囲以上だとガス拡散層の細孔が閉塞し電池性能が低下する。
(2)多孔性基材
本発明で用いられる多孔性基材としては、燃料電池に一般に用いられる多孔性基材、たとえば、導電性物質を主たる構成材とする多孔質導電シートなどを、特に限定されることなく用いることができる。
(2−1)多孔性基材の形成方法
多孔性基材は、好ましくは前記導電性物質を撥水処理して形成される。多孔性基材を撥水処理するには、水酸基含有含フッ素重合体(A)又は水酸基含有含フッ素重合体(A)および水酸基を有しない含フッ素重合体(B)を水中に分散させたディスパージョン、または有機溶媒に溶解させた撥水剤溶解液(以下、撥水処理用樹脂ともいう。)を用いて、後述の方法で撥水剤コートして撥水剤以外の成分(溶媒、分散剤など)を乾燥、加熱分解することで作製することができる。撥水剤コート法としては、組成物の粘性によってディップコーティング法、スクリーンプリンティング法、スプレーコーティング法またはドクターブレードを利用したコーティング法、グラビアコーティング法、シルクスクリーン法、ペインティング法などが用いられるが、これに限られるものではない。この中で、ディップコーティング法が好ましい。ディップコーティング法の場合、撥水処理用樹脂のコート量は、ディスパージョン、または撥水剤溶解液の濃度により調整することができる。多孔性基材への撥水処理用樹脂のコート量は、撥水処理多孔性基材に対する撥水剤の重量比が1重量%〜50重量%であることが好ましく、より好ましくは2重量%〜30重量%で、5重量%〜20重量%が好適である。
ードでは生成水の排出が良好となり発電特性が向上するため好ましい。
また、微多孔層形成用ペーストを撥水処理多孔性基材へ塗布した際の微多孔層形成用ペーストの多孔性基材への染み込みによる多孔性基材の細孔閉塞を抑制し、メタノール水溶液、水、ガスの拡散経路を確保できるため、発電特性が向上するため好ましい。
[触媒層]
膜電極接合体を構成する触媒層は、触媒ペーストを使用して形成することができる。該触媒ペーストは、触媒、イオン交換樹脂電解質および溶媒を含有し、好ましくは、触媒、イオン交換樹脂電解質および溶媒に加えて、炭素繊維、イオン交換機を有しない樹脂、水、分散剤等を含有することができる。
(1)触媒
触媒としては白金、パラジウム、金、ルテニウム、イリジウムなどの貴金属触媒が好ましく用いられる。また、貴金属触媒は、合金や混合物などのように、2種以上の元素が含まれるものであってもよい。
上記カーボンに担持される触媒の量としては、有効に触媒活性が発揮できる量であれば特に制限されるものではないが、触媒担持カーボン中の触媒含有率がで60〜100重量%であることが望ましく、80〜95重量%であると更に好適である。上記範囲より触媒含有率が大きい場合は、有効に使われない触媒が増えるため、効率の悪い電極になる。また上記より小さい触媒含有率の場合は十分な触媒量のできないため電池の性能が低くなる。
(2)イオン交換樹脂電解質
イオン交換樹脂電解質は、前記触媒を担持したカーボンを結着させるバインダー成分として働くとともに、燃料極では触媒上の反応によって発生したイオンをイオン伝導膜へ効率的に供給し、また、空気極ではイオン伝導膜から供給されたイオンを触媒へ効率的に供給する。
交換基を有するフッ素原子を含むポリマーや、エチレンやスチレンなどから得られる他のポリマー、これらの共重合体やブレンドであっても構わない。
(3)炭素繊維
本発明で用いられる触媒層に必要に応じてさらに炭素繊維を添加してもよい。このような炭素繊維しては、レーヨン系炭素繊維、PAN系炭素繊維、リグニンポバー系炭素繊維、ピッチ系炭素繊維、気相成長炭素繊維などを用いることができ、これらの中では気相成長炭素繊維が好ましい。
(4)イオン交換基を有しない樹脂
本発明で用いられる触媒層に、必要に応じてさらにイオン交換基を有しない樹脂を用いてもよい。これらの樹脂としては撥水性の高い樹脂であることが好ましい。例えば含フッ素共重合体、シランカップリング剤、シリコーン樹脂、ワックス、ポリホスファゼンなどを挙げることができるが、好ましくは含フッ素共重合体である。
(5)水
本発明で用いられる触媒ペースト組成物には、必要に応じてさらに水を添加してもよい。水を添加することにより、触媒ペースト組成物を調製する際の発熱を低減する効果がある。
(6)分散剤
本発明で用いられる触媒ペースト組成物には、必要に応じてさらに分散剤を添加してもよい。このような分散剤としては、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン界面活性剤などを挙げることができる。
ルリン酸ジエステルジナトリウム塩、ジアルキルジチオリン酸亜鉛などが挙げられる。
(7)触媒層組成
本発明において、触媒が担持されたカーボンブラックの使用割合は、重量比で30重量%〜85重量%、好ましくは重量40%〜75重量%であり、イオン交換樹脂電解質の使用割合は、重量比で5重量%〜60重量%、好ましくは10重量%〜50重量%であり、必要に応じて用いられるイオン交換基を有しない樹脂の使用割合は、重量比で0重量%〜40重量%、好ましくは0重量%〜30重量%であり、必要に応じて用いられる炭素繊維
の使用割合は、重量比で0重量%〜40重量%、好ましくは0重量%〜30重量%であり、必要に応じて用いられる分散剤の使用割合は、重量比で0重量%〜10重量%、好ましくは0重量%〜5重量%である。
(8)触媒ペースト組成
触媒ペーストは、前記触媒層の項に示した使用割合の各成分が有機溶剤に溶解又は分散されてなる。触媒ペーストに用いられる有機溶剤は、特に限定されないが、下記のような有機溶剤が挙げられる。また、これらの有機溶剤に水を併用することがさらに好ましい。
−1−ペンタノール、2−メチル−2−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノール、1−メチルシクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール、1−オクタノール、2−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、フラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ブチルエーテル、フェニルエーテル、イソペンチルエーテル、ジエトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、ビス(2−エトキシエチル)エーテル、シネオール、ベンジルエチルエーテル、アニソール、フェネトール、アセタール、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘキサノン、4−メチル−2−ペンタノン、2−ヘプタノン、2,4−ジメチル−3−ペンタノン、2−オクタ
ノン、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸sec-ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、3−メトキシブチルアセタート、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、ジメチルスルホキシド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N―メチルピロリドンなどを挙げることができ、これらは1種類以上を組み合わせて用いることもできる。
有機溶剤の使用割合が、上記範囲内にあると電極形成時の塗工性に優れる。
(9)触媒ペースト組成物の調製
触媒ペースト組成物は、たとえば、上記各成分を所定の割合で混合し、従来公知の方法で混練することにより調製することができる。各成分の混合順序は特に限定されないが、たとえば、全ての成分を混合して一定時間攪拌を行うか、分散剤以外の成分を混合して一定時間攪拌を行った後、必要に応じて分散剤を添加して一定時間攪拌を行うことが好ましい。また、必要に応じて、有機溶媒の量を調整して、組成物の粘度を調整してもよい。
(10)触媒層の形成
本発明に係る膜電極接合体の触媒層は、上記電極ペースト組成物をイオン交換樹脂膜上に直接塗布し、乾燥することにより形成することができる。
ー塗布、ドクターブレード法、スクリーン印刷、スプレー塗布などが挙げられる。
基材上に形成された塗膜の溶媒の除去は、温度30℃〜200℃、好ましくは40℃〜180℃、時間は1分〜250分、好ましくは5分〜120分、乾燥して行うことができる。
8.0mg/cm2であることが好ましく、さらに好ましくは1.0mg/cm2〜5.0mg/cm2であり、かつ触媒層の厚みが5μm〜150μmであることが好ましく、さ
らに好ましく10μm〜100μmである。
[イオン交換樹脂膜]
本発明で用いられるイオン交換樹脂膜としては、プロトン伝導性を向上させるためにプロトン交換基を有するポリマーが好ましい。このようなポリマーに含まれるプロトン交換基としては、スルホン酸基、カルボン酸基、リン酸基などがあるが特に限定されるものではない。また、このようなプロトン交換基を有するポリマーも、特に限定されることなく選ばれるが、プロトン導電性とメタノール透過抑制の観点からスルホン化ポリアリーレンなどが好ましく用いられる。例えば前記特許文献3、特許文献4に示されるイオン交換樹脂膜などが好適である。
[膜電極接合体の形成]
本発明に係る膜−電極接合体は、上記触媒層が形成されたイオン交換樹脂膜と多孔性基材とをホットプレス等により接合する方法、触媒層が形成された多孔性基材とイオン交換樹脂膜とを、触媒層側がイオン交換樹脂膜に接するようにしてホットプレス等により接合する方法などによって製造される。
[接着層]
本発明の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体においては、ガス拡散層と触媒層の間に接着層を設けることができる。接着層を設けることにより、ガス拡散層と触媒層間の接合性を向上させることができる。接着層は、水酸基含有含フッ素重合体(A)がカソード側のガス拡散層にのみ含まれアノード側のガス拡散層には含まれていない場合において、アノード側のガス拡散層と触媒層との接着性を改善するために特に有効である。
を採ることができる。
[スルホン化ポリアリーレン]
本発明において、触媒層やイオン交換樹脂膜の材料として用いることのできるスルホン化ポリアリーレンは、その好ましい態様としては、下記一般式(A−1)、(A−2)、(A
−3)または(A−4)からなる群から選ばれる少なくとも1つ構成単位(A)と、下記一
般式(B-1)または(B-2)で表されるフッ素を含有する構成単位(B)、および下記一般式(C−1)で表わされる構成単位(C)を有する。このような構造を有するスルホン化ポリアリーレンは、屈曲性のメタ結合を含む構成単位(A)によって膜―電極接合体(MEA)の靭性、機械的強度、加工性(プロトン伝導膜・ガス拡散層と電極層の接合性)などが向上するとともに、フッ素を含む構成単位(B)によって重合体の溶解性、加工性などが向上する。
<構成単位(A)および構成単位(B)>
i)構成単位(A)
構成単位(A)は屈曲性のメタ結合を含むため、構成単位(A)を有するスルホン化ポリアリーレンを採用することにより、膜―電極接合体(MEA)の靭性、機械的強度、加工性(プロトン伝導膜・ガス拡散層と電極層の接合性)などが向上させることができる。
り、水素原子、フッ素原子、アルキル基、フッ素化アルキル基、アリール基、シアノ基からなる群より選ばれた少なくとも1種の原子または基を表す。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基などが挙げられる。これらのうちで、R1〜R20としては、優れたメタノール耐性および耐水性と、強度、靭
性などの機械的特性とが両立できるため、水素原子、メチル基、フェニル基が好ましい。
は基を表し、これらのうちで、Wとしては、得られる重合体の加工性の観点から−CO−が好ましい。
で、pは1〜10の整数である)、−C(CH3)2−、または−C(CF3)2−からなる群よ
り選ばれた少なくとも1種の基を表す。これらのうちで、Jとしては、得られる重合体の加工性の観点から−O−、−S−、−C(CH3)2−、および−C(CF3)2−が好ましい。
ii)構成単位(B)
構成単位(B)はフッ素を含むため、スルホン化ポリアリーレンの溶解性、加工性などが向上する。
、これらのうちで、Tとしては、得られる重合体の加工性の観点から−CO−が好ましい。
で、pは1〜10の整数である)、−C(CH3)2−、または−C(CF3)2−からなる群よ
り選ばれた少なくとも1種の基を表し、これらのうちで、Qとしては、得られる重合体の加工性の観点から得られる重合体の加工性の観点から−O−、−S−、−C(CH3)2−、および−C(CF3)2−が好ましい。
構成単位(B)の具体例としては、以下のものが挙げられる。
また、上記構成単位のベンゾフェノンの部分が、下記構造に代わった構成単位も使用できる。
導膜・ガス拡散層と電極層の接合性)の付与により、高温でのホットプレスの必要がなく
伝導度の低下を防止できる。
上記構成単位(B)はスルホン化ポリアリーレンの溶解性を改善する役割があり、導入量により水を含む有機溶媒への溶解性を改良できる。フッ素を含む成分の導入量を適正な領域に保つことで、電極ワニス、電極ペーストに加工性を付与できる。たとえば、特開2006−96989号公報の実施例1に記載のスルホン化ポリアリーレンからなるプロトン伝導膜においては、通常、同様な化学構造を有する電極電解質ポリマーを含有する電極ペーストの伝導膜への直接塗工(電極層形成)は、伝導膜の溶解のため困難である。これに対して、所定量の構造単位(B)を導入することで、電極電解質の溶解性を大幅に改良し
、プロトン伝導膜の貧溶媒となる溶媒組成を選択することでプロトン伝導膜への直接塗工が可能となり、量産性を付与できる。また、可溶な溶媒種が増加することにより、電極層の微細構造制御が可能となり発電特性も改良できる。
0モル%を超えると熱変形温度が高くなり、接合性が悪化する傾向がある。
上記構成単位(A)および(B)が上記範囲にあると、得られるスルホン化ポリアリーレンは、優れたメタノール耐性および疎水性とともに、優れた靭性等の機械的強度、優れた加工性などを有する。上記構成単位(A)および(B)に加えて、その他の構成単位もあわせて使用することができる。例えば、フルオレン骨格を有するビスフェノール類から誘導される構成単位を含有しているとメタノール耐性の高いスルホン化ポリアリーレンが得ることができる。
<スルホン酸基を含む構成単位(C)>
上記スルホン酸基を含む構成単位としては、特開2004−137444号公報、特開2004−345997号公報、特開2004−346163号公報、特開2001−342241号公報および特開2002−293889号公報に記載されているスルホン酸基を有する構成単位が好ましい。これらのうちで、下記一般式(C−1)で表される構成単位(C)は、得られるポリアリーレンにおいて、優れたプロトン伝導性と優れたメタノール耐性とが両立できるためより好ましい。したがって、構成単位(A)と(B)、さらに(C)を含むスルホン化ポリアリーレンは、直接メタノール型燃料電池に好適に用いられる。
、−(CF2)f−(fは1〜10の整数である)、−C(CF3)2−からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を表す。このうちYとしては、−CO−、−SO2−が好ましい。
O−、−S−からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を表す。このうちZとしては、直接結合、−O−が好ましい。
香族基がナフチル基である場合には2個以上置換していることが好ましい。
i、j、kの値とY、Z、Arの構造についての好ましい組み合わせとして、(1)j=0、k=0であり、Yは−CO−であり、Arが置換基として−SO3Hを有するフェニ
ル基である構造、(2)j=1、k=0であり、Yは−CO−であり、Zは−O−であり、Arが置換基として−SO3Hを有するフェニル基である構造、(3)j=1、k=1、i
=1であり、Yは−CO−であり、Zは−O−であり、Arが置換基として−SO3Hを
有するフェニル基である構造、(4)j=1、k=0であり、Yは−CO−であり、Zは−O−であり、Arが置換基として2個の−SO3Hを有するナフチル基である構造などを
挙げることができる。
上記スルホン化ポリアリーレンの製造には、例えば下記に示す方法(特開2004−1
37444号公報参照)が用いられる。この方法では、まず、下記化合物(D)とスルホン
酸エステル基を含む単量体とを重合し、スルホン酸エステル基を有するポリアリーレン(
本明細書において、このポリアリーレンを「前駆体ポリマー(E)」ともいう)を製造し、
次いで、前駆体ポリマー(E)中のスルホン酸エステル基を脱エステル化して、スルホン酸エステル基をスルホン酸基に変換する。これにより、構成単位(A)、(B)とともに、スルホン酸基を含む構成単位(C)を有するスルホン化ポリアリーレンが得られる。
化合物(D)は、上記構成単位(A)及び構成単位(B)のうち少なくとも一方の構成単位が1つ以上直鎖状に結合した構造を有しており、両末端は、それぞれ独立にフッ素を除くハロゲン原子、すなわち、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、これらの中では塩素原子が好ましい。化合物(D)は、構成単位(A)及び構成単位(B)のいずれをも有していることが好ましいが、構成単位(A)のみを有している化合物(D)と構成単位(B)のみを有している化合物(D)を併用して後述の前駆体ポリマー(E)を合成してもよい。化合物(D)の構成単位(A)は、前述の一般式(A−1)、(A−2)、(A−3)および(A−4)で表わされる少なくとも1種からなる。また、化合物(D)の構成単位(
B)は、前述の一般式(B-1)および/または(B-2)からなる。
また、化合物(D)の分子量は、ゲル・パーミエ−ションクロマトグラフィー(GPC)法によって、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒として40℃で測定され、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が500〜50000、好ましくは1000〜30000であり、重量平均分子量(Mw)が1000〜100000、好ましくは2000〜60000である。
本明細書において、これらをまとめて「ジハロゲン化物」ともいう。)、もしくはパーフ
ルオロフルオロベンゼンおよび/またはパーフルオロベンゾフェノンなどとともに重合して合成される。また、ビスフェノール類とジハロゲン化物の構造を入れ替えて合成できることもある。
ンゾフェノン、3,4'−ジヒドロキシベンゾフェノン、4,4’−(1,3−フェニレン
ジイソプロピリデン)ビスフェノール、3,3’−(1,3−フェニレンジイソプロピリデン)ビスフェノール、3,3’−(1,4−フェニレンジイソプロピリデン)ビスフェノー
ル、4,4’−(1,3−フェニレンビスヘキサフルオロプロピリデン)ビスフェノール、3,3’−(1,3−フェニレンビスヘキサフルオロプロピリデン)ビスフェノール、3,3’−(1,4−フェニレンビスヘキサフルオロプロピリデン)ビスフェノール、などが挙げられる。
ル、3,3’,5,5’−テトラ(トリフルオロメチル)−4,4’−ビフェノール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2’−ビス(4−ヒドロキシ−3−トリフルオロメチルフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシ−
3−トリフルオロメチルフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3−トリフルオロメチルフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシ−3−トリフルオロメチルフェニル)メ
タン、ビス(4−ヒドロキシ−3−トリフルオロメチル)ベンゾフェノン、ビス(4−ヒド
ロキシ−3−トリフルオロメチルフェニル)スルホン、などが挙げられる。
ェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒ
ドロキシ−3−n−プロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−イソプロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−イソブチルフェニル)フルオレン
、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−n−ブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(
4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジエチルフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−n−プロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−イソプロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジ−イソブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−n−ブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−フェニルフェニル)フルオレンなどが挙げられる。上記ビスフェノールは、単
独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
ちで、4,4’−ジハロベンゾフェノンを用いることが好ましい。上記ジハロゲン化物は、単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
化合物(D)の合成において、まず、上記ビスフェノール類(A'+B')をアルカリ金属塩とする。ここで、メタ置換ジヒドロキシベンゼン類(A')を5〜85モル%であり、さらに好ましくは10〜70モル%である。フッ素含有ジヒドロキシベンゼン類(B')を10〜90モル%、好ましくは20〜80モル%である(ここで、a+b≦100モル%、上
記ジヒドロキシベンゼン類の量およびその他のビスフェノールの量の合計は100モル%である)。このとき、N−メチル−2−ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、スル
ホラン、ジフェニルスルホン、ジメチルスルホキサイドなどの誘電率の高い極性溶媒中で、上記ビスフェノール類に対して、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、水素化アルカリ金属、水酸化アルカリ金属、アルカリ金属炭酸塩などを加える。
反応に用いられる上記ジハロゲン化物の量(上記4,4’−ジハロベンゾフェノンおよ
び/または4,4’―ジハロジフェニルスルホンの総量)は、上記ビスフェノール類の量(上記ジヒドロキシベンゼン類および上記フルオレン類で連結されたビスフェノールの総量)に対し1.0001〜3倍モル、好ましくは1.001〜2倍モルである。
得られた化合物(D)は、ポリマーの一般的な精製方法、例えば、溶解−沈殿の操作によって精製してもよい。なお、化合物(D)の分子量の調整は、上記ジハロゲン化物と上記フェノール類との反応モル比によって行うことができる。
ノマーの化学シフトにより構造の同定を行い、上記シグナルの強度比によって求められる。
<スルホン酸エステル基を含む単量体>
スルホン化ポリアリーレンに構成単位(C)を導入するために用いられる上記スルホン酸エステル基を有する単量体としては、具体的には、特開2004−137444号公報、特願2003−143903および特願2003−143904に記載されているスルホン酸エステル類が挙げられる。
Rは上記と同様のものが挙げられ、好ましいものも同じである)を有する芳香族基を表す
。上記芳香族基として、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基などが挙げられる。これらのうちで、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
である場合には、2個以上の−SO3Rを有していることが好ましい。
<前駆体ポリマー(E)の製造>
前駆体ポリマー(E)を得るための、化合物(D)と前記スルホン酸エステル基を含む単量体との重合は触媒の存在下に行われる。この際使用される触媒は、遷移金属化合物を含む触媒であり、この触媒は、(1)遷移金属塩および配位子となる化合物(本明細書において
、「配位子成分」ともいう。)、または配位子が配位された遷移金属錯体(銅塩を含む)、
ならびに(2)還元剤を必須成分とし、さらに、重合速度を上げるために「塩」を添加してもよい。これらの触媒成分の具体例、各成分の使用割合としては、特開2001−342241号公報に記載のものが挙げられる。
<脱エステル化>
次いで、前駆体ポリマー(E)を特開2004−137444号公報に記載の方法で脱エステル化すれば、上記スルホン化ポリアリーレンが得られる。
上記のような方法により製造される、スルホン化ポリアリーレンのイオン交換容量は通常0.3〜5meq/g、好ましくは0.5〜3meq/g、さらに好ましくは0.8〜2.8meq/gである。0.3meq/g未満では、プロトン伝導度が低く発電性能が低くなる傾向にあり、5meq/gを超えると、耐水性およびメタノール耐性が大幅に低下する傾向にある。
n)が0.5万〜50万、好ましくは1万〜40万であり、重量平均分子量(Mw)が1万
〜100万、好ましくは2万〜80万である。
[直接メタノール型燃料電池]
本発明の直接メタノール型燃料電池は、少なくとも一つ以上の膜−電極接合体及びその両側に位置するセパレータを含む少なくとも一つの電気発生部;燃料を前記電気発生部に供給する燃料供給部;及び酸化剤を前記電気発生部に供給する酸化剤供給部を含む直接メタノール型燃料電池であって、膜−電極接合体が上記記載のものであることを特徴とする。
[合成例1:水酸基含有含フッ素重合体(イ)の合成]
内容積2.0リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル400g、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)60.3g、エチルビニルエーテル27.2g、ヒドロキシエチルビニルエーテル33.2g、過酸化ラウロイル1.00g、上記式(7)で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサン(VPS1001(商品名)、和光純薬工業(株)製)1.7g及びノニオン性反応性乳化剤(NE−30(商品名)、旭電化工業(株)製)40.0gを仕込み、ドライアイス−メタノールで−50℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
℃で20時間攪拌下に反応を継続し、圧力が1.7×105Paに低下した時点でオート
クレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出してオー
トクレーブを開放し、固形分濃度26.4%のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、50℃にて真空乾燥を行い220gの水酸基含有含フッ素重合体を得た。これを水酸基含有含フッ素重合体とする。
あった。また、単量体に仕込み比からの水酸基濃度は1.56mol/gであった。
単量体 構造単位
ヘキサフルオロプロピレン (a)
パーフルオロ(プロピルビニルエーテル) (a)
エチルビニルエーテル (b)
ヒドロキシエチルビニルエーテル (c)
NE−30 (f)
ポリジメチルシロキサン骨格 (d)
[合成例2:水酸基含有含フッ素重合体(ロ)の合成]
内容積2.0リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル400g、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)77.2g、エチルビニルエーテル58.5g、ヒドロキシエチルビニルエーテル25.8g、過酸化ラウロイル1.00g、上記式(7)で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサン(VPS1001(商品名)、和光純薬工業(株)製)7.8g及びノニオン性反応性乳化剤(NE−30(商品名)、旭電化工業(株)製)52.1gを仕込み、ドライアイス−メタノールで−50℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
℃で20時間攪拌下に反応を継続し、圧力が1.7×105Paに低下した時点でオート
クレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出してオートクレーブを開放し、固形分濃度26.4%のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、50℃にて真空乾燥を行い220gの水酸基含有含フッ素重合体を得た。これを水酸基含有含フッ素重合体とする。
であった。また、単量体に仕込み比からの水酸基濃度は0.93mol/gであった。
単量体 構造単位
ヘキサフルオロプロピレン (a)
パーフルオロ(プロピルビニルエーテル) (a)
エチルビニルエーテル (b)
ヒドロキシエチルビニルエーテル (c)
NE−30 (f)
ポリジメチルシロキサン骨格 (d)
[比較合成例1:水酸基を含有しない含フッ素重合体(ハ)の合成]
内容積2.0リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル400g、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)77.2g、エチルビニルエーテル83.6g、過酸化ラウロイル1.00g、上記式(7)で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサン(VPS1001(商品名)、和光純薬工業(株)製)2.2g及びノニオン性反応性乳化剤(NE−30(商品名)、旭電化工業(株)製)52.2gを仕込み、ドライアイス−メタノールで−50℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
℃で20時間攪拌下に反応を継続し、圧力が1.7×105Paに低下した時点でオート
クレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出してオートクレーブを開放し、固形分濃度26.4%のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、50℃にて真空乾燥を行い220gの水酸基含有含フッ素重合体を得た。これを水酸基含有含フッ素重合体とする。
あった。また、単量体に仕込み比からの水酸基濃度は0mol/gであった。
単量体 構造単位
ヘキサフルオロプロピレン (a)
パーフルオロ(プロピルビニルエーテル) (a)
エチルビニルエーテル (b)
ヒドロキシエチルビニルエーテル (c)
NE−30 (f)
ポリジメチルシロキサン骨格 (d)
(イオン交換樹脂膜の作製)
[合成例3:イオン交換樹脂(ニ)の合成]
(1)疎水ユニットの合成
撹拌羽根、温度計、窒素導入管、Dean-Stark管、冷却管を取り付けた1Lセ
パラブル3口フラスコに4、4’−ジフルオロベンゾフェノン 52.4g(240mmol)、4−クロロ−4'−フルオロベンゾフェノン 13.4g(57.0mmol)、4,
4'−(1,3−フェニレンジイソプロピリデン)ビスフェノール(Bis−M) 70.3g(203mmol)、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン 23.7g(67.5mm
ol)、炭酸カリウム48.5g(351mmol)をはかりとった。DMAc 430mL、トルエン 220mLを加え、窒素雰囲気下、150℃で加熱還流した。反応によって
生成する水をトルエンとの共沸により、Dean-Stark管から取り除いた。3時間
後に水の生成が認められなくなったところで、トルエンを系外に取り除き、160℃で7時間撹拌した後、4−クロロ−、4’−フルオロベンゾフェノン 7.8g(33.0mm
ol)を加え、さらに3時間撹拌した。
量のメタノールで洗浄し、真空乾燥した。乾燥した生成物を、テトラヒドロフラン200mLに再溶解した。この溶液をメタノール2.0Lに注ぎ、再沈殿した。凝固物をろ過し
、真空乾燥して、117g(収率80%)の目的物を得た。GPCで求めたポリスチレン換算の数平均分子量は6000、重量平均分子量は8300であった。得られた化合物は式(III)で表されるオリゴマーであることを確認した。 nとpの組成比は、nが0.75
で、pが0.25であった。
攪拌機、温度計、窒素導入管をとりつけた1Lの三口フラスコに、3−(2,5−ジク
ロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル56.1g(140mmol)、合成例
3で得られたMn6000の疎水性ユニット61.1g(10.2mmol)、ビス(トリ
フェニルホスフィン)ニッケルジクロリド2.94g(5.0mmol)、ヨウ化ナトリウ
ム0.67g(5.0mmol)、トリフェニルホスフィン15.7g(60mmol)、亜鉛23.5g(360mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)290mLを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc490mLを加えて希釈し、不溶物を濾過した。
上記スルホン酸基を有するポリアリーレン(1)の10重量%N−メチルピロリドン(
NMP)溶液を、ガラス板上にキャストして製膜し、膜厚40μmのイオン交換樹脂膜(
1)を得た。その膜のイオン交換容量は1.40meq/gであった。ガラス転移点は15
5℃であった。
後述するガス拡散層2枚の間に、後述する触媒塗工イオン交換樹脂膜を、微多孔層と触
媒層が接するように挟み、ホットプレス機により160℃、60kgf/cm2、15分間、加圧加熱することにより、膜−電極接合体を作製し、lectrochem社製の評価用燃料電池セルに組み込み、トルクレンチで300 cN mで締め付け燃料電池を作製した。1mol/Lのメタノール水溶液を流量1.6mL/min.でアノードに供給し、空気を
流量285mL/minでカソードに供給し、電池温度70℃にて、電流密度を200mA/cm2として、発電させた際の電圧を測定してこの燃料電池の初期性能を評価した。そ
の後燃料電池を-10℃で24 h放置する耐性試験を行い、再度前記条件で電圧を測定し耐性
試験後の性能を評価した。
[膜−電極接合体の接着評価]
後述するガス拡散層2枚の間に、後述する触媒塗工イオン交換樹脂膜を、微多孔層と触
媒層が接するように挟み、ホットプレス機により160℃、60kgf/cm2、15分間
、加圧加熱することにより、膜−電極接合体を作製し温度23℃、湿度50%条件下で12時間放置した後、評価用燃料電池セルに組み、1mol/Lのメタノール水溶液を充填し-10
℃で24 h放置後、評価用燃料電池セルを解体しガス拡散層の剥離状態を確認し、剥離の見られなかったものを○、ガス拡散層の脱落が起きたものを×、脱落は起きないが、一部剥離の見られたものを△とした。
[実施例1]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
多孔性基材としてカーボンペーパー(商品名:TGPH-060、東レ株式会社製)を5cm×5cmのサイズに切断し、これを30mLの1.0重量%水酸基含有含フッ素重合体(イ)1,
2ジメトキシエタン溶液に5分間浸漬させた後、75℃の乾燥炉にて30分間乾燥させた。水酸基含有含フッ素重合体(イ)コート多孔性基材を作製した。このときの水酸基含有含フッ素重合体(イ)の付着量は0.1mg/cm2であった。
(2)微多孔層の形成
炭素粒子(商品名:ケッチェンブラックEC、ライオン社製)1.0g、合成例1記載の水酸基含有含フッ素重合体(イ)2.0g、蒸留水0.6g、1,2−ジメトキシエタン
11.4gを混合させ、この混合物を均一になるまで遊星ボールミル(商品名:P-5、フ
リッチュ社製)を使用して攪拌し、微多孔層形成用ペーストを調製した。このペーストを微多孔層の重量が1.5mg/cm2となるようにアプリケーターを使用して均一に塗布した
後、75℃の乾燥炉にて30分間乾燥させ、微多孔層付き水酸基含有含フッ素重合体(イ)コートコート多孔性基材を作製した。
(触媒ペースト組成物の調製)
市販の81%白金/ルテニウム触媒担持カーボン(商品名:TEC81E81、田中貴金属社製)1.2g、少量の蒸留水1.4g、デュポン社製20%ナフィオン(登録商標)溶液4.2g、およびイソプロパノール5.0gを混合し、この混合物を均一になるまで遊星ボールミル(商品名:P-5、フリッチュ社製)を使用して攪拌し、アノード用触媒
ペーストを調製した。同様の手法で、白金/ルテニウム触媒担持カーボンに替えて市販の70%白金触媒担持カーボン(商品名:TEC10E70TPM、田中貴金属社製)を用い
て、70%白金触媒担持カーボン(商品名:TEC10E70TPM、田中貴金属社製)2
.0g、少量の蒸留水2.4g、デュポン社製20%ナフィオン(登録商標)溶液5.2g、およびイソプロパノール10.2gを混合し、カソード用触媒ペーストを調製した。(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
上記アノード用触媒ペーストを上記イオン交換樹脂膜(1)に、白金の付着量が3.0mg/cm2になるようにアプリケーターを使用して均一に塗布した後、75℃の乾燥炉にて
30分間乾燥させ、アノード用触媒層を形成した。このアノード用触媒層を形成したイオン交換樹脂膜のアノード用触媒層を形成した面とは反対側の面に、上記カソード用触媒ペーストを白金の付着量が2.0mg/cm2になるようにアプリケーターを使用して均一に塗
布した後、75℃の乾燥炉にて30分間乾燥させ、カソード用触媒層を形成し、触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[実施例2]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
多孔性基材としてカーボンペーパー(商品名:TGPH-060、東レ株式会社製)を5cm×5cmのサイズに切断し、これを30mLの1.2重量%ポリテトラフルオロエチレン樹脂微
粒子分散水溶液に5分間浸漬させた後、75℃の乾燥炉にて15分間乾燥させた。この基材を370℃の電気炉にて1時間焼成させ、アノードおよびカソード用撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(2)微多孔層の形成
実施例1と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[実施例3]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
炭素粒子(商品名:ケッチェンブラックEC、ライオン社製)2.4g、60重量%ポ
リテトラフルオロエチレン樹脂微粒子分散水溶液6.2g、蒸留水104.9g、分散剤(商品名:TRITONX-100、シグマ−アルドリッチ社製)10.3gを混合させ、この混合
物を均一になるまで遊星ボールミル(商品名:P-5、フリッチュ社製)を使用して攪拌し
、アノード用微多孔層形成用ペーストを調製した。このペーストを微多孔層の重量が1.0mg/cm2となるようにアプリケーターを使用して均一に塗布した後、75℃の乾燥炉に
て30分間乾燥させ、微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(3)水酸基含有含フッ素重合体コート
上記、微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を30mLの10重量%水酸基含有含フッ
素重合体(イ)1,2ジメトキシエタン溶液に5分間浸漬させた後、75℃の乾燥炉にて30分間乾燥させた。水酸基含有含フッ素重合体(イ)コートガス拡散層を作製した。このときの水酸基含有含フッ素重合体(イ)の付着量は1.0mg/cm2であった。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[実施例4]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(3)水酸基含有含フッ素重合体コート
上記、微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を30mLの0.1重量%水酸基含有含フ
ッ素重合体(イ)1,2ジメトキシエタン溶液に5分間浸漬させた後、75℃の乾燥炉にて30分間乾燥させた。水酸基含有含フッ素重合体(イ)コートガス拡散層を作製した。このときの水酸基含有含フッ素重合体(イ)の付着量は0.01mg/cm2であった。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[実施例5]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製)
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。このガス拡散層をアノードに用いた。
(3)接着層の形成
デュポン社製20%ナフィオン(登録商標)溶液4.45g、ノルマルプロパノール7.02g、蒸留水7.42g、ケッチェンブラックEC1.11gを混合し、この混合物を均一になるまで遊星ボールミル(商品名:P-5、フリッチュ社製)を使用して攪拌し、接着層ペーストを
調製した。このペーストを微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材の微多孔層上にアプリケーターで塗布後、75℃の乾燥炉にて30分間乾燥させ接着層付きガス拡散層を作製した。接着層の乾燥後の塗布量は2 mg/cm2であった。このガス拡散層をアノードに用いた。
(4)水酸基含有含フッ素重合体コート
実施例4と同様な方法で水酸基含有含フッ素重合体(イ)コートガス拡散層を作製した。このガス拡散層をカソードに用いた。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[実施例6]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(3)水酸基含有含フッ素重合体コート
実施例3と同様な方法で水酸基含有含フッ素重合体(イ)コートガス拡散層を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
市販の81%白金/ルテニウム触媒担持カーボン(商品名:TEC81E81、田中貴
金属社製)3.0g、合成例3の触媒層用イオン交換樹脂電解質(ニ)0.65g、蒸留水0.9g、1、2−ジメトキシエタン10.6gおよびノルマルプロパノール2.2gを混合し、この混合物を均一になるまで遊星ボールミル(商品名:P-5、フリッチュ社製
)を使用して攪拌し、アノード用触媒ペーストを調製した。同様の手法で、白金/ルテニウム触媒担持カーボンに替えて市販の70%白金触媒担持カーボン(商品名:TEC10E70TPM、田中貴金属社製)を用いて、70%白金触媒担持カーボン(商品名:TEC
10E70TPM、田中貴金属社製)3.0g、合成例3の触媒層用イオン交換樹脂電解質
(ニ)0.65g、蒸留水0.9g、1、2−ジメトキシエタン10.6gおよびノルマルプロパノール2.2gを混合し、カソード用触媒ペーストを調製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[実施例7]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(3)水酸基含有含フッ素重合体コート
実施例4と同様な方法で水酸基含有含フッ素重合体(イ)コートガス拡散層を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例7と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[実施例8]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(3)水酸基含有含フッ素重合体コート
水酸基含有含フッ素重合体(イ)の代わりに水酸基含有含フッ素重合体(ロ)使用する以外は実施例4と同様な方法で水酸基含有含フッ素重合体(ロ)コートガス拡散層を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した。
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例7と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[比較例1]
(ガス拡散層)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[比較例2]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例7と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[比較例3]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
水酸基含有含フッ素重合体(イ)の代わりに含フッ素重合体(ハ)使用する以外は実施例1と同様な方法で含フッ素重合体(ハ)コート多孔性基材を作製した。
(2)微多孔層の形成
水酸基含有含フッ素重合体(イ)の代わりに含フッ素重合体(ハ)使用する以外は実施例1と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[比較例4]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
水酸基含有含フッ素重合体(イ)の代わりに含フッ素重合体(ハ)使用する以外は実施例1と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[比較例5]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(3)含フッ素重合体コート
水酸基含有含フッ素重合体(イ)の代わりに含フッ素重合体(ハ)使用する以外は実施例3と同様な方法で含フッ素重合体(ハ)コートガス拡散層を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した。
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[比較例6]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(3)含フッ素重合体コート
水酸基含有含フッ素重合体(イ)の代わりに含フッ素重合体(ハ)使用する以外は実施例4と同様な方法で含フッ素重合体(ハ)コートガス拡散層を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[比較例7]
(ガス拡散層)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(3)含フッ素重合体コート
水酸基含有含フッ素重合体(イ)の代わりに含フッ素重合体(ハ)使用する以外は実施例4と同様な方法で含フッ素重合体(ハ)コートガス拡散層を作製した。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例7と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[比較例8]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(3)Nafionコート
デュポン社製20%ナフィオン(登録商標)溶液をノルマルプロパノールで5.5重量%
に希釈した。この溶液に微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を5分間浸漬し、75℃の
乾燥炉にて30分間乾燥させNafionコートガス拡散層を作製した。Nafionの付着量は1.0 mg/cm2であった。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した。
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[比較例9]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(3)接着層の形成
デュポン社製20%ナフィオン(登録商標)溶液4.45g、ノルマルプロパノール7.02g、蒸留水7.42g、ケッチェンブラックEC1.11gを混合し、この混合物を均一になるまで遊星ボールミル(商品名:P-5、フリッチュ社製)を使用して攪拌し、接着層ペーストを
調製した。このペーストを微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材の微多孔層上にアプリケーターで塗布後、75℃の乾燥炉にて30分間乾燥させた。接着層の乾燥後の塗布量は2 mg/cm2であった。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した。
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
[比較例10]
(ガス拡散層の作製)
(1)多孔性基材の作製
実施例2と同様な方法で撥水剤コート多孔性基材を作製した。
(2)微多孔層の形成
実施例3と同様な方法で微多孔層付き撥水剤コート多孔性基材を作製した。このガス拡散層をカソードに用いた。
(3)水酸基含有含フッ素重合体コート
実施例4と同様な方法で水酸基含有含フッ素重合体(イ)コートガス拡散層を作製した。このガス拡散層をアノードに用いた。
(イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法でイオン交換樹脂膜を作製した
(触媒ペースト組成物の調製)
実施例1と同様な方法でアノード用およびカソード用触媒ペーストを作製した。
(触媒塗工イオン交換樹脂膜の作製)
実施例1と同様な方法で触媒塗工イオン交換樹脂膜を作製した。
Claims (10)
- イオン交換樹脂膜と、触媒層と、ガス拡散層とを備えた膜電極接合体において、カソード側のガス拡散層が、下記構造単位(a)、(b)及び(c)を有する水酸基含有含フッ素重合体(A)を含む、直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
(a)下記式(1)で表される構造単位。
(b)下記式(2)で表される構造単位。
(c)下記式(3)で表される構造単位。
はアルキル基又はフルオロアルキル基を示す)を示す]
1の数を示す)、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を示す]
- ガス拡散層が、電極層に接する微多孔層と該微多孔層に接する多孔性基材層からなり、微多孔層が前記含フッ素ポリマー(A)を含む、請求項1に記載の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
- 微多孔層および多孔性基材層が含フッ素ポリマー(A)を含む、請求項2に記載の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
- ガス拡散層が、水酸基を有しない含フッ素重合体(B)を含む、請求項1〜3のいずれか一に記載の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
- カソード側およびアノード側のガス拡散層が、水酸基含有含フッ素重合体(A)を含む、請求項1〜4のいずれか一に記載の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
- 水酸基含有含フッ素重合体(A)のガラス転移温度が30℃〜160℃である請求項1〜5のいずれか一に記載の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
- 水酸基含有含フッ素重合体(A)がメタノール、および水に不溶であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一に記載の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
- アノード側およびカソード側の触媒層のうち少なくとも一方が、下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)および(C−4)で表される構成単位から選ばれる少なくとも1つの構成単位(C)ならびに下記一般式(D−1)および(D−2)で表される構成単位から選ばれる少なくとも1つの含フッ素構成単位(D)を有するスルホン化ポリアリーレンを含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一に記載の直接メタノール型燃料電池用膜電極接合体。
は−C(CF3)2−からなる群より選ばれた少なくとも1種の原子または基を示し、Jは単結合、−O−、−S−、−CH2−、CO−、−SO2−、−(CF2)p−(ここで、pは1〜10の整数である)、−C(CH3)2−、または−C(CF3)2−からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を示す。)
た少なくとも1種の原子または基を示し、Tは単結合、−CO−、−SO2−、−(CF2)p−(ここで、pは1〜10の整数である)、または−C(CF3)2−からなる群より
選ばれた少なくとも1種の原子または基を示し、Qは単結合、−O−、−S−、−CH2
−、−CO−、−SO2−、−(CF2)p−(ここで、pは1〜10の整数である)、−
C(CH3)2−、または−C(CF3)2−からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を示す。これらの置換基、結合基のうち少なくとも1つ以上のフッ素原子もしくはフッ素を含有する基を含む。) - 請求項1〜8のいずれか一に記載の膜電極接合体を有する、直接メタノール型燃料電池。
- 下記構造単位(a)、(b)及び(c)を有する水酸基含有含フッ素重合体(A)を含む、直接メタノール型燃料電池のガス拡散層用樹脂ペースト。
(a)下記式(1)で表される構造単位。
(b)下記式(2)で表される構造単位。
(c)下記式(3)で表される構造単位。
はアルキル基又はフルオロアルキル基を示す)を示す]
1の数を示す)、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を示す]
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