JP2009222811A - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光源の組み付け誤差の影響による光ビーム径の劣化を防止して光ビームピッチの偏差を抑えることが可能な光走査装置及びこれを用いた画像形成装置を提供する。
【解決手段】複数の光源１０１ａ，１０１ｂから照射されるほぼ平行状態の複数の光ビームを少なくとも副走査方向に集束させる集束レンズ１０４ａ，１０４ｂと、集束レンズ１０４ａ，１０４ｂを支持する支持部材１０８ａ，１０８ｂと、各光ビームを主走査方向に偏向する光偏向器１０５と、支持部材１０８ａ，１０８ｂを支持するハウジング１１３とを有し、光偏向器１０５に副走査方向に離隔した複数の光ビームを入射させる光走査装置において、複数の光ビームにそれぞれ対応して集束レンズ１０４ａ，１０４ｂ及び支持部材１０８ａ，１０８ｂを複数有し、各集束レンズ１０４ａ，１０４ｂを、他の集束レンズを支持する支持部材１０８ａ，１０８ｂと干渉しない態様で互いに主走査方向にずれかつ副走査方向に並んで配置した。
【選択図】図６

Description

本発明は、デジタル複写装置、レーザプリンタ、レーザファクシミリ等の光走査装置及びこれを用いた画像形成装置に関する。

レーザプリンタ等に関連して広く知られた光走査装置は、一般に光源側からの光ビームを光偏向器により偏向させ、ｆθレンズ等の走査結像光学系により被走査面に向けて集光して被走査面上に光スポットを形成し、この光スポットで被走査面を光走査（主走査）するように構成されている。ここで被走査面の実体をなすものは光導電性の感光体等である感光媒体の感光面である。また、フルカラー画像形成装置の一例として、４個の感光体を記録紙の搬送方向に配列し、これらの各感光体に対応した複数の光源装置から放射された光ビームの光束を１つの偏向手段により偏向走査し、各感光体に対応する複数の走査結像光学系により各感光体に同時に露光して潜像を作り、これらの潜像をイエロ、マゼンタ、シアン、ブラック等のそれぞれ異なる色の現像剤を使用する現像器で可視像化した後、これらの可視像を同一の記録紙に順次重ね合わせて転写して定着することで、カラー画像を得られるように構成されている。

このように、光走査装置と感光体の組み合わせを２組以上用いて２色画像や多色画像、カラー画像等を得るようにした画像形成装置は「タンデム式画像形成装置」として知られている。このようなタンデム式画像形成装置として、複数の感光媒体が単一の光偏向器を共用する方式のものが開示されている。

ほぼ平行でかつ副走査方向に離れた複数の光束を偏向器に入射し、複数の光束に対応する複数の走査光学素子を副走査方向に並べて走査する技術が、例えば「特許文献１」に開示されている。また、偏向器の片側より光束を入射し、３枚構成の走査光学系で１枚目と２枚目の走査光学系にはそれぞれ異なる被走査面に向かう複数の光束が通過し、３枚目の走査光学系は被走査面毎に設けられた技術が、例えば「特許文献２」、「特許文献３」、「特許文献４」に開示されている。このように複数の被走査面を有する画像形成装置において光偏向器を共用すると光偏向器の数を減らすことができ、画像形成装置をコンパクト化することが可能となる。

しかし、例えばイエロ、マゼンタ、シアン、ブラックの４個の異なる被走査面としての感光体を有するフルカラー対応の画像形成装置に設けられた光走査装置としては、光偏向器の数を減らすことは可能であるが副走査方向に複数の感光体に向かう光ビームをほぼ平行に並べて光偏向器に入射させる必要があるため、光偏向器として用いられるポリゴンミラーが副走査方向に向けて大型化してしまうという問題点がある。一般的に光走査装置内部に設けられた光学系においてポリゴンミラーが占めるコストは高く、ポリゴンミラーが大型化することは装置全体の低コスト化及び小型化を達成する上で問題となる。

さらに最近では、カラー画像形成装置の光走査装置において低コスト化を図るべく、単一の光偏向器の偏向反射面に副走査方向に角度を持って光ビームを入射させる斜入射光学系が、例えば「特許文献５」に開示されている。この斜入射光学系は、複数の光ビームがそれぞれ偏向反射面で偏向反射された後、それぞれ対応する被走査面である感光体に折り返しミラー等によって分離されて導かれる。このとき各光ビームの副走査方向の角度（光偏向器に斜入射する角度）は、ミラーによって各光束が分離可能である角度となるように設定されている。この斜入射光学系を用いることにより、ミラーによって各光束を分離可能な副走査方向に隣接する各光ビームの間隔を、光偏光器の大型化（副走査方向へのポリゴンミラーの多段化、厚肉化）なしに実現することができる。

しかしこの反面、斜入射方式には走査線曲がりが大きいという問題点がある。この走査線曲がりの発生量は各光ビームの副走査方向の斜入射角により異なり、走査線曲がりが発生すると各光ビームで描かれた潜像を各色のトナーにより重ね合わせて可視化した際に色ずれとなって現れてしまう。また、斜入射することにより光束が走査レンズにねじれて入射することで波面収差も増大し、特に周辺の像高で光学性能が著しく劣化し、ビームスポット径が太ってしまい高画質化を妨げる要因となる。

上述した斜入射方式において特有の大きな走査線曲がりを補正する方法として、走査線曲がりを補正するように副走査断面内におけるレンズ面の固有傾きを主走査方向へ変化させたレンズ面を有するレンズを走査結像光学系に含める方法が例えば「特許文献６」に、走査線曲がりを補正するように副走査断面内における反射面の固有傾きを主走査方向へ変化させた反射面を有する補正反射面を走査結像光学系に含める方法が例えば「特許文献７」にそれぞれ開示されている。また、斜入射される光束を走査レンズの軸外に通し、走査レンズの子線の非球面量を主走査方向に沿って変化させる面を用いて走査線の位置を揃える方法が例えば「特許文献８」に開示されている。「特許文献８」には、１枚の走査レンズにて補正を行う例が開示されており、上述した走査線曲がりの補正は可能であるが以下に説明する波面収差増大によるビームスポット径の劣化については開示されていない。

斜入射方式の問題点といえる上述した走査線曲がりと波面収差の劣化を良好に補正可能な光走査装置として、走査結像光学系に複数の回転非対称レンズを含め、これら回転非対称レンズのレンズ面の子線頂点を結ぶ母線形状を副走査方向に湾曲させた技術が、例えば「特許文献９」に開示されている。しかし、これには設計値での補正方法は開示されているが、実際には光学素子の組み付け誤差、加工誤差等の影響によって斜入射角度が変化することにより設計時に補正した走査線曲がりや波面収差が劣化し、画像品質が低下してしまうという問題点がある。

また別の課題として、組み付け誤差、加工誤差等の影響により斜入射角度が変化した場合には走査レンズや折り返しミラー等の光学素子によって光ビームが設計上の位置を通過せず、ビームスポット径の劣化、さらには被走査面に光ビームが到達しないという問題が発生する。この問題は各光学素子を精度よく加工して組み付けることにより低減可能であるが、部品の大幅なコストアップや組み付けの難度が上がることで組み付け時間が増大してしまい、現実的ではない。

斜入射光学系においては、偏向反射面へ斜入射させる角度が増大すると諸収差が劣化して光学性能が劣化する。具体的には波面収差の劣化によるビームスポット径の劣化、走査線曲がりの増大等が挙げられる。光学性能面及び光走査装置の小型化の観点からも斜入射角をできるだけ小さく設定することが望ましいが、斜入射角を小さくするとそれぞれ対応する被走査面に各光ビームを分離することが困難となる。これは、斜入射角を小さく設定しつつ異なる被走査面へ向かう光ビームを分離するために分離位置での光ビームの副走査方向間隔は極力狭く設定されるが、このとき斜入射角が変化して光ビームの通過位置が副走査方向に変化すると光ビームが光学素子の設計上の位置を通過せずにビームスポット径が太ってしまい、光ビームが設計上の通過した場合若しくは設計上の位置からのずれ量によりビームスポット径が変動するために安定したビームスポット径を得ることができないためである。

「特許文献１０」には斜入射光学系を有する光源装置が開示されているが、上述した組み付け誤差、加工誤差等の影響により斜入射角が変化するという課題は解決されていない。また、全ての光学素子を組み付けた後にカップリングレンズを調整して副走査方向の角度を調整するという手法も考えられるが、これでは光源装置の組み付けや調整が複雑となり、調整時間増大等の問題点が発生して好ましくない。

特開平９−５４２６３号公報 特開２００１−４９４８号公報 特開２００１−１０１０７号公報 特開２００１−３３７２０号公報 特開２００３−５１１４号公報 特開平１１−１４９３２号公報 特開平１１−３８３４８号公報 特開２００４−７０１０９号公報 特開平１０−７３７７８号公報 特開２００４−２７１９０６号公報

本発明は上述した各問題点を解決し、光源の組み付け誤差の影響による光ビーム径の劣化を防止して光ビームピッチの偏差を抑えることが可能な光走査装置及びこれを用いた画像形成装置の提供、良好かつ安定した光学性能を実現しつつ小型化が可能な光走査装置及びこれを用いた画像形成装置の提供、低コストかつ低消費電力に適し良好で安定した画像品質を提供可能な画像形成装置の提供を目的とする。

請求項１記載の発明は、複数の光源から照射されるほぼ平行状態の複数の光ビームを少なくとも副走査方向に集束させる集束レンズと、前記集束レンズを支持する支持部材と、前記各光ビームを主走査方向に偏向する光偏向器と、前記支持部材を支持するハウジングとを有し、前記光偏向器に副走査方向に離隔した複数の前記光ビームを入射させる光走査装置において、前記複数の光ビームにそれぞれ対応して前記集束レンズ及び前記支持部材を複数有し、前記各集束レンズは他の前記集束レンズを支持する前記支持部材と干渉しない態様で互いに主走査方向にずれかつ副走査方向に並んで配置されていることを特徴とする。

請求項２記載の発明は、請求項１記載の光走査装置において、さらに前記各集束レンズは前記支持部材に対してそれぞれ調整された状態で固定され、前記各集束レンズの調整可能な方向が２以上あることを特徴とする。

請求項３記載の発明は、請求項２記載の光走査装置において、さらに前記各集束レンズは対応する前記支持部材に対して光硬化型の接着剤によりそれぞれ固定されることを特徴とする。

請求項４記載の発明は、請求項１ないし３の何れか１つに記載の光走査装置において、さらに前記各支持部材は前記ハウジングに対して光硬化型の接着剤によりそれぞれ固定されることを特徴とする。

請求項５記載の発明は、請求項３または４記載の光走査装置において、さらに前記各支持部材は光透過性を有する材質により構成されていることを特徴とする。

請求項６記載の発明は、請求項１ないし５の何れか１つに記載の光走査装置において、さらに前記各光ビームが副走査方向に所定角度を持って前記光偏光器に入射され、前記ハウジングは前記所定角度に応じて前記各支持部材を支持する支持面を有することを特徴とする。

請求項７記載の発明は、請求項１ないし６の何れか１つに記載の光走査装置において、さらにほぼ平行状態の複数の光ビームを複数組用いて光走査を行うことを特徴とする。

請求項８記載の発明は、請求項１ないし７の何れか１つに記載の光走査装置を有する画像形成装置であることを特徴とする。

本発明によれば、所望の光束を得ることができる任意の位置で支持部材を介して集束レンズを固定する構成を採用することにより、ビームウエスト径太り、ビームウエスト位置ずれ低減、ビームスポット位置ずれ低減等の複数の光学特性を同時に確保することができ、かつ集束レンズを光軸に平行な軸線周りに偏心調整可能に構成することにより、副走査方向における走査線間隔（副走査ビームピッチ）を最適化することができる。

本発明の第１の実施形態を示す図１ないし図５に示すように、光源１０１ａ，１０１ｂは光源保持部材１０７によって保持され、光源保持部材１０７にはカップリングレンズ１０２とアパーチャ１０３とが一体的に取り付けられている。各光源１０１ａ，１０１ｂから照射された光ビームは、カップリングレンズ１０２及びアパーチャ１０３を通過した後、支持部材１０８ａ，１０８ｂによって固定支持された集束レンズ１０４ａ，１０４ｂを通過する。

図６ないし図８に示すように、各集束レンズ１０４ａ，１０４ｂはそれぞれ対応する支持部材１０８ａ，１０８ｂによって主走査方向であるＹ方向にずれた位置関係であって、かつ副走査方向であるＺ方向に並ぶように配置されている。支持部材１０８ａ，１０８ｂは光軸進行方向と平行に形成された底面と光軸進行方向と直交するように形成された側面とを有しており、側面において対応する集束レンズ１０４ａ，１０４ｂを支持し、底面を図示しないハウジングに固定されている。ここで、支持部材１０８ａ，１０８ｂは図示しないハウジングに対して光軸方向及び主走査方向に固定位置が調整可能であり、集束レンズ１０４ａ，１０４ｂは、それぞれ主走査方向にずれて配置されていることから支持部材１０８ａ，１０８ｂに干渉することなく、対応する支持部材１０８ａ，１０８ｂに対して図７及び図８に示す６軸方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ，α，β，γの各方向）に固定位置が調整可能となるように構成されている。集束レンズ１０４ａ，１０４ｂは、位置調整用の専用治具やシミュレータ、あるいは手作業等によって所望の光束を得ることができる任意の位置において支持部材１０８ａ，１０８ｂに固定される。

上述したように、所望の光束を得ることができる任意の位置で支持部材１０８ａ，１０８ｂを介して集束レンズ１０４ａ，１０４ｂを図示しないハウジングに対して固定する構成を採用することにより、ビームウエスト径太り、ビームウエスト位置ずれ低減、ビームスポット位置ずれ低減等の複数の光学特性を同時に確保することができ、かつ集束レンズ１０４ａ，１０４ｂを光軸に平行な軸線周りに偏心調整可能に構成することにより、副走査方向における走査線間隔（副走査ビームピッチ）を最適化することができる。

また、本実施形態では集束レンズ１０４ａ，１０４ｂを６軸方向で位置調整可能に構成したので、必要に応じた調整方向の取捨選択が可能となり固定手段及び調整手段の汎用性を確保することができる。なお、本実施形態で示した支持部材１０８ａ，１０８ｂを介して集束レンズ１０４ａ，１０４ｂを固定する方式は集束レンズ１０４ａ，１０４ｂの固定方法に限られず、他の光学素子にも適用可能である。支持部材１０８ａ，１０８ｂの材質や形状等を最適化することにより経時的変化の少ない光学素子の固定が可能となり、温度変動等による光学特性の劣化を低減することができる。

上述した構成において、支持部材１０８ａ，１０８ｂとして光透過性を有し光学素子として使用可能なプラスチック材料を用いることにより、任意の位置を確保した後に支持部材１０８ａ，１０８ｂは図示しないハウジングに対して、集束レンズ１０４ａ，１０４ｂは支持部材１０８ａ，１０８ｂに対してそれぞれ光硬化型の接着剤により固定することができ、固定の簡易化を図ることができる。

図９ないし図１１は、第１の実施形態で示した集束レンズ１０４の支持構造を適用した光走査装置を示している。図９及び図１０において、光源１０１から照射された光ビームはカップリングレンズ１０２、アパーチャ１０３、集束レンズ１０４を介して光偏光器であるポリゴンミラー１０５に入射し、ポリゴンミラー１０５によって反射された光ビームは結像光学系１０６を介して感光体１１４上に結像される。ここで、図１１に示すように感光体１１４が４個の場合には、副走査方向に各感光体１１４に向かう光ビームをほぼ平行に並べてポリゴンミラー１０５に入射させる必要があるため、ポリゴンミラー１０５が副走査方向に向けて大型化してしまう
この問題点を解決すべく、図１２に示す本発明の第２の実施形態では、ポリゴンミラー１０５に対して副走査方向に所定角度Ａだけ傾いた光ビームが入射するように、光源１０１、カップリングレンズ１０２、アパーチャ１０３、集束レンズ１０４が支持面としての斜入射平面１１３ａを有するハウジング１１３に配置されている。また、２個以上の光源１０１を有し、各光源１０１から照射された光ビームがそれぞれ異なる角度でポリゴンミラー１０５に入射する場合には、図１３に示すようにポリゴンミラー１０５によって偏向される各光ビームがポリゴンミラー１０５への入射角度と同じ角度で偏向され、結像光学系１０６を介して各感光体１１４へと結像される。

上述の構成により、光路が３次元的に変化する軌跡を通り折り返しミラー等の部品点数を低減することができコストダウンを図ることができると共に、光走査装置全体の大きさを抑えることが可能となり装置の小型化を図ることができる。このような斜入射光学系では、副走査方向に所定角度傾けた光ビームをポリゴンミラー１０５に入射させることから、ポリゴンミラー１０５における副走査方向の姿勢の影響が偏向後の結像光学系１０６の性能、主に走査線曲がりに大きく影響を及ぼすが、本発明の集束レンズ１０４の支持構造を適用した光走査装置によれば斜入射角度の最適化を行うことができ、走査光学系における画像品質の劣化が軽減され、光ビーム径の劣化を防止することができる。

上述した光走査装置において、光源１０１を、例えば複数の発光点を有する半導体レーザアレイや単数の発光点若しくは複数の発光点を有する光源を複数用いたマルチビーム光源装置とし、図１４及び図１５に示すように複数の光ビームを感光体１１４の表面に同時に走査する構成とすることにより、高速化及び高密度化に対応した光走査装置及び画像形成装置を構成することができる。

図１６及び図１７は、第１及び第２の実施形態に適用可能なマルチビーム光源装置を構成する光源ユニットを示している。同図において、半導体レーザ２０１，２０２は、それぞれベース部材２０３，３０４に形成された嵌合孔２０３ａ，２０４ａに個別に嵌合されており、各ベース部材２０３，２０４は保持部材２０５にねじ２１０及びナット２１１によって締結されている。保持部材２０５の裏面側には各ベース部材２０３，２０４が取り付けられる取り付け面２０５ｄ，２０５ｅが形成されており、各取り付け面２０５ｄ，２０５ｅはそれぞれ主走査方向へ１°ずつ微妙に傾斜して形成されている。これにより、各半導体レーザ２０１，２０２も主走査方向へそれぞれ１°ずつ傾斜して取り付けられる。

半導体レーザ２０１，２０２は、その円筒状に形成されたヒートシンク部２０１ａ，２０２ａに切欠が形成されており、これをそれぞれベース部材２０３，２０４に形成された切欠２０３ｂ，２０４ｂに係合させることにより発光源の配列方向が合わせられている。また、コリメートレンズ２０６，２０７はそれぞれの外周を保持部材２０５に形成された溝状の取り付けガイド面２０５ａ，２０５ｂに沿わせて光軸方向の調整が行われ、発光点から射出した発散ビームが平行光束となるように位置決めされて接着されている。

上述したベース部材２０３，２０４を複数個光源保持部材に光源として副走査方向に配列して保持することにより、光源１０１を複数の発光点を有するマルチビーム光源装置とすることが可能となる。このとき、ベース部材２０３，２０４の各半導体レーザ２０１，２０２を副走査方向に角度を有するように構成してもよく、またそれぞれのベース部材２０３，２０４を副走査方向に角度を有するように保持部材２０５に保持させてもよい。また、この構成をベース部材２０３，２０４と保持部材２０５との間で適用し、保持部材２０５の他にベース部材２０３，２０４についても副走査方向の角度を調整する機構を設けてもよい。また、半導体レーザ２０１，２０２として複数の発光点を有する半導体レーザアレイを用いてもよく、半導体レーザアレイを複数持たずに単独でマルチビームを構成してもよい。

図１８は、上述した光走査装置を適用可能な画像形成装置を示している。同図において画像形成装置としてのタンデム型フルカラーレーザプリンタの装置内部下方には、水平方向に配設された給紙カセット１３から給送される図示しない転写紙を搬送する搬送ベルト１７が配設されており、搬送ベルト１７の上方にはイエロ用の感光体７Ｙ、マゼンタ用の感光体７Ｍ、シアン用の感光体７Ｃ，ブラック用の感光体７Ｋが転写紙の搬送方向上流側から順に等間隔で配設されている。

各感光体７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋは全て同じ径であり、電子写真プロセスに従って各プロセスを実行する帯電チャージャ８、光走査光学系６、現像装置１０、転写チャージャ１１、クリーニング装置１２等が各感光体７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋの周囲にそれぞれ配設されている。すなわち本実施形態では各感光体７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋの表面を各色毎に設定された被走査面ないしは被照射面とするものであり、それぞれの感光体７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋに対して光走査装置６Ｙ，６Ｍ，６Ｃ，６Ｋが１対１の対応関係で配設されている。ただし、走査レンズＬ１は共通で使用されている。

搬送ベルト１７の周囲には、感光体７Ｙの転写紙搬送方向上流側にレジストローラ対１６及びベルト帯電チャージャ２０が配設されており、感光体７Ｋの転写紙搬送方向下流側にベルト分離チャージャ２１、除電チャージャ２２、クリーニング装置２３等が順に配設されている。また、ベルト分離チャージャ２１の転写紙搬送方向下流側には定着装置２４が配設されており、定着装置２４を通過した転写紙は排紙ローラ２５によって排紙トレイ２６上に排出される。

このような構成において、例えばフルカラーモード（複数色モード）時であれば各感光体７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋに対して各色の画像信号に基づき各光走査装置６Ｙ，６Ｍ，６Ｃ，６Ｋから光ビームがそれぞれ照射され、各感光体７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｋの表面に各色信号に対応した静電潜像がそれぞれ形成される。形成された各静電潜像はそれぞれ対応する現像装置１０Ｙ，１０Ｍ，１０Ｃ，１０Ｋにより各色トナーで現像されてトナー像となり、搬送ベルト１７上に静電的に吸着されて搬送される転写紙上に順次転写されることにより重ね合わせられ、転写紙上にフルカラー画像が形成される。形成されたフルカラー画像は定着装置２４で転写紙上に定着され、画像が定着された転写紙は排紙ローラ２５によって排紙トレイ２６上に排出される。

上述の画像形成装置に用いられる各光走査装置６Ｙ，６Ｍ，６Ｃ，６Ｋとして上述した光走査装置を用いることにより、低コスト化、低消費電力化、小型化に適した斜入射方式の光走査装置において、組み付け誤差や加工誤差等の影響による光ビームの副走査方向への角度変化を低減し、走査線曲がり及び波面収差の劣化を低減することができ、良好で安定した画像品質を実現可能な画像形成装置を提供することができる。

上述した各実施形態では、画像形成装置としてタンデム型のフルカラーレーザプリンタを用いた例を示したが、本発明が適用可能な画像形成装置はこれに限られず、複写装置、ファクシミリ、プロッタ、これらを複合した複合機等の他の画像形成装置にも本発明は適用可能である。

本発明の第１の実施形態を採用した集束レンズの支持構造を示す概略正面斜視図である。 本発明の第１の実施形態を採用した集束レンズの支持構造を示す概略背面斜視図である。 本発明の第１の実施形態を採用した集束レンズの支持構造を示す概略側面図である。 本発明の第１の実施形態を採用した集束レンズの支持構造を示す概略正面分解斜視図である。 本発明の第１の実施形態を採用した集束レンズの支持構造を示す概略背面分解斜視図である。 本発明の第１の実施形態における集束レンズの支持状態を説明する概略図である。 本発明の第１の実施形態における集束レンズの調整方向を説明する概略図である。 本発明の第１の実施形態における集束レンズの調整方向を説明する概略図である。 本発明の第１の実施形態における集束レンズの支持構造を用いた光走査装置の概略平面図である。 本発明の第１の実施形態における集束レンズの支持構造を用いた光走査装置の概略正面図である。 本発明の第１の実施形態における集束レンズの支持構造及びマルチビーム光源を用いた光走査装置の概略正面図である。 本発明の第２の実施形態における光走査装置の概略正面図である。 本発明の第２の実施形態におけるマルチビーム光源を用いた光走査装置の概略正面図である。 本発明の第１及び第２の実施形態を適用可能な光走査装置の概略斜視図である。 本発明の第１及び第２の実施形態を適用可能な光走査装置の概略斜視図である。 本発明の第１及び第２の実施形態に用いられるマルチビーム光源装置の概略正面分解斜視図である。 本発明の第１及び第２の実施形態に用いられるマルチビーム光源装置の概略背面分解斜視図である。 本発明の光走査装置を適用可能な画像形成装置の概略正面図である。

符号の説明

１０１ａ，１０１ｂ 光源
１０４ａ，１０４ｂ 集束レンズ
１０５ 光偏向器（ポリゴンミラー）
１０８ａ，１０８ｂ 支持部材

Claims (8)

1. 複数の光源から照射されるほぼ平行状態の複数の光ビームを少なくとも副走査方向に集束させる集束レンズと、前記集束レンズを支持する支持部材と、前記各光ビームを主走査方向に偏向する光偏向器と、前記支持部材を支持するハウジングとを有し、前記光偏向器に副走査方向に離隔した複数の前記光ビームを入射させる光走査装置において、
   前記複数の光ビームにそれぞれ対応して前記集束レンズ及び前記支持部材を複数有し、前記各集束レンズは他の前記集束レンズを支持する前記支持部材と干渉しない態様で互いに主走査方向にずれかつ副走査方向に並んで配置されていることを特徴とする光走査装置。
2. 請求項１記載の光走査装置において、
   前記各集束レンズは前記支持部材に対してそれぞれ調整された状態で固定され、前記各集束レンズの調整可能な方向が２以上あることを特徴とする光走査装置。
3. 請求項２記載の光走査装置において、
   前記各集束レンズは対応する前記支持部材に対して光硬化型の接着剤によりそれぞれ固定されることを特徴とする光走査装置。
4. 請求項１ないし３の何れか１つに記載の光走査装置において、
   前記各支持部材は前記ハウジングに対して光硬化型の接着剤によりそれぞれ固定されることを特徴とする光走査装置。
5. 請求項３または４記載の光走査装置において、
   前記各支持部材は光透過性を有する材質により構成されていることを特徴とする光走査装置。
6. 請求項１ないし５の何れか１つに記載の光走査装置において、
   前記各光ビームが副走査方向に所定角度を持って前記光偏光器に入射され、前記ハウジングは前記所定角度に応じて前記各支持部材を支持する支持面を有することを特徴とする光走査装置。
7. 請求項１ないし６の何れか１つに記載の光走査装置において、
   ほぼ平行状態の複数の光ビームを複数組用いて光走査を行うことを特徴とする光走査装置。
8. 請求項１ないし７の何れか１つに記載の光走査装置を有することを特徴とする画像形成装置。

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