JP2009168476A - 欠陥検査方法、及び欠陥検査システム - Google Patents
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Abstract
被検査物の検査により得られたパターン信号の飽和による欠陥の見逃しを防ぎ、早期に欠陥発生の原因究明ができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】
パターンが形成された被検査物にレーザ光を照射し、該被検査物からの信号を検出して欠陥を検出する欠陥検査において、被検査物に関するレイアウトデータに含まれるパターン情報を入力し、該入力されたパターン情報から被検査物の複数の被検査領域毎に、配置,繰り返し性,粗密のうちの少なくともいずれかひとつを判定し、該判定結果に基づいて検出した信号の飽和レベルを予測し、該信号が飽和しないような透過率条件を決定する。
【選択図】図3
Description
2 メモリ部
3 論理部
4 メモリパターン
5 論理パターン
6,7 欠陥
9 欠陥検査装置
10 装置制御部
13 信号処理部
14 被検査ウエハ
19,28 透過率可変フィルタ
20 空間フィルタ
21,31,32 検出器
26 インターフェイス
29 低透過率部
30 高透過率部
33 レイアウトデータ格納システム
34 レイアウトデータベース
35,39 モニタ
38 データ格納メモリ
40 データ処理システム
Claims (7)
- パターンが形成された被検査物にレーザ光を照射し、該被検査物からの信号を検出して欠陥を検出する欠陥検査方法において、
前記被検査物に関するレイアウトデータに含まれるパターン情報を入力し、該入力されたパターン情報から前記被検査物の複数の被検査領域毎に、配置,繰り返し性,粗密のうちの少なくともいずれかひとつを判定し、該判定結果に基づいて前記検出した信号の飽和レベルを予測し、該信号が飽和しないような透過率条件を決定することを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1の記載において、前記欠陥を検出する検査条件が複数であり、前記透過率条件から欠陥検出数が最も大きい検査条件における透過率条件が選定されることを特徴とする欠陥検査方法。
- 請求項2の記載において、前記検査条件は、前記被検査物に関する情報,前記レーザ光のパワー,空間フィルタ,透過率可変フィルタの透過率のうちの少なくともひとつであることを特徴とする欠陥検査方法。
- パターンが形成された被検査物にレーザ光を照射し、該被検査物からの信号を検出して欠陥を検出する欠陥検査システムにおいて、
前記被検査物に関するレイアウトデータに含まれるパターン情報を記憶する記憶部と、該記憶されたパターン情報から前記被検査物の複数の被検査領域毎に、配置,繰り返し性,粗密のうちの少なくともいずれかひとつを判定し、該判定結果に基づいて前記検出した信号の飽和レベルを予測し、該信号が飽和しないような透過率条件を決定するマイクロプロセッサとを備えたことを特徴とする欠陥検査システム。 - 請求項4の記載において、前記欠陥を検出する検査条件が複数であり、前記透過率条件から欠陥検出数が最も大きい検査条件における透過率条件が選定されることを特徴とする欠陥検査システム。
- 請求項5の記載において、前記検査条件は、前記被検査物に関する情報,前記レーザ光のパワー,空間フィルタ,透過率可変フィルタの透過率のうちの少なくともひとつであることを特徴とする欠陥検査システム。
- パターンが形成された被検査物にレーザ光を照射し、該被検査物からの信号を検出して欠陥を検出する欠陥検査システムにおいて、
前記信号を検出する検出器に設けられ、該信号の透過率を可変にする透過率可変フィルタと、前記検出器で検出する信号が飽和レベル以下で検出可能なように、被検査物のレイアウトに基づいて前記透過率可変フィルタにより前記透過率を選定するマイクロプロセッサとを備えたことを特徴とする欠陥検査システム。
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