JP2009132647A - （ｅ３，ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタート及びBrazilian apple leafminerの性フェロモンである（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタートの製造方法を提供する。
【解決手段】５，５−ジエトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテルを酸の存在下で加水分解して、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテルを得るステップと、上記４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルメトキシメチルエーテルをウィッティッヒ反応を用いてアルキリデントリフェニルホスホランと反応させて（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルを得るステップと、上記（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルを出発物質として（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートを得るステップとを含む（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートの製造方法を提供する。
【選択図】なし
【解決手段】５，５−ジエトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテルを酸の存在下で加水分解して、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテルを得るステップと、上記４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルメトキシメチルエーテルをウィッティッヒ反応を用いてアルキリデントリフェニルホスホランと反応させて（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルを得るステップと、上記（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルを出発物質として（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートを得るステップとを含む（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートの製造方法を提供する。
【選択図】なし
Description
本発明は、南米のブラジル、ウルグアイ等におけるリンゴの害虫であるBrazilian apple leafminer (Bonagota cranaodes)の性フェロモン成分（Ｅ３，Ｚ５）−３，５-ドデカジエニルアセタートの製造方法に関するものである。
Brazilian apple leafminerは、南米のブラジル、ウルグアイ等におけるリンゴの重要な害虫の１つであり、近年その被害が問題となっている。 Brazilian apple leafminerの防除は現在農薬等を用いて行われているが、その効果は充分なものでは無く、地球環境、人的健康面等から新しい防除方法の開発が求められている。
Brazilian apple leafminerの性フェロモンについては、１９９６年C.Ricard Uneliusらによりその主成分が（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタートであること明らかになった（非特許文献１）。また、M.D.A.Coraciniらは、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−テトラデカジエニルアセタートが、性フェロモンとして副成分の一つで有ることを報告しており、末端アセトキシル基から３位にＥ体、５位にＺ体の共役二重結合を有する（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタート類がBrazilian apple leafminerの性フェロモンとして有効であることが知られている（非特許文献２）。
また、工業的に大量に用いられるアルコールの保護基としては、一般にアセチル基（非特許文献３）、１−エトキシエチル基（非特許文献４）、テトラヒドロピラニル基（非特許文献５）等が用いられている。
C. R. Unelius et.al., Tettrahedron Lett., 37, 1505 (1996) M. D. A. Coracini, J. Appl. Ent., 127, 427 (2003) Protecting Groups. P. J. Kocienski, , Georg Thieme Verlag Stuttgart: New York, P22 (1994) Protecting Groups. P. J. Kocienski, , Georg Thieme Verlag Stuttgart: New York, P84 (1994) Protecting Groups. P. J. Kocienski, , Georg Thieme Verlag Stuttgart: New York, P83 (1994)
C. R. Unelius et.al., Tettrahedron Lett., 37, 1505 (1996) M. D. A. Coracini, J. Appl. Ent., 127, 427 (2003) Protecting Groups. P. J. Kocienski, , Georg Thieme Verlag Stuttgart: New York, P22 (1994) Protecting Groups. P. J. Kocienski, , Georg Thieme Verlag Stuttgart: New York, P84 (1994) Protecting Groups. P. J. Kocienski, , Georg Thieme Verlag Stuttgart: New York, P83 (1994)
本発明は、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタート及びBrazilian apple leafminerの性フェロモンである（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタートの製造方法を提供するものである。
末端アセトキシル基から３位にＥ体、５位にＺ体の共役二重結を有する（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートの製造において、末端アルコール基から３位に三重結合を有する３−ブチン−１−オールを出発物質とすることが考えられる。この３−ブチン−１−オールを出発物質とする（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートの製造方法において、アルコール基が悪影響を与えるカルボアニオン等を用いる工程を必要とするために、３−ブチン−１−オールの末端アルコール基を保護しておく必要がある。
本発明者は、３−ブチン−１−オールを出発物質として、このアルコール部分を安価で大量入手可能なジメトキシメタンによりメトキシメチル基で保護することで得られる５，５−ジエトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテルのアセタール部分をアルコール保護基の脱離無く選択的に酸加水分解することができ、得られる４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテルとアルキリデンホスホランとをウィッティッヒ反応を行っても脱離反応による１，３，５−アルカトリエンの生成は極めて少ないことを見出した。また、その後の脱保護反応も極めて良好な収率で進行し、目的とする（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートを効率よく製造できることを見出し、本発明をなすに至ったものである。
本発明者は、３−ブチン−１−オールを出発物質として、このアルコール部分を安価で大量入手可能なジメトキシメタンによりメトキシメチル基で保護することで得られる５，５−ジエトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテルのアセタール部分をアルコール保護基の脱離無く選択的に酸加水分解することができ、得られる４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテルとアルキリデンホスホランとをウィッティッヒ反応を行っても脱離反応による１，３，５−アルカトリエンの生成は極めて少ないことを見出した。また、その後の脱保護反応も極めて良好な収率で進行し、目的とする（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートを効率よく製造できることを見出し、本発明をなすに至ったものである。
本発明は、５，５−ジエトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテルを酸の存在下で加水分解して、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテルを得るステップと、
上記４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルメトキシメチルエーテルをウィッティッヒ反応を用いてアルキリデントリフェニルホスホランと反応させて（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルを得るステップと、
上記（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルから（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートを得るステップと
を含む（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートの製造方法を提供する。
アルキリデントリフェニルホスホランは、好ましくは、
ＲＣＨ＝ＰＰｈ３
（上式中、Ｒは炭素数４〜１２、特に炭素数６又は８を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。）で表され、
（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルは、好ましくは、
ＲＣＨ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ−Ｃ−ＯＣＨ２ＯＣＨ３
で表される。
上記４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルメトキシメチルエーテルをウィッティッヒ反応を用いてアルキリデントリフェニルホスホランと反応させて（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルを得るステップと、
上記（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルから（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートを得るステップと
を含む（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートの製造方法を提供する。
アルキリデントリフェニルホスホランは、好ましくは、
ＲＣＨ＝ＰＰｈ３
（上式中、Ｒは炭素数４〜１２、特に炭素数６又は８を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。）で表され、
（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルは、好ましくは、
ＲＣＨ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ−Ｃ−ＯＣＨ２ＯＣＨ３
で表される。
本発明によれば、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタート及びBrazilian apple leafminerの性フェロモンである（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタートを工業的に穏和な条件により、効率よく製造することができる。
以下に、本発明における製造方法について詳細に説明する。
まず、出発物質である５，５−ジエトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテルは、例えば、３−ブチン−１−オールをジメトキシメタンと反応させて３−ブチニル−メトキシメチルエーテルを得た後、これをメチルマグネシウムクロリド、続いてオルトギ酸エチルと反応させて５，５−ジエトキシ−３−ペンチニル−メトキシメチルエーテルとし、これを接触水素添加して得られる。
具体的には、３−ブチン−１−オールは、例えば下記に示す公知の方法により容易に製造することができる。
まず、出発物質である５，５−ジエトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテルは、例えば、３−ブチン−１−オールをジメトキシメタンと反応させて３−ブチニル−メトキシメチルエーテルを得た後、これをメチルマグネシウムクロリド、続いてオルトギ酸エチルと反応させて５，５−ジエトキシ−３−ペンチニル−メトキシメチルエーテルとし、これを接触水素添加して得られる。
具体的には、３−ブチン−１−オールは、例えば下記に示す公知の方法により容易に製造することができる。
３−ブチン−１−オール（１）は、例えばパラトルエンスルホン酸及び臭化リチウム存在下、ジメトキシメタンと反応させることにより、アルコール基を保護して、３−ブチニル−メトキシメチルエーテル（２）にすることができる。この反応において、３−ブチン−１−オール（１）１ｍｏｌに対し、パラトルエンスルホン酸は０．１〜１．０ｍｏｌ、臭化リチウムは０．１〜０．５ｍｏｌ、ジメトキシメタンは３．５〜５．０ｍｏｌ用いることが好ましい。また、反応温度は、３０〜４５℃が望ましい。
３−ブチニル−メトキシメチルエーテル（２）は、メチルマグネシウムクロリド、続いてオルトギ酸エチルと反応させて５，５−ジエトキシ−３−ペンチニル−メトキシメチルエーテル（３）にすることができる。好ましくは、下記の方法が挙げられる。
まず、公知の方法によりテトラヒドロフラン中において、メチルクロリドと金属マグネシウムより、メチルマグネシウムクロリドのテトラヒドロフラン溶液を調製する。これに３−ブチニル−メトキシメチルエーテル（２）を滴下し、好ましくは６０〜８０℃で反応させる。続いて、オルトギ酸エチル及びトルエンを添加、昇温してテトラヒドロフランを留去し、好ましくは８０〜９５℃にて反応させると５，５−ジエトキシ−３−ペンチニル−メトキシメチルエーテル（３）が得られる。この反応において、３−ブチニル−メトキシメチルエーテル（２）１ｍｏｌに対し、メチルマグネシウムクロリドは１．１〜１．３ｍｏｌ、オルソギ酸エチルは１．２〜１．４ｍｏｌが好ましく、テトラヒドロフランは３００〜５００ｇ、トルエンは２５０〜３００ｇが好ましい。
まず、公知の方法によりテトラヒドロフラン中において、メチルクロリドと金属マグネシウムより、メチルマグネシウムクロリドのテトラヒドロフラン溶液を調製する。これに３−ブチニル−メトキシメチルエーテル（２）を滴下し、好ましくは６０〜８０℃で反応させる。続いて、オルトギ酸エチル及びトルエンを添加、昇温してテトラヒドロフランを留去し、好ましくは８０〜９５℃にて反応させると５，５−ジエトキシ−３−ペンチニル−メトキシメチルエーテル（３）が得られる。この反応において、３−ブチニル−メトキシメチルエーテル（２）１ｍｏｌに対し、メチルマグネシウムクロリドは１．１〜１．３ｍｏｌ、オルソギ酸エチルは１．２〜１．４ｍｏｌが好ましく、テトラヒドロフランは３００〜５００ｇ、トルエンは２５０〜３００ｇが好ましい。
５，５−ジエトキシ−３−ペンチニル−メトキシメチルエーテル（３）は、三重結合を接触水素添加して（Ｚ）−二重結合に還元すると、５，５−ジエトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテル（４）にすることができる。
この反応に使用する触媒は、パラジウム−炭素、パラジウム−アルミナ、リンドラー触媒、ラネーニッケル、Ｐ２−ニッケル等の触媒を挙げることができるが、特にＰ２−ニッケルが好ましい。また、反応には過水添を防止する目的で、ピリジン、キノリン、エチレンジアミン等のアミン類を添加してもよい。水素圧は、常圧〜０．５ＭＰａが好ましく、反応温度は３０〜５０℃が好ましい。
この反応に使用する触媒は、パラジウム−炭素、パラジウム−アルミナ、リンドラー触媒、ラネーニッケル、Ｐ２−ニッケル等の触媒を挙げることができるが、特にＰ２−ニッケルが好ましい。また、反応には過水添を防止する目的で、ピリジン、キノリン、エチレンジアミン等のアミン類を添加してもよい。水素圧は、常圧〜０．５ＭＰａが好ましく、反応温度は３０〜５０℃が好ましい。
５，５−ジメトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテル（４）は、例えば、好ましくはトルエンもしくはｎ−ヘキサン中において、酸（好ましくは塩化水素水）を添加することによりジエチルアセタール部分がアルデヒドへと加水分解されてα，β−不飽和アルデヒドとなるため、二重結合はより安定なＥ体に異性化し、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテル（５）が得られる。この反応において、塩化水素水溶液は５〜１０質量％が好ましく、５，５−ジメトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテル（４）１ｍｏｌに対し１００〜１３０ｇが好ましい。また、反応温度は１０〜２０℃が好ましい。
ウィッティッヒ反応を用いて、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテル（５）とアルキリデントリフェニルホスホラン（７）と反応させて（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテル（８）を得ることができる。
例えば、公知の方法によりジメチルホルムアミド中、臭化アルキルとトリフェニルホスフィンとを反応しアルキルトリフェニルホスホニウムブロミド（６）のジメチルホルムアミド溶液を合成し、これにテトラヒドロフランを添加した後、カリウムｔ−ブトキシドを添加することにより、アルキリデントリフェニルホスホラン（７）を合成する。続いて、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテル（５）を滴下して、ウィッティッヒ反応により（Ｚ）−二重結合を構築し（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテル（８）を得る。また、この反応において脱離反応により副成する１，３，５−アルカトリエンは、２．０％以下と低い。
例えば、公知の方法によりジメチルホルムアミド中、臭化アルキルとトリフェニルホスフィンとを反応しアルキルトリフェニルホスホニウムブロミド（６）のジメチルホルムアミド溶液を合成し、これにテトラヒドロフランを添加した後、カリウムｔ−ブトキシドを添加することにより、アルキリデントリフェニルホスホラン（７）を合成する。続いて、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテル（５）を滴下して、ウィッティッヒ反応により（Ｚ）−二重結合を構築し（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテル（８）を得る。また、この反応において脱離反応により副成する１，３，５−アルカトリエンは、２．０％以下と低い。
この反応において、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテル（５）１ｍｏｌに対し、臭化アルキルは１．１〜１．２ｍｏｌ、トリフェニルホスフィンは１．０〜１．１ｍｏｌ、ジメチルホルムアミドは１００〜１５０ｇが好ましい。また、ホスホラン合成反応においては、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテル（５）１ｍｏｌに対し、カリウムｔ−ブトキシドは１．００〜１．０３ｍｏｌが好ましい。反応温度は１５〜２０℃が好ましい。また、ウィッティッヒ反応は、反応温度−７０〜３０℃で反応することができるが、特に−１５℃〜−１０℃が好ましい。
（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテル（８）は、酸と処理して（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエノール（９）にすることができる
例えば、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテル（８）をメタノール中、塩化水素水を反応させることにより、メトキシメチル基は脱保護され（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエノール（９）が得られる。反応は副生するジメトキシメタンを反応器に付属する蒸留塔を用いて留去することにより良好に進行し、反応中ＥＺ体の異性化も確認できない。
例えば、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテル（８）をメタノール中、塩化水素水を反応させることにより、メトキシメチル基は脱保護され（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエノール（９）が得られる。反応は副生するジメトキシメタンを反応器に付属する蒸留塔を用いて留去することにより良好に進行し、反応中ＥＺ体の異性化も確認できない。
この反応において、塩化水素水の濃度は１０〜３７質量％が好ましく、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテル（８）１ｍｏｌに対して３００〜４００ｇが好ましい。また、メタノールは（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテル（８）１ｍｏｌに対して５００〜１２００ｇが好ましい。反応温度は、ジメトキシメタンの沸点４２〜４４℃以上の反応温度で行い、特に６０〜６５℃が望ましい。
その後、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエノール（９）は、アセチル化して（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタート（１０）とすることができる。
例えば、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエノール（９）を、トルエン中、各種触媒下、無水酢酸と反応させて、目的とする（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタート（１０）が得られる。
例えば、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエノール（９）を、トルエン中、各種触媒下、無水酢酸と反応させて、目的とする（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタート（１０）が得られる。
この反応において（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエノール（９）１ｍｏｌに対してトルエンは０〜２００ｇ、無水酢酸は１．１〜１．３ｍｏｌが好ましい。触媒は、ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン等一般的に用いられるものでよい。また、反応温度は６〜７０℃が望ましい。
実施例１
＜４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテルの製造＞
５，５−ジメトキシ−（Ｚ）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテルの濃縮液は、そのままトルエン（８０．０ｇ）に溶解し反応器に入れ、１０〜１５℃で撹拌した。これに８質量％塩化水素水を１５〜２０℃にて滴下し、そのまま１時間撹拌した。撹拌後、トルエン（２００ｇ）を添加し抽出し、水層を除去、有機層は食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。
得られた有機層は、減圧下溶媒を除去濃縮し残渣を減圧蒸留すると、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテル（ｂｐ：６５〜６６℃［２ｍｍＨｇ］、１５２．１６ｇ、１．０６ｍｏｌ）が収率８４．０％で得られた。
[核磁気共鳴スペクトル] 1H-NMR (300MHz,CDCl3):δ2.60(2H，dt), 3.32(3H, s), 3.67(2H, t), 4.60(2H, s), 6.16(12H, dd), 6.85(1H, dt), 9.49(1H, d) ; 13C-NMR (75.6MHz, CDCl3):δ32.94, 55.27, 65.42, 96.41, 134.20, 154.81, 193.71
[マススペクトル] EI-マススペクトル(70eV):m/z 114(M+), 83, 75, 55, 45; CIマススペクトル (イソブタン)： 115(M+H)
＜４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテルの製造＞
５，５−ジメトキシ−（Ｚ）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテルの濃縮液は、そのままトルエン（８０．０ｇ）に溶解し反応器に入れ、１０〜１５℃で撹拌した。これに８質量％塩化水素水を１５〜２０℃にて滴下し、そのまま１時間撹拌した。撹拌後、トルエン（２００ｇ）を添加し抽出し、水層を除去、有機層は食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。
得られた有機層は、減圧下溶媒を除去濃縮し残渣を減圧蒸留すると、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテル（ｂｐ：６５〜６６℃［２ｍｍＨｇ］、１５２．１６ｇ、１．０６ｍｏｌ）が収率８４．０％で得られた。
[核磁気共鳴スペクトル] 1H-NMR (300MHz,CDCl3):δ2.60(2H，dt), 3.32(3H, s), 3.67(2H, t), 4.60(2H, s), 6.16(12H, dd), 6.85(1H, dt), 9.49(1H, d) ; 13C-NMR (75.6MHz, CDCl3):δ32.94, 55.27, 65.42, 96.41, 134.20, 154.81, 193.71
[マススペクトル] EI-マススペクトル(70eV):m/z 114(M+), 83, 75, 55, 45; CIマススペクトル (イソブタン)： 115(M+H)
＜（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルメトキシメチルエーテルの製造＞
反応器にトリフェニルホスフィン（１０５．０２ｇ、０．４０ｍｏｌ）、臭化ｎ−ヘプチル（７６．９３ｇ、０．４３ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８２．０ｇ）を添加し、１０５〜１１０℃で２６〜３０時間撹拌する。撹拌後、反応液は２０℃まで冷却してテトラヒドロフラン（３７０．０ｇ）を添加し、続いてカリウムt-ブトキシド（４２．１０ｇ、０．３７５ｍｏｌ）を１０〜１５℃で添加、２０℃において１時間撹拌した。撹拌後反応液は−２０℃まで冷却して４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテル（５２．４７ｇ、０．３６４ｍｏｌ）を−１５〜−５℃にて滴下した。
滴下後、１時間かけ２０〜２５℃まで昇温、そのまま１時間撹拌した。その後反応液は、水（２００ｇ）を添加することで反応を停止し、トルエン（２００ｇ）を加え抽出、有機層は水で洗浄した後、減圧下トルエンを除去濃縮した。
濃縮後、ｎ−ヘキサン（２５０ｇ）を添加すると、トリフェニルホスフィンオキシドが析出するため、濾過して分離した。濾液は再度減圧下、濃縮して濃縮液を減圧蒸留すると、目的とする（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルメトキシメチルエーテル（ｂｐ：８２〜８６℃［１ｍｍＨｇ］、５２．９８ｇ、０．２３ｍｏｌ）が、収率６５．２％で得られた。
また、ウィッティッヒ反応において、ガスクロマトグラフィー（ＤＢ−５：３０ｍ×０．２５ｍｍφ、１５０℃から１０℃／分で２８０℃に昇温）より、１，３，５−アルカトリエンは１．３２％、異性体比はＥＺ：ＥＥ＝８９．３３：１０．６７であった。
[マススペクトル] EI-マススペクトル(70eV):m/z 226(M+), 164, 138, 110, 95, 81, 67, 55
反応器にトリフェニルホスフィン（１０５．０２ｇ、０．４０ｍｏｌ）、臭化ｎ−ヘプチル（７６．９３ｇ、０．４３ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８２．０ｇ）を添加し、１０５〜１１０℃で２６〜３０時間撹拌する。撹拌後、反応液は２０℃まで冷却してテトラヒドロフラン（３７０．０ｇ）を添加し、続いてカリウムt-ブトキシド（４２．１０ｇ、０．３７５ｍｏｌ）を１０〜１５℃で添加、２０℃において１時間撹拌した。撹拌後反応液は−２０℃まで冷却して４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテル（５２．４７ｇ、０．３６４ｍｏｌ）を−１５〜−５℃にて滴下した。
滴下後、１時間かけ２０〜２５℃まで昇温、そのまま１時間撹拌した。その後反応液は、水（２００ｇ）を添加することで反応を停止し、トルエン（２００ｇ）を加え抽出、有機層は水で洗浄した後、減圧下トルエンを除去濃縮した。
濃縮後、ｎ−ヘキサン（２５０ｇ）を添加すると、トリフェニルホスフィンオキシドが析出するため、濾過して分離した。濾液は再度減圧下、濃縮して濃縮液を減圧蒸留すると、目的とする（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルメトキシメチルエーテル（ｂｐ：８２〜８６℃［１ｍｍＨｇ］、５２．９８ｇ、０．２３ｍｏｌ）が、収率６５．２％で得られた。
また、ウィッティッヒ反応において、ガスクロマトグラフィー（ＤＢ−５：３０ｍ×０．２５ｍｍφ、１５０℃から１０℃／分で２８０℃に昇温）より、１，３，５−アルカトリエンは１．３２％、異性体比はＥＺ：ＥＥ＝８９．３３：１０．６７であった。
[マススペクトル] EI-マススペクトル(70eV):m/z 226(M+), 164, 138, 110, 95, 81, 67, 55
＜（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエノールの製造＞
（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルメトキシメチルエーテル（54.55g, 0.241mol）、メタノール（３００．８４ｇ）を、蒸留塔を備えた反応器に仕込み、２２〜２５℃で撹拌し、これに２０質量％塩化水素水（１３５ｇ）を２５〜３０℃、１時間で滴下する。
滴下後、反応液は６０℃まで昇温し１時間撹拌、徐々に４５０ｍｍＨｇまで減圧して、蒸留塔より副成するジメトキシメタンとメタノールの混合物を留去、５時間撹拌した。撹拌後、反応液は２５℃まで冷却しトルエン（２００ｇ）を加え抽出、有機層は食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、減圧下溶媒を除去し（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエノールの濃縮液（６２．８２ｇ、７３．１６％）を得た。この濃縮液は精製せずに、そのまま次工程に用いた。
異性体比はガスクロマトグラフィー（ＤＢ−５：３０ｍ×０．２５ｍｍφ、１５０℃から１０℃／分で２８０℃に昇温）より求めるとＥＺ：ＥＥ＝９１．２４：８．７５であった。
[マススペクトル] EI-マススペクトル(70eV):m/z 182(M+), 109, 95, 79, 67; CIマススペクトル (イソブタン)： 183(M+H)
（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルメトキシメチルエーテル（54.55g, 0.241mol）、メタノール（３００．８４ｇ）を、蒸留塔を備えた反応器に仕込み、２２〜２５℃で撹拌し、これに２０質量％塩化水素水（１３５ｇ）を２５〜３０℃、１時間で滴下する。
滴下後、反応液は６０℃まで昇温し１時間撹拌、徐々に４５０ｍｍＨｇまで減圧して、蒸留塔より副成するジメトキシメタンとメタノールの混合物を留去、５時間撹拌した。撹拌後、反応液は２５℃まで冷却しトルエン（２００ｇ）を加え抽出、有機層は食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、減圧下溶媒を除去し（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエノールの濃縮液（６２．８２ｇ、７３．１６％）を得た。この濃縮液は精製せずに、そのまま次工程に用いた。
異性体比はガスクロマトグラフィー（ＤＢ−５：３０ｍ×０．２５ｍｍφ、１５０℃から１０℃／分で２８０℃に昇温）より求めるとＥＺ：ＥＥ＝９１．２４：８．７５であった。
[マススペクトル] EI-マススペクトル(70eV):m/z 182(M+), 109, 95, 79, 67; CIマススペクトル (イソブタン)： 183(M+H)
＜（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタートの製造＞
反応器に（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエノールの濃縮液（６２．８２ｇ、７３．１６％）、トルエン（１５０ｇ）、無水酢酸（１０ｇ、０．０９８ｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン（１．０ｇ）を入れ５０〜６０℃で撹拌する。これに無水酢酸（２３．４５ｇ、０．２３ｍｏｌ）を６５〜７０℃、３０分で滴下し、７５℃で１時間撹拌する。
撹拌後、反応液は３０℃まで冷却し水（１００ｇ）で反応を停止した。分液した後、有機層は食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、減圧下溶媒を除去濃縮して残渣を減圧蒸留すると、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタート（ｂｐ：９２〜９６℃［１ｍｍＨｇ］、５１．４３ｇ、０．２３ｍｏｌ）が収率９５．１％で得られた。
異性体比はガスクロマトグラフィー（ＤＢ−５：３０ｍ×０．２５ｍｍφ、１５０℃から１０℃／分で２８０℃に昇温）より求めるとＥＺ：ＥＥ＝８９．６５：１０．３５であった。
[核磁気共鳴スペクトル] 1H-NMR (300MHz, CDCl3):δ0.88(3H, t), 1.27-1.43(8H, m), 2.05(3H, s), 2.14(2H, dt), 2.43(2H, dt), 4.11(2H, t), 5.37(1H, dt), 5.60(1H, dt), 5.95(1H, dd), 6.39(1H, dd); 13C-NMR (75.6MHz,CDCl3):δ14.10, 20.97, 22.64, 27.70, 28.94, 29.66, 31.76, 32.17, 63.80, 128.09, 128.24, 128.65, 131.56, 171.07
[マススペクトル] EI-マススペクトル(70eV):m/z 165(M+-59), 138, 110, 93, 80, 67; CI-マススペクトル (イソブタン)： 225(M+H)
[赤外吸収スペクトル] (NaCl): νmax 3020, 2956, 2927, 2856, 1743, 1457, 1382, 1363, 1236, 1035, 983, 948
反応器に（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエノールの濃縮液（６２．８２ｇ、７３．１６％）、トルエン（１５０ｇ）、無水酢酸（１０ｇ、０．０９８ｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン（１．０ｇ）を入れ５０〜６０℃で撹拌する。これに無水酢酸（２３．４５ｇ、０．２３ｍｏｌ）を６５〜７０℃、３０分で滴下し、７５℃で１時間撹拌する。
撹拌後、反応液は３０℃まで冷却し水（１００ｇ）で反応を停止した。分液した後、有機層は食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、減圧下溶媒を除去濃縮して残渣を減圧蒸留すると、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタート（ｂｐ：９２〜９６℃［１ｍｍＨｇ］、５１．４３ｇ、０．２３ｍｏｌ）が収率９５．１％で得られた。
異性体比はガスクロマトグラフィー（ＤＢ−５：３０ｍ×０．２５ｍｍφ、１５０℃から１０℃／分で２８０℃に昇温）より求めるとＥＺ：ＥＥ＝８９．６５：１０．３５であった。
[核磁気共鳴スペクトル] 1H-NMR (300MHz, CDCl3):δ0.88(3H, t), 1.27-1.43(8H, m), 2.05(3H, s), 2.14(2H, dt), 2.43(2H, dt), 4.11(2H, t), 5.37(1H, dt), 5.60(1H, dt), 5.95(1H, dd), 6.39(1H, dd); 13C-NMR (75.6MHz,CDCl3):δ14.10, 20.97, 22.64, 27.70, 28.94, 29.66, 31.76, 32.17, 63.80, 128.09, 128.24, 128.65, 131.56, 171.07
[マススペクトル] EI-マススペクトル(70eV):m/z 165(M+-59), 138, 110, 93, 80, 67; CI-マススペクトル (イソブタン)： 225(M+H)
[赤外吸収スペクトル] (NaCl): νmax 3020, 2956, 2927, 2856, 1743, 1457, 1382, 1363, 1236, 1035, 983, 948
比較例１
＜４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルアセタートとアルキリデンホスホランの反応（アルコールをアセチル基により保護した場合）＞
反応器にトリフェニルホスフィン（５２．５１ｇ、０．２０ｍｏｌ）、臭化ｎ−ヘプタン（３８４７ｇ、０．２１５ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４１．０ｇ）を添加し、１０５〜１１０℃で２６〜３０時間撹拌する。撹拌後、反応液は２０℃まで冷却してテトラヒドロフラン（１８５．０ｇ）を添加し、続いてカリウムｔ−ブトキシド（２１．１ｇ、０．１８８ｍｏｌ）を１０〜１５℃で添加、２０℃において１時間撹拌した。撹拌後反応液は−２０℃まで冷却して４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルアセタート（２５．８７ｇ、０．１８２ｍｏｌ）を−１５〜−５℃にて滴下した。
滴下後、１時間かけ２０〜２５℃まで昇温、そのまま１時間撹拌した。その後反応液は、水（１００ｇ）を添加することで反応を停止し、トルエン（１００ｇ）を加え抽出、有機層は水で洗浄した後、減圧下トルエンを除去濃縮した。
濃縮後、ｎ−ヘキサン（１２０ｇ）を添加すると、トリフェニルホスフィンオキシドが析出するため、濾過して分離した。濾液は再度減圧下、濃縮して濃縮液を減圧蒸留すると、目的とする（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタート（９．８０ｇ、０．０４ｍｏｌ）を収率２４．０％で、１，３，５−デカトリエン（９．８７ｇ、０．０６ｍｏｌ）を収率３３．０％で得た。
＜４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルアセタートとアルキリデンホスホランの反応（アルコールをアセチル基により保護した場合）＞
反応器にトリフェニルホスフィン（５２．５１ｇ、０．２０ｍｏｌ）、臭化ｎ−ヘプタン（３８４７ｇ、０．２１５ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４１．０ｇ）を添加し、１０５〜１１０℃で２６〜３０時間撹拌する。撹拌後、反応液は２０℃まで冷却してテトラヒドロフラン（１８５．０ｇ）を添加し、続いてカリウムｔ−ブトキシド（２１．１ｇ、０．１８８ｍｏｌ）を１０〜１５℃で添加、２０℃において１時間撹拌した。撹拌後反応液は−２０℃まで冷却して４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルアセタート（２５．８７ｇ、０．１８２ｍｏｌ）を−１５〜−５℃にて滴下した。
滴下後、１時間かけ２０〜２５℃まで昇温、そのまま１時間撹拌した。その後反応液は、水（１００ｇ）を添加することで反応を停止し、トルエン（１００ｇ）を加え抽出、有機層は水で洗浄した後、減圧下トルエンを除去濃縮した。
濃縮後、ｎ−ヘキサン（１２０ｇ）を添加すると、トリフェニルホスフィンオキシドが析出するため、濾過して分離した。濾液は再度減圧下、濃縮して濃縮液を減圧蒸留すると、目的とする（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタート（９．８０ｇ、０．０４ｍｏｌ）を収率２４．０％で、１，３，５−デカトリエン（９．８７ｇ、０．０６ｍｏｌ）を収率３３．０％で得た。
比較例２
＜４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−１−エトキシエチルエーテルの製造（アルコールを１−エトキシエチル基により保護した場合）＞
５，５−ジメトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−１−エトキシエチルエーテル（３０．０ｇ、０．１２２ｍｏｌ）のトルエン（８０．０ｇ）溶液を反応器に入れ、５〜１０℃で撹拌した。これに５質量％酢酸水溶液を１０〜１５℃にて滴下し、そのまま２時間撹拌した。撹拌後、トルエン（１００ｇ）を添加し分離し、水層を除去、有機層は食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。
得られた有機層は、減圧下溶媒を除去濃縮し残渣を減圧蒸留すると、２−ヒドロキシ−５，６−ジヒドロピラン（８．６４ｇ、０．０９ｍｏｌ）が収率７０．７％で得られ、目的とする４−ホルミル−３−ブテニル−１−エトキシエチルエーテルの生成は確認できなかった。
＜４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−１−エトキシエチルエーテルの製造（アルコールを１−エトキシエチル基により保護した場合）＞
５，５−ジメトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−１−エトキシエチルエーテル（３０．０ｇ、０．１２２ｍｏｌ）のトルエン（８０．０ｇ）溶液を反応器に入れ、５〜１０℃で撹拌した。これに５質量％酢酸水溶液を１０〜１５℃にて滴下し、そのまま２時間撹拌した。撹拌後、トルエン（１００ｇ）を添加し分離し、水層を除去、有機層は食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。
得られた有機層は、減圧下溶媒を除去濃縮し残渣を減圧蒸留すると、２−ヒドロキシ−５，６−ジヒドロピラン（８．６４ｇ、０．０９ｍｏｌ）が収率７０．７％で得られ、目的とする４−ホルミル−３−ブテニル−１−エトキシエチルエーテルの生成は確認できなかった。
比較例３
＜４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−テトラヒドロピラニルエーテルの製造 （アルコールをテトラヒドロピラニル基により保護した場合）＞
５，５−ジメトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−１−テトラヒドロピラニルエーテル（５１．７ｇ、０．２０ｍｏｌ）のｎ−ヘキサン（５０．０ｇ）溶液を反応器に入れ、１０〜１５℃で撹拌した。これに１５質量％酢酸水溶液（３０．０ｇ）を１５〜２０℃にて滴下し、そのまま１時間撹拌した。撹拌後、ｎ−ヘキサン（８０ｇ）を添加し分離し、水層を除去、有機層は食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。
得られた有機層は、減圧下溶媒を除去濃縮し残渣をガスクロマトグラフィー（ＤＢ−ＷＡＸ：３０ｍ×０．２５ｍｍφ、１５０℃から１０℃／分で２８０℃に昇温）にて分析を行なうと、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルテトラヒドロピラニルエーテルが９．８ＧＣ％得られた。
＜４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−テトラヒドロピラニルエーテルの製造 （アルコールをテトラヒドロピラニル基により保護した場合）＞
５，５−ジメトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−１−テトラヒドロピラニルエーテル（５１．７ｇ、０．２０ｍｏｌ）のｎ−ヘキサン（５０．０ｇ）溶液を反応器に入れ、１０〜１５℃で撹拌した。これに１５質量％酢酸水溶液（３０．０ｇ）を１５〜２０℃にて滴下し、そのまま１時間撹拌した。撹拌後、ｎ−ヘキサン（８０ｇ）を添加し分離し、水層を除去、有機層は食塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。
得られた有機層は、減圧下溶媒を除去濃縮し残渣をガスクロマトグラフィー（ＤＢ−ＷＡＸ：３０ｍ×０．２５ｍｍφ、１５０℃から１０℃／分で２８０℃に昇温）にて分析を行なうと、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルテトラヒドロピラニルエーテルが９．８ＧＣ％得られた。
Claims (3)
- ５，５−ジエトキシ−（Ｚ３）−３−ペンテニル−メトキシメチルエーテルを酸の存在下で加水分解して、４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニル−メトキシメチルエーテルを得るステップと、
上記４−ホルミル−（Ｅ３）−３−ブテニルメトキシメチルエーテルをウィッティッヒ反応を用いてアルキリデントリフェニルホスホランと反応させて（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルを得るステップと、
上記（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルから（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートを得るステップと
を含む（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートの製造方法。 - 上記アルキリデントリフェニルホスホランが、
ＲＣＨ＝ＰＰｈ３
（上式中、Ｒは炭素数４〜１２を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。）
で表され、上記（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルメトキシメチルエーテルが、
ＲＣＨ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ−Ｃ−ＯＣＨ２ＯＣＨ３
で表される請求項１に記載の（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートの製造方法。 - 上記（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートが、（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−ドデカジエニルアセタートである請求項１に記載の（Ｅ３，Ｚ５）−３，５−アルカジエニルアセタートの製造方法。
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