JP2021155373A - ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物の製造方法及びこれを用いた共役ジエン化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物の合成法としては、塩酸を用いて、(Z)−5,5−ジエトキシ−3−ペンテニル=メトキシメチル=エーテルを加水分解反応した後に、トルエンにより抽出する方法(下記の特許文献1)、及び水素化アルミニウムリチウムにより、5−(メトキシメトキシ)−2−ペンチン−1−オールをヒドロアルミニウム化し、次にパリック・デーリング(Parikh−Doering)酸化する方法(下記の非特許文献2)が報告されている。
下記一般式(1)
R3CH2OCH2O(CH2)aCH=CHCH(OR1)(OR2) (1)
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して炭素数1〜15の一価の炭化水素基、又はR1とR2が互いに結合したR1−R2として炭素数2〜10の二価の炭化水素基を表し、R3は水素原子、炭素数1〜9のn−アルキル基、又はフェニル基を表し、aは、1〜10の整数を表す。)
で表されるジアルコキシアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式(2)
R3CH2OCH2O(CH2)aCH=CHCHO (2)
(式中、R3及びaは、上記で定義した通りである。)
で表される、ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2)を製造する方法が提供される。
で表されるトリアリールホスホニウム=ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式(4)
CH3(CH2)3CH=CHCH=CH(CH2)4OCH2OCH2R3 (4)
(式中、R3は、上記で定義した通りである。)
で表される(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アルコキシメチル=エーテル化合物を得て、その後に、当該(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(4)を脱アルコキシメチル化して、下記式(5)
CH3(CH2)3CH=CHCH=CH(CH2)4OH (5)
で表される(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オールを製造する方法が提供される。
CH3(CH2)3CH=CHCH=CH(CH2)4OCOCH3 (6)
で表される(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アセテートを製造する方法が提供される。
R3CH2OCH2O(CH2)aCH=CHCH(OR1)(OR2) (1)
R3CH2OCH2O(CH2)aCH=CHCHO (2)
R1及びR2の一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基及びn−ペンタデシル基等の直鎖状の飽和炭化水素基;イソプロピル基、2−メチルブチル基及びt−ブチル基等の分岐状の飽和炭化水素基;2−メチル−2−プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基;シクロプロピル基等の環状の飽和炭化水素基;フェニル基等のアリール基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基であってもよい。また、これらの炭化水素基の水素原子の一部がメチル基、エチル基等で置換されていてもよい。
R1−R2の二価の炭化水素基としては、エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1、5−ペンチレン基、1、6−ヘキシレン基、1,7−ヘプチレン基、1,8−オクチレン基、1,9−ノニレン基、1,10−デシレン基、1,11−ウンデシレン基、1,12−ドデシレン基、1,13−トリデシレン基、1,14−テトラデシレン基及び1,15−ペンタデシレン等の直鎖状の飽和炭化水素基;1−ビニルエチレン基等の直鎖状の不飽和炭化水素基;1,2−プロピレン基、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン基、1,2−ブチレン基、1,3−ブチレン基、2,3−ブチレン基及び2,3−ジメチル−2,3−ブチレン基等の分岐状の飽和炭化水素基;2−メチレン−1,3−プロピレン基等の分岐状の不飽和炭化水素基;1,2−シクロプロピレン基及び1,2−シクロブチレン基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基であってもよい。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基又はエチル基等で置換されていてもよい。
二価の炭化水素基は、脱保護における反応性又は精製の容易さ、入手の容易さを考慮すると、反応性が高く、脱保護により生成する副生物が水洗又は濃縮によって容易に除去可能な低級(好ましくは炭素数2〜4)の炭化水素基が好ましい。
これらを考慮すると、二価の炭化水素基の好ましい例として、エチレン基、1,2−プロピレン基、1,3−プロピレン基、1,2−ブチレン基、1,3−ブチレン基及び2,3−ジメチル−2,3−ブチレン基等が挙げられる。
ル、ジオクチロキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル、ジノリロキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル、ジヘキソキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル、ジノリロキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル化合物及びジデシロキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ヘキソキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジヘキソキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジノリロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジヘキソキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジノリロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル、ジヘキソキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル、ジノリロキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ノリロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジヘキソキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジノリロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジヘキソキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジノリロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキソキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジノリロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシオクテニル=アルコキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキソキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジノリロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシノネニル=アルコキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキソキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジノリロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシデセニル=アルコキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキソキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジノリロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシウンデセニル=アルコキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキソキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジノリロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシドデセニル=アルコキシメチル=エーテル化合物;並びに、ジメトキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキソキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジノリロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシトリデセニル=アルコキシメチル=エーテル化合物が挙げられる。
該酸としては、塩酸及び臭化水素酸等の無機酸類;並びに、p−トルエンスルホン酸(p−TsOH)、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ヨードトリメチルシラン及び四塩化チタン等が挙げられるが、反応性の観点から、p−トルエンスルホン酸、酢酸、ギ酸及び塩酸が好ましく、ギ酸及び塩酸がより好ましい。
無溶媒で加水分解を行うことにより、仕込み量が減ったり、又は生産性が低下したりすることを防ぐことが可能である。
溶媒を用いる場合、該溶媒としては、一般的な溶媒、例えば、ジブチル=エーテル、4−メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び1,4−ジオキサン等のエーテル類;ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類;トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類;ジメチル=スルホキシド、γ−ブチロラクトン及びヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類;アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類;並びに、酢酸n−プロピル及び酢酸n−ブチル等のエステル類が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
該溶媒は、加水分解反応で生成したアルコール化合物(以下、「アルコール化合物(7)」ともいう。)の沸点と沸点差があり、アルコール化合物(7)よりも沸点が高いものが好ましい。
加水分解反応に用いる溶媒の使用量は、上記ジアルコキシアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(1)1molに対して、好ましくは0〜2000g、より好ましくは0〜500gである。
加水分解反応における反応時間は、反応のスケールによって異なるが、生産性の観点から、好ましくは1〜100時間である。
通常、これらのジアルコキシアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(1:a=1〜4)を加水分解反応させて、ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2:a=1〜4)を製造する場合、反応時の溶媒又は抽出溶媒として、抽出力に優れた非水溶性のジクロロメタン、クロロホルム、ジエチル=エーテル、トルエン又は、キシレンを用いる必要がある。しかしながら、これらの溶媒を用いた場合、蒸留による該溶媒の分離が必要となり、仕込量が減ることによる生産性低下が生じる上に、該溶媒は廃棄物となるため、環境に悪い。一方で、これらの溶媒を用いない場合は、上記ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2:a=1〜4)が水層へ逃げてしまうため、該ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2:a=1〜4)の収率が極めて低くなってしまう。また、上記ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2:a=1〜4)の反応液にアルコールが混在する場合には、上記ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2:a=1〜4)の水層への溶解性が上がり、収率が大きく低下してしまったり、又は同じ条件下で繰り返し調製を行っても、収率が安定しなかったりする(下記の比較例1〜6を参照)。
しかしながら、本発明では、加水分解反応を進行させながら、該加水分解で生成するアルコール化合物を除去することにより、炭素数4〜7のホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2:a=1〜4)が水層へ移行することによるロスを防ぎながら又はロスすることなしに、該ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2:a=1〜4)を水層から有機層へ分離することができるため、上記ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2:a=1〜4)の収率及び生産性を向上させることができる(下記の実施例1〜4及び比較例1〜6を参照)。また、加水分解反応中に、該加水分解によって生成するアルコール化合物を除去することにより、後処理することなしに又は後処理の工程を少なくして、そのまま目的物であるホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2:a=1〜4)を蒸留精製することも可能である。
なお、「内温」とは、反応液の液温をいい、反応温度と同義である。
一般式(3)において、Arは、それぞれ独立してアリール基を表す。
アリール基の炭素数は、好ましくは6〜7である。
アリール基としては、例としてフェニル基(Ph基(=C6H5))及びトリル基が挙げられるが、合成のしやすさの観点から、フェニル基が好ましく、三つのアリール基が全てフェニル基であることがより好ましい。
トリアリールホスホニウム=ペンチリド化合物(3)は、1種類又は必要に応じて、2種以上を用いてもよい。
該ハロゲン化物としては、例えば、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化ナトリウム及び臭化カリウム等が挙げられ、反応性の観点から、ヨウ化ナトリウム及びヨウ化カリウム等のヨウ化物が好ましい。
該ハロゲン化物は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を使用してもよい。また、該ハロゲン化物は、市販のものを用いることができる。
該ハロゲン化物の使用量は、反応性の観点から、1−ハロペンタン化合物(8)1molに対して、好ましくは0〜5.0molである。
該塩基としては、炭酸カリウム及び炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩等;トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジエチルアニリン及びピリジン等のアミン等が挙げられ、取扱いの観点から、アルカリ金属炭酸塩が好ましい。
該塩基は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を使用してもよい。また、該塩基は、市販のものを用いることができる。
該塩基の使用量は、反応性の観点から、1−ハロペンタン化合物(8)1molに対して、好ましくは0〜2.0molである。
ペンチルトリアリールホスホニウム=ハライド化合物(10)の調製における反応時間は、用いる溶媒又は反応スケールにより異なるが、好ましくは0.5〜55時間である。
ペンチルトリアリールホスホニウム=ハライド化合物(10)の調製において、ハロゲン化物を用いない場合は、該Yは一般式(8)におけるXと同じハロゲン原子であり、一方、ハロゲン化物としてヨウ化物を用いる場合には、該Yは上記Xと同じハロゲン原子又はヨウ素原子である。
該塩基の使用量は、反応性の観点から、1−ハロペンタン化合物(8)1molに対して、好ましくは0.7〜5.0molである。
ペンチルトリアリールホスホニウム=ハライド(10)の脱プロトン化反応における反応時間は、用いる溶媒又は反応スケールにより異なるが、好ましくは0.5〜50時間である。
該溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、4−メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒;ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素系溶媒;並びに、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチル=スルホキシド、γ−ブチロラクトン、アセトニトリル、ジクロロメタン及びクロロホルム等の極性溶媒等が挙げられ、反応性の観点から、テトラヒドロフラン及び4−メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、並びに、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド及びN,N−ジメチルアセトアミド等の極性溶媒が好ましい。
該溶媒は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を使用してもよい。また、溶媒は、市販のものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、反応性の観点から、1−ハロペンタン化合物(8)又はペンチルトリアリールホスホニウム=ハライド化合物(10)1molに対して、好ましくは10〜6000g、より好ましくは50〜4000gである。
該溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、4−メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒;ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素系溶媒;並びに、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチル=スルホキシド、γ−ブチロラクトン、アセトニトリル、ジクロロメタン及びクロロホルム等の極性溶媒等が挙げられ、反応性の観点から、テトラヒドロフラン及び4−メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、並びに、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド及N,N−ジメチルアセトアミド等の極性溶媒が好ましい。
該溶媒は、1種類又は必要に応じて2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販のものを用いることができる。
該溶媒の使用量は、反応性の観点から、ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2)1molに対して、好ましくは10〜6000g、より好ましくは50〜4000gである。
ウィッティヒ反応における反応時間は、反応スケールにより異なるが、好ましくは0.5〜50時間である。
(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(4:a=4)の脱アルコキシメチル化反応は、例えば、酸及び下記一般式(11)で表されるアルコール化合物(以下、「アルコール化合物(11)」ともいう。)を用いて行うことができる。
R4OH (11)
アルコキシメチル化反応に用いる酸としては、塩酸、臭化水素酸等の無機酸類;p−トルエンスルホン酸(p−TsOH)、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ヨードトリメチルシラン及び四塩化チタン等が挙げられるが、反応性の観点から、p−トルエンスルホン酸及び塩酸が好ましい。
該酸は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を使用してもよい。また、該酸は、市販のものを用いることができる。
該酸の使用量は、反応完結の観点から、(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(4)1molに対して、好ましくは0.001〜10.0mol、より好ましくは0.01〜3.0molである。
アルコール化合物(11)としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、n−ノナノール、n−デカノール、n−ウンデカノール、n−ドデカノール、n−トリデカノール、n−テトラデカノール及びn−ペンタデカノール等の直鎖アルコール類;並びに、イソプロパノール及び2−ブタノール等の分岐アルコール類等が挙げられるが、反応性の観点から、メタノール及びエタノールが好ましい。
アルコール化合物(11)は、必要に応じて2種類以上を使用してもよい。
また、アルコール化合物(11)は、市販のもの、又は上記加水分解反応で回収したアルコール化合物(7)を用いることができる。
アルコール化合物(11)の使用量は、(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(4)1molに対して、反応性の観点から、好ましくは1.0〜100mol、より好ましくは1.0〜40molである。
脱アルコキシメチル化反応には、必要に応じて、アルコール化合物(11)以外の溶媒を用いてもよい。
該溶媒としては、一般的な溶媒、例えば、ジブチル=エーテル、4−メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル及び1,4−ジオキサン等のエーテル類;ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類;トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類;ジメチル=スルホキシド、γ−ブチロラクトン及びヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類;アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類;並びに、酢酸n−プロピル及び酢酸n−ブチル等のエステル類が挙げられる。
該溶媒は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
脱アルコキシメチル化反応に用いる溶媒の使用量は、上記(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(4)1molに対して、好ましくは0〜2000g、より好ましくは0〜500gである。
該溶媒を用いることで仕込み量が減り、生産性が低下するため、上記の溶媒を用いずに無溶媒で反応を行ってもよい。
アセチル化剤の使用量は、(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)1molに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは1.0〜10.0mol、より好ましくは1.0〜5.0molである。
該酸としては、塩酸、硫酸及び硝酸等の鉱酸;ベンゼンスルホン酸及びp−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸;並びに、三フッ化ホウ素エーテラート及びオルトチタン酸テトライソプロピル等のルイス酸が挙げられる。
該酸は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を使用してもよい。
該酸の使用量は、(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)1molに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは0.01〜1.00mol、より好ましくは0.01〜0.50molである。
該塩基は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を使用してもよい。
該塩基の使用量は、(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)1molに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは1.0〜10.0mol、より好ましくは1.0〜3.0molである。
該溶媒としては、一般的な溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、4−メチルテトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル、及び1,4−ジオキサン等のエーテル類;ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクメン等の炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルム及びトリクロロエチレン等の塩素系溶媒類;ジメチル=スルホキシド、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン及びヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類;アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類;並びに、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル及び酢酸n−ブチル等のエステル類が挙げられ、トルエン及びキシレン等の炭化水素類が好ましい。
該溶媒は、1種類又は必要に応じて、2種類以上を使用してもよい。また、該溶媒は、市販されているものを用いることができる。
アセチル化反応に用いる溶媒の使用量は、上記(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)1molに対して、好ましくは0〜2000g、より好ましくは0〜500gである。
なお、以下において「純度」は、特に明記しない限り、ガスクロマトグラフィー(GC)分析によって得られた面積百分率を示し、「生成比」はGC分析によって得られた面積百分率の相対比を示す。また、「収率」は、GC分析によって得られた面積百分率を基に算出した収率を示す。
各実施例において、反応のモニタリングや収率の算出は、次のGC条件に従って行った。
GC条件:GC:島津製作所 キャピラリガスクロマトグラフ GC−2014,カラム:DB−WAX,0.25mmx0.25mmφx30m,キャリアーガス:He(1.55mL/分)、検出器:FID,カラム温度:150℃ 5℃/分昇温 230℃。
収率は、原料及び生成物の純度(%GC)を考慮して、以下の式に従い計算した。
収率(%)={[(反応によって得られた生成物の重量×%GC)/生成物の分子量]
÷[ (反応における出発原料の重量×%GC)/出発原料の分子量]}×100
ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)<CH3OCH2O(CH2)2CH=CHCHO>の製造
続いて、上記加水分解の進行下、内温40〜55℃にて235mmHgまで減圧後、50mmHgまで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール(325.85g,7.01mol,純度99.11%)を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して4時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン(557.04g)、水(218.20g)、食塩(65.00g)及び20質量%塩酸(12.89g、塩化水素として0.071mol)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)(496.73g、3.29mol、純度95.41%、b.p.=87.2〜87.6℃/3.0mmHg)が収率93.00%で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、エタノールが留出していることによって確認した。具体的には、3.54mol(原料であるジエトキシペンテニル=メトキシメチル=エーテル(1:R3=H;a=2)のモル数)×46.07(エタノールの分子量)×2(原料1分子中のアルコール部分の数)=326.18gが、上記加水分解で生成するエタノールの理論量であることから、該理論量未満の場合に、該加水分解が進行中であると判断し、一方、該理論量に実質的に同じ(上記の325.85g)になり、該留出エタノールの重量が変化しなくなったときに、該加水分解が終了したと判断した。
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H−NMR(500MHz,CDCl3):δ=2.61(2H,ddt,J=1.6Hz,6.5Hz,6.5Hz),3.23(3H,s),3.68(2H,t,J=6.2Hz),4.60(2H,s),6.16(1H,ddt,J=15.6Hz,10.7Hz,1.6Hz),6.86(1H,dt,J=15.6Hz,6.5Hz),9.49(1H,d,J=11.0Hz);13C−NMR(500MHz,CDCl3):δ=32.94,55.27,65.40,96.40,134.19,154.87,193.75
〔マススペクトル〕EI−マススペクトル(70eV):m/z 114(M+−30)、99,83,75,55,45
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=2934,2886,2824,1691,1151,1110,1043,974,918
ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)<CH3OCH2O(CH2)2CH=CHCHO>の製造
続いて、上記加水分解の進行下、内温40〜55℃にて235mmHgまで減圧後、50mmHgまで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール(123.12g,2.61mol,純度97.51%)を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して4時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、さらに3.0mmHgまで減圧し減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)(182.44g、1.20mol、純度94.59%、b.p.=87.6〜88.6℃/3.0mmHg)が収率94.88%で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例1と同じ方法で確認した。
ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)<CH3OCH2O(CH2)2CH=CHCHO>の製造
ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)<CH3OCH2O(CH2)2CH=CHCHO>の製造
ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)<CH3OCH2O(CH2)2CH=CHCHO>の製造
続いて、上記加水分解の進行下、内温40〜55℃にてGCを用いて反応を追跡し、反応率が99.5%以上になったことを確認した上で反応を止めた。このとき、20質量%塩酸の滴下から反応停止までの熟成(反応)時間は4.5時間であった。反応混合物に、トルエン(200.00g)をさらに添加し、引き続き分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄して分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)(149.40g、0.93mol、純度90.10%、b.p.=82.6〜85.4℃/3.0mmHg)が収率73.98%で得られた。比較例3は実施例1とエタノールを留出、除去する以外は同じ条件下で行ったにも拘わらず、収率が73.98%、純度90.10%と、収率93.00%、純度95.41%の実施例1に比べて低い結果となった。
ホルミルペンテニル=エトキシメチル=エーテル(2:R3=CH3;a=2)<CH3CH2OCH2O(CH2)2CH=CHCHO>の製造
続いて、上記加水分解の進行下、内温40〜55℃にて235mmHgまで減圧後、50mmHgまで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール(119.02g,2.53mol,純度97.75%)を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して4時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン(234.56g)、水(77.90g)、食塩(23.21g)及び20質量%塩酸(4.60g、塩化水素として0.025mol)を加えて分液し、水層を除去した。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル=エトキシメチル=エーテル(2:R3=CH3;a=2)(197.56g、1.139mol、純度91.20%、b.p.=85.0〜86.1℃/3.0mmHg)が収率90.26%で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例1と同じ方法で確認した。
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H−NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.19(3H,t,J=6.9Hz),2.60(2H,ddt,J=15.6Hz,6.5Hz,6.5Hz)3.56(2H,q,J=6.9Hz),3.69(2H,t,J=6.5Hz),4.65(2H,s),6.16(1H,ddt,J=15.6Hz,8.1Hz,1.5Hz),6.85(1H,dt,J=15.6Hz,6.5Hz),9.49(1H,d,J=8.0Hz);13C−NMR(500MHz,CDCl3):δ=15.05,32.96,63.34,65.40,95.07,134.17,154.96,193.76
〔マススペクトル〕EI−マススペクトル(70eV):m/z 128(M+−30),113,98,83,70,59,41
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=2976,2931,2878,1692,1114,1099,1042,975,847
ホルミルペンテニル=エトキシメチル=エーテル(2:R3=CH3;a=2)<CH3CH2OCH2O(CH2)2CH=CHCHO>の製造
ホルミルペンテニル=エトキシメチル=エーテル(2:R3=CH3;a=2)<CH3CH2OCH2O(CH2)2CH=CHCHO>の製造
ホルミルヘプテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=4)<CH3OCH2O(CH2)4CH=CHCHO>の製造
続いて、上記加水分解の進行下、内温40〜55℃にて235mmHgまで減圧後、50mmHgまで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール(192.43g,4.12mol,純度98.74%)を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して4.5時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン(362.06g)、水(120.25g)、食塩(35.83g)及び20質量%塩酸(7.10g、塩化水素として0.039mol)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルヘプテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=4)(340.59g、1.83mol、純度92.73%、b.p.=108.2〜109.8℃/3.0mmHg)が収率94.14%で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例1と同じ方法で確認した。
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H−NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.55−1.66(4H,m),2.35(2H,ddt,J=1.6Hz,7.1Hz,7.1Hz),3.33(3H,s),3.52(2H,t,J=6.1Hz),4.59(2H,s),6.10(1H,ddt,J=15.7Hz,8.0Hz,1.6Hz),6.83(1H,dt,J=15.7Hz,6.9Hz)、9.48(1H,d,J=8.0Hz);13C−NMR(500MHz,CDCl3):δ=24.52,29.10,32.33,55.07,67.09,96.33,133.06,158.26,193.95
〔マススペクトル〕EI−マススペクトル(70eV):m/z 127(M+−45),114,81,68,55,45
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=2938,2882,2822,1692,1149,1111,1043,977,918
ホルミルヘプテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=4)<CH3OCH2O(CH2)4CH=CHCHO>の製造
(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(4:R3=H;a=4)<CH3(CH2)3CH=CHCH=CH(CH2)4OCH2OCH3>の製造
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H−NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.90(3H,t,J=7.3Hz),1.28−1.39(4H,m),1.42−1.51(2H,quin−like,J=7.3Hz),1.57−1.64(2H,quin−like,J=7.3Hz),2.10−2.18(4H,m),3.35(3H,s),3.52(2H,t,J=6.5Hz),4.61(2H,s),5.30(1H,dt,J=10.9Hz,7.6Hz),5.64(1H,dt,J=14.5Hz,7.6Hz),5.93(1H,dd,J=11.1Hz,11.1Hz),6.29(1H,dddt,J=14.9Hz,11.1Hz,2.7Hz,1.2Hz);13C−NMR(500MHz,CDCl3):δ=13.92,22.28,25.96,27.35,29.22,31.85,32.55,55.04,67.54,96.32,125.95,128.43,130.27,133.94
〔マススペクトル〕EI−マススペクトル(70eV):m/z 226(M+),194,181,163,150,137,121,107,95,79,67,45
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=2929,2872,1458,1440,1150,1112,1044,983,949,921,732
(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)<CH3(CH2)3CH=CHCH=CH(CH2)4OH>の製造
続いて、反応液を60℃まで昇温して3時間撹拌し、該撹拌後、内温を65〜70℃に昇温し、蒸留塔より、副成するジメトキシメタンとメタノールの混合物を留出し、除去した。反応途中の反応液をサンプリングし、反応率が100%となったところで留出を止め、反応液を35℃まで冷却し、水(286g)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)(162.54g、0.81mol、純度91.35%;5E7Z:5E7E:5Z7Z=91.1:7.1:1.8、b.p.=106.2〜115.6℃/3.0mmHg)が収率91.26%で得られた。
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H−NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.89(3H,t,J=7.3Hz),1.24−1.40(4H,m),1.46(2H,quin−like,J=7.3Hz),1.58(2H,quin−like,J=7.3Hz),1.72(1H,br.s),2.14(4H,sext−like,J=6.5Hz),3.64(2H,t,J=6.5Hz),5.30(1H,dt,J=10.9Hz,7.6Hz),5.64(1H,dt,J=14.6Hz,7.3Hz),5.93(1H,dd,J=11.1Hz,11.1Hz),6.31(1H,dddt,J=15.1Hz,11.0Hz,1.5Hz,1.5Hz);13C−NMR(500MHz,CDCl3):δ=13.92,22.28,25.45,27.35,31.84,32.20,32.50,62.73,125.97,128.39,130.33,133.90
〔マススペクトル〕EI−マススペクトル(70eV):m/z 182(M+),164,149,135,121,107,93,79,67,55,41
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=3338,2956,2930,1457,1059,982,949,730
(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アセテート(6)<CH3(CH2)3CH=CHCH=CH(CH2)4OCOCH3>の製造
〔核磁気共鳴スペクトル〕1H−NMR(500MHz,CDCl3):δ=0.89(3H,t,J=7.3Hz),1.27−1.40(4H,m),1.45(2H,quin−like,J=7.6Hz),1.63(2H,quin−like,J=6.9Hz),2.03(3H,s),2.14(4H,sext−like,J=6.9Hz),4.05(2H,t,J=6.5Hz),5.31(1H,dt,J=10.7Hz,7.6Hz),5.62(1H,dt,J=14.5Hz,6.9Hz),5.93(1H,dd,J=11.1Hz,11.1Hz),6.30(1H,ddd,J=15.3Hz,11.1Hz,1.2Hz);13C−NMR(500MHz,CDCl3):δ=13.91,20.94,22.27,25.65,27.35,28.07,31.83,32.33,64.34,126.15,128.34,130.45,133.53,171.13
〔マススペクトル〕EI−マススペクトル(70eV):m/z 224(M+),181,164,149,136,121,107,93,79,67,55
〔赤外吸収スペクトル〕(NaCl):ν=2956,2930,2859,1742,1457,1365,1238,1039,984,950,733
メチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ブトキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル、ジノニロキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ペンチロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル、ジノニロキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル化合物及びジデシロキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ヘキシロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル、ジノニロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ヘプチロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル、ジノニロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=オクチロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル、ジノニロキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ノニロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル、ジノニロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=デシロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジエトキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジプロポキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジブトキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジペンチロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジオクチロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル、ジノニロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル及びジデシロキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル等のジアルコキシヘプテニル=ベンジロキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル、ジノニロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシオクテニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシオクテニル=アルコキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル、ジノニロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシノネニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシノネニル=アルコキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジノニロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシデセニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシデセニル=アルコキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジノニロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシウンデセニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシウンデセニル=アルコキシメチル=エーテル化合物;ジメトキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジノニロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシドデセニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシドデセニル=アルコキシメチル=エーテル化合物;並びに、ジメトキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジエトキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジプロポキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジブトキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジペンチロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘキシロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジヘプチロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジオクチロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル、ジノニロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル及びジデシロキシトリデセニル=メトキシメチル=エーテル等のジアルコキシトリデセニル=アルコキシメチル=エーテル化合物が挙げられる。
なお、「内温」とは、反応液の液温をいい、反応温度と同義である。
続いて、上記加水分解の進行下、内温40〜55℃にて235mmHg(31.3kPa)まで減圧後、50mmHg(6.67kPa)まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール(325.85g,7.01mol,純度99.11%)を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して4時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン(557.04g)、水(218.20g)、食塩(65.00g)及び20質量%塩酸(12.89g、塩化水素として0.071mol)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)(496.73g、3.29mol、純度95.41%、b.p.=87.2〜87.6℃/3.0mmHg(0.40kPa))が収率93.00%で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、エタノールが留出していることによって確認した。具体的には、3.54mol(原料であるジエトキシペンテニル=メトキシメチル=エーテル(1:R3=H;a=2)のモル数)×46.07(エタノールの分子量)×2(原料1分子中のアルコール部分の数)=326.18gが、上記加水分解で生成するエタノールの理論量であることから、該理論量未満の場合に、該加水分解が進行中であると判断し、一方、該理論量に実質的に同じ(上記の325.85g)になり、該留出エタノールの重量が変化しなくなったときに、該加水分解が終了したと判断した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温40〜55℃にて235mmHg(31.3kPa)まで減圧後、50mmHg(6.67kPa)まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール(123.12g,2.61mol,純度97.51%)を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して4時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、さらに3.0mmHg(0.40kPa)まで減圧し減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)(182.44g、1.20mol、純度94.59%、b.p.=87.6〜88.6℃/3.0mmHg(0.40kPa))が収率94.88%で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例1と同じ方法で確認した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温40〜55℃にてGCを用いて反応を追跡し、反応率が99.5%以上になったことを確認した上で反応を止めた。このとき、20質量%塩酸の滴下から反応停止までの熟成(反応)時間は4.5時間であった。反応混合物に、トルエン(200.00g)をさらに添加し、引き続き分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄して分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=2)(149.40g、0.93mol、純度90.10%、b.p.=82.6〜85.4℃/3.0mmHg(0.40kPa))が収率73.98%で得られた。比較例3は実施例1とエタノールを留出、除去する以外は同じ条件下で行ったにも拘わらず、収率が73.98%、純度90.10%と、収率93.00%、純度95.41%の実施例1に比べて低い結果となった。
続いて、上記加水分解の進行下、内温40〜55℃にて235mmHg(31.3kPa)まで減圧後、50mmHg(6.67kPa)まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール(119.02g,2.53mol,純度97.75%)を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して4時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン(234.56g)、水(77.90g)、食塩(23.21g)及び20質量%塩酸(4.60g、塩化水素として0.025mol)を加えて分液し、水層を除去した。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルペンテニル=エトキシメチル=エーテル(2:R3=CH3;a=2)(197.56g、1.139mol、純度91.20%、b.p.=85.0〜86.1℃/3.0mmHg(0.40kPa))が収率90.26%で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例1と同じ方法で確認した。
続いて、上記加水分解の進行下、内温40〜55℃にて235mmHg(31.3kPa)まで減圧後、50mmHg(6.67kPa)まで徐々に減圧して、該加水分解で生成したエタノール(192.43g,4.12mol,純度98.74%)を留出し、除去した。留出は、減圧を開始して4.5時間後でなくなった。留出物がなくなった所で、トルエン(362.06g)、水(120.25g)、食塩(35.83g)及び20質量%塩酸(7.10g、塩化水素として0.039mol)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。引き続き、得られた有機層を食塩水で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。さらに、得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、ホルミルヘプテニル=メトキシメチル=エーテル(2:R3=H;a=4)(340.59g、1.83mol、純度92.73%、b.p.=108.2〜109.8℃/3.0mmHg(0.40kPa))が収率94.14%で得られた。
なお、上記加水分解が進行していることは、上記の実施例1と同じ方法で確認した。
続いて、反応液を60℃まで昇温して3時間撹拌し、該撹拌後、内温を65〜70℃に昇温し、蒸留塔より、副成するジメトキシメタンとメタノールの混合物を留出し、除去した。反応途中の反応液をサンプリングし、反応率が100%となったところで留出を止め、反応液を35℃まで冷却し、水(286g)を加えて分液し、そして水層を除去して、有機層を得た。得られた有機層を減圧蒸留することにより、(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)(162.54g、0.81mol、純度91.35%;5E7Z:5E7E:5Z7Z=91.1:7.1:1.8、b.p.=106.2〜115.6℃/3.0mmHg(0.40kPa))が収率91.26%で得られた。
Claims (4)
- 下記一般式(1)
R3CH2OCH2O(CH2)aCH=CHCH(OR1)(OR2) (1)
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して炭素数1〜15の一価の炭化水素基、又はR1とR2が互いに結合したR1−R2として炭素数2〜10の二価の炭化水素基を表し、R3は水素原子、炭素数1〜9のn−アルキル基又はフェニル基を表し、aは、1〜10の整数を表す。)
で表されるジアルコキシアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物を酸の存在下、生成したアルコール化合物を除去しながら、加水分解反応させて、下記一般式(2)
R3CH2OCH2O(CH2)aCH=CHCHO (2)
(式中、R3及びaは、上記で定義した通りである。)
で表されるホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2)を得るステップ
を少なくとも含む、ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2)の製造方法。 - 前記酸が、ギ酸、塩酸又はこれらの混合物である、請求項1に記載のホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の、ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2)、ここで、a=4である、の製造方法と、
前記ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(2)と、下記一般式(3)
で表されるトリアリールホスホニウム=ペンチリド化合物とをウィッティヒ反応させて、下記一般式(4)
CH3(CH2)3CH=CHCH=CH(CH2)4OCH2OCH2R3 (4)
(式中、R3は、上記で定義した通りである。)
で表される(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アルコキシメチル=エーテル化合物を得るステップと、
前記(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アルコキシメチル=エーテル化合物(4)を脱アルコキシメチル化して、下記式(5)
CH3(CH2)3CH=CHCH=CH(CH2)4OH (5)
で表される(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)を得るステップと
を少なくとも含む、(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)の製造方法。 - 請求項3に記載の、(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)の製造方法と、
前記(5E,7Z)−5,7−ドデカジエン−1−オール(5)をアセチル化反応させて、下記式(6)
CH3(CH2)3CH=CHCH=CH(CH2)4OCOCH3 (6)
で表される(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アセテート(6)を得るステップと
を少なくとも含む、(5E,7Z)−5,7−ドデカジエニル=アセテート(6)の製造方法。
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