JP2018177746A - ２，４−ジエナール＝アセタール化合物及び２，４−ジエナール化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】共役ジエン構造及び共役トリエン構造を有する性フェロモン化合物の合成中間体として有用な２，４−ジエナール＝アセタール化合物及び２，４−ジエナール化合物の製造方法を提供する。【解決手段】一般式（１）Ｒ１ＣＨＸ-ＣＨ２-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３)で表される５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、一般式（２）Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３)で表される２，４−ジエナール＝アセタール化合物を得る工程を少なくとも含む２，４−ジエナール＝アセタール化合物の製造方法、さらに、２，４−ジエナール＝アセタールを脱保護することにより一般式（３）Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨＯ（３）で表される２，４−ジエナール化合物を得る工程とを少なくとも含む２，４−ジエナール化合物の製造方法を提供する。【選択図】なし
Description
本発明は、昆虫の性フェロモンの合成中間体として有用な２，４−ジエナール＝アセタール化合物及び２，４−ジエナール化合物の製造方法に関する。
昆虫の性フェロモンは、通常、雌個体によって分泌され雄個体を誘引する機能をもつ生物活性物質であり、少量で高い誘引活性を示す。性フェロモンは、発生予察や地理的な拡散（特定地域への侵入）の確認の手段として、また、害虫防除の手段として広く利用されている。害虫防除の手段としては、大量誘殺法（Ｍａｓｓ ｔｒａｐｐｉｎｇ）、誘引殺虫法（Ｌｕｒｅ ＆ ｋｉｌｌ又はＡｔｔｒａｃｔ ＆ ｋｉｌｌ）、誘引感染法（Ｌｕｒｅ ＆ ｉｎｆｅｃｔ又はＡｔｔｒａｃｔ ＆ ｉｎｆｅｃｔ）や交信撹乱法（Ｍａｔｉｎｇ ｄｉｓｒｕｐｔｉｏｎ）と呼ばれる防除法が広く実用に供されている。性フェロモンの利用にあたっては、必要量のフェロモン原体を経済的に製造することが、基礎研究のために、更には、応用のために必要とされる。
昆虫の性フェロモンの中には、共役ジエン、共役トリエン構造を有するものが少なくない。例えば、世界中に広く分布し、雑食性でナッツ類や果物等種々の作物に被害を与えるＥｃｔｏｍｙｅｌｏｉｓ ｃｅｒａｔｏｎｉａｅ（一般名：Ｃａｒｏｂ ｍｏｔｈ）の性フェロモンは、（Ｚ，Ｅ）−９，１１，１３−テトラデカトリエナールであることが報告されている。また、リンゴやモモの重要害虫で世界中に広く分布するＣｙｄｉａｐｏｍｏｎｅｌｌａ（一般名：Ｃｏｄｌｉｎｇ ｍｏｔｈ）の性フェロモンは、（Ｅ，Ｅ）−８、１０−ドデカジエノールであることが報告されている。
これらの共役ジエン、共役トリエン構造を有する性フェロモンを製造するための中間体として、２，４−ジエナールが挙げられる。２，４−ジエナールとリンイリドとのＷｉｔｔｉｇ反応により共役トリエン構造を構築することが可能であり、２，４−ジエナールから容易に誘導可能な２，４−ジエニルハライドをリンイリドに変換し、アルデヒドとＷｉｔｔｉｇ反応を行うことによっても共役トリエン構造を構築することが可能である。また、２，４−ジエニルハライドに対する求核置換反応によれば、共役ジエン構造を有する性フェロモンを製造することが可能である。
様々な前駆体から２，４−ジエナールを製造する方法が知られているが、そのような前駆体の中でも特に優れているものとして、２，４−ジエナール＝アセタール化合物が挙げられる。２，４−ジエナール＝アセタール化合物は、温和な脱保護条件で２，４−ジエナールを与える上、副生するアルコールは分液操作によって容易に除去できるため、煩雑な精製操作によって不安定な２，４−ジエナールの収率を損なうことなく、効率的に得ることができる。
不安定な２，４−ジエナールを経由しない２，４−ジエナール＝アセタール化合物の製造方法として、様々なものが報告されている。Ａｌｅｘａｋｉｓらは、プロピナール＝ジエチル＝アセタールへのアルケニルＧｉｌｍａｎ試薬の付加により、２，４−ジエナール＝ジエチル＝アセタールを得ている（非特許文献１）。Ｇｒｅｅらは、フランにメタノール中、臭素を付加させることにより得られるフマルアルデヒド＝ビス（ジメチル＝アセタール）の一方のアセタールを選択的に加水分解した後、Ｗｉｔｔｉｇ反応により２，４−ジエナール＝ジメチル＝アセタールを得ている（非特許文献２）。Ｇｅｎｅｔらは、ヨウ化ビニルとアルケニルホウ素化合物のＳｕｚｕｋｉカップリングにより（非特許文献３）、Ａｂａｒｂｒｉらは、ヨウ化ビニルとアルケニルスズのＳｔｉｌｌカップリングにより（非特許文献４）、Ｔｈｉｏｔらは、ヨウ化ビニルとプロピナール＝ジエチル＝アセタールをパラジウム触媒、ロジウム触媒、シランの存在下でカップリングさせることにより（非特許文献５）、２，４−ジエナール＝アセタール化合物を得ている。
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４０（４），７１５（１９８４）
ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．２７，４９８３（１９８６）
ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．３６，１４４３（１９９５）
ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ．３６，２４６９（１９９５）
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ−ＡＥｕｒｏｐｅａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ,１３，８９７１（２００７）
しかし、非特許文献１に記載された方法では、当量以上の銅塩、２当量以上のアルケニルリチウムが必要なため経済的ではない。また、非特許文献２に記載された方法では、フマルアルデヒド＝ビス（ジメチル＝アセタール）を調製する際の後処理で、大過剰の無機塩を少量ずつ添加して中和を行う必要がある上に、ろ過によって大量の塩を除く必要がある点や、Ｗｉｔｔｉｇ反応で副生する大量のトリフェニルホスフィン＝オキシドを除去する必要がある点から工業的には実施し難い。非特許文献３、４、５に記載された方法は、いずれもパラジウムやロジウム等の高価な金属触媒を必要とするため、経済的ではない。
そのため、共役ジエン構造及び共役トリエン構造を有する性フェロモン化合物の基礎的な生物学的研究や農学的研究のために、また、応用や実用に供する目的のために、十分量のフェロモン原体の供給が可能な効率的な２，４−ジエナール＝アセタール化合物及び２，４−ジエナール化合物の製造方法が強く望まれている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、共役ジエン構造及び共役トリエン構造を有する性フェロモン化合物の合成中間体として有用な２，４−ジエナール＝アセタール化合物及び２，４−ジエナール化合物の製造方法を提供する。
そのため、共役ジエン構造及び共役トリエン構造を有する性フェロモン化合物の基礎的な生物学的研究や農学的研究のために、また、応用や実用に供する目的のために、十分量のフェロモン原体の供給が可能な効率的な２，４−ジエナール＝アセタール化合物及び２，４−ジエナール化合物の製造方法が強く望まれている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、共役ジエン構造及び共役トリエン構造を有する性フェロモン化合物の合成中間体として有用な２，４−ジエナール＝アセタール化合物及び２，４−ジエナール化合物の製造方法を提供する。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、５位に脱離基を有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、２，４−ジエナール＝アセタール化合物が効率的に合成できることを見出し、本発明を完成させた。
本発明の一つの態様によれば、下記一般式（１）
Ｒ１ＣＨＸ-ＣＨ２-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （１）
（式中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜１３の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の一価の炭化水素基を表し、又は結合してＲ２−Ｒ３として炭素数２〜１０の二価の炭化水素基を表し、Ｘは、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、炭素数１〜１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子である脱離基を表す。）
で表される５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、下記一般式（２）
Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （２）
で表される２，４−ジエナール＝アセタール化合物を得る工程を少なくとも含む２，４−ジエナール＝アセタール化合物の製造方法が提供される。
また、本発明の他の態様によれば、下記一般式（１）
Ｒ１ＣＨＸ-ＣＨ２-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （１）
（式中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜１３の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の一価の炭化水素基を表し、又は結合してＲ２−Ｒ３として炭素数２〜１０の二価の炭化水素基を表し、Ｘは、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、炭素数１〜１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子である脱離基を表す。）
で表される５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、下記一般式（２）
Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （２）
で表される２，４−ジエナール＝アセタール化合物を得る工程と、
前記２，４−ジエナール＝アセタールを脱保護することにより下記一般式（３）
Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨＯ （３）
で表される２，４−ジエナール化合物を得る工程とを少なくとも含む２，４−ジエナール化合物の製造方法が提供される。
本発明の一つの態様によれば、下記一般式（１）
Ｒ１ＣＨＸ-ＣＨ２-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （１）
（式中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜１３の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の一価の炭化水素基を表し、又は結合してＲ２−Ｒ３として炭素数２〜１０の二価の炭化水素基を表し、Ｘは、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、炭素数１〜１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子である脱離基を表す。）
で表される５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、下記一般式（２）
Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （２）
で表される２，４−ジエナール＝アセタール化合物を得る工程を少なくとも含む２，４−ジエナール＝アセタール化合物の製造方法が提供される。
また、本発明の他の態様によれば、下記一般式（１）
Ｒ１ＣＨＸ-ＣＨ２-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （１）
（式中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜１３の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の一価の炭化水素基を表し、又は結合してＲ２−Ｒ３として炭素数２〜１０の二価の炭化水素基を表し、Ｘは、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、炭素数１〜１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子である脱離基を表す。）
で表される５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、下記一般式（２）
Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （２）
で表される２，４−ジエナール＝アセタール化合物を得る工程と、
前記２，４−ジエナール＝アセタールを脱保護することにより下記一般式（３）
Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨＯ （３）
で表される２，４−ジエナール化合物を得る工程とを少なくとも含む２，４−ジエナール化合物の製造方法が提供される。
本発明によれば、５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、２，４−ジエナール＝アセタール化合物を効率的に製造することができる。
更に、得られた２，４−ジエナール＝アセタール化合物を脱保護することにより、２，４−ジエナール化合物を効率的に製造することができる。
更に、得られた２，４−ジエナール＝アセタール化合物を脱保護することにより、２，４−ジエナール化合物を効率的に製造することができる。
本明細書中の中間体、試薬や目的物の化学式において、構造上、置換位置の異なる異性体や、エナンチオ異性体あるいはジアステレオ異性体等の立体異性体が存在し得るものがあるが、特に記載がない限り、いずれの場合も各化学式はこれらの異性体のすべてを表すものとする。また、これらの異性体は、単独で用いてもよいし、混合物として用いてもよい。
まず、５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、２、４−ジエナール＝アセタール化合物を製造する方法について述べる。
５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物は下記一般式（１）で表される。
Ｒ１ＣＨＸ-ＣＨ２-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （１）
式中、Ｒ1は、水素原子又は炭素数１〜１３の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の一価の炭化水素基を表し、又は結合してＲ２−Ｒ３として炭素数２〜１０の二価の炭化水素基を表す。
５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物は下記一般式（１）で表される。
Ｒ１ＣＨＸ-ＣＨ２-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （１）
式中、Ｒ1は、水素原子又は炭素数１〜１３の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の一価の炭化水素基を表し、又は結合してＲ２−Ｒ３として炭素数２〜１０の二価の炭化水素基を表す。
Ｒ１に対応する置換又は非置換の一価の炭化水素基の炭素数は、好ましくは１〜１３、より好ましくは１〜９である。
Ｒ１に対応する一価の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基等の直鎖状の飽和炭化水素基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基等の分岐状の飽和炭化水素基、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、イソプロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基、シクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｒ１に対応する一価の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基等の直鎖状の飽和炭化水素基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基等の分岐状の飽和炭化水素基、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、イソプロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基、シクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｒ２及びＲ３に対応する一価の炭化水素基の炭素数は、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜５である。
Ｒ２及びＲ３に対応する一価の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等の直鎖状の飽和炭化水素基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基等の分岐状の飽和炭化水素基、２−プロペニル基、２−プロピニル基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、２−メチル−２−プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基、シクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｒ２及びＲ３に対応する一価の炭化水素基は、脱保護における反応性や精製の容易さを考慮すると、反応性が高く、脱保護により生成する副生物が水洗や濃縮によって容易に除去可能な低級（好ましくは炭素数１〜４）炭化水素基や一級炭化水素基が好ましい。これらを考慮すると、Ｒ２及びＲ３に対応する一価の炭化水素基の特に好ましい例として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基等が挙げられる。
Ｒ２及びＲ３に対応する一価の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等の直鎖状の飽和炭化水素基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基等の分岐状の飽和炭化水素基、２−プロペニル基、２−プロピニル基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、２−メチル−２−プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基、シクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｒ２及びＲ３に対応する一価の炭化水素基は、脱保護における反応性や精製の容易さを考慮すると、反応性が高く、脱保護により生成する副生物が水洗や濃縮によって容易に除去可能な低級（好ましくは炭素数１〜４）炭化水素基や一級炭化水素基が好ましい。これらを考慮すると、Ｒ２及びＲ３に対応する一価の炭化水素基の特に好ましい例として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基等が挙げられる。
次に、Ｒ２及びＲ３が結合してＲ２−Ｒ３として、炭素数２〜１０の二価の炭化水素基を表す場合について述べる。
Ｒ２−Ｒ３に対応する二価の炭化水素基の炭素数は、好ましくは２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６である。
Ｒ２−Ｒ３に対応する二価の炭化水素基としては、例えば、エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基等の直鎖状の飽和炭化水素基、１，２−プロピレン基、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基、１，２−ブチレン基、１，３−ブチレン基、２，３−ブチレン基、２，３−ジメチル−２，３−ブチレン基等の分岐状の飽和炭化水素基、１−ビニルエチレン基、（Ｚ）−２−ブテン−１，４−ジイル基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、２−メチレン−１，３−プロピレン基等の分岐状の不飽和炭化水素基、１，２−シクロプロピレン基、１，２−シクロブチレン基、１，２−シクロペンチレン基、１，２−シクロヘキシレン基、１，２−フェニレン基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｒ２−Ｒ３に対応する二価の炭化水素基は、脱保護における反応性や精製の容易さ、入手の容易さを考慮すると、反応性が高く、脱保護により生成する副生物が水洗や濃縮によって容易に除去可能な低級（好ましくは炭素数１〜４）炭化水素基が好ましい。これらを考慮すると、Ｒ２−Ｒ３に対応する二価の炭化水素基の特に好ましい例として、エチレン基、１，２−プロピレン基、１，３−プロピレン基、１，２−ブチレン基、１，３−ブチレン基、２，３−ジメチル−２，３−ブチレン基等が挙げられる。
Ｒ２−Ｒ３に対応する二価の炭化水素基の炭素数は、好ましくは２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６である。
Ｒ２−Ｒ３に対応する二価の炭化水素基としては、例えば、エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基等の直鎖状の飽和炭化水素基、１，２−プロピレン基、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基、１，２−ブチレン基、１，３−ブチレン基、２，３−ブチレン基、２，３−ジメチル−２，３−ブチレン基等の分岐状の飽和炭化水素基、１−ビニルエチレン基、（Ｚ）−２−ブテン−１，４−ジイル基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、２−メチレン−１，３−プロピレン基等の分岐状の不飽和炭化水素基、１，２−シクロプロピレン基、１，２−シクロブチレン基、１，２−シクロペンチレン基、１，２−シクロヘキシレン基、１，２−フェニレン基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｒ２−Ｒ３に対応する二価の炭化水素基は、脱保護における反応性や精製の容易さ、入手の容易さを考慮すると、反応性が高く、脱保護により生成する副生物が水洗や濃縮によって容易に除去可能な低級（好ましくは炭素数１〜４）炭化水素基が好ましい。これらを考慮すると、Ｒ２−Ｒ３に対応する二価の炭化水素基の特に好ましい例として、エチレン基、１，２−プロピレン基、１，３−プロピレン基、１，２−ブチレン基、１，３−ブチレン基、２，３−ジメチル−２，３−ブチレン基等が挙げられる。
一般式（１）中、Ｘは、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、炭素数１〜１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアレーンスルホニルオキシ基、ハロゲン原子のいずれかの脱離基を表す。
Ｘに対応するアルコキシ基の炭素数は、好ましくは１〜１２、より好ましくは炭素数１〜９である。
Ｘに対応するアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基等の直鎖状の飽和アルコキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基等の分岐状の飽和アルコキシ基、２−プロペニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基等の直鎖状の不飽和アルコキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基等の分岐状の不飽和アルコキシ基、シクロプロピルオキシ基、２−メチルシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基等の環状アルコキシ基、ベンジルオキシ基、パラメトキシベンジルオキシ基等の芳香環を含有するアルコキシ基、メトキシメトキシ基、２−メトキシエトキシメトキシ基、ベンジルオキシメトキシ基、パラメトキシベンジルオキシメトキシ基、１−エトキシエトキシ基、テトラヒドロピラン−２−イルオキシ基等のオキシアルコキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基等のハロゲン化アルコキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアルコキシ基でも良い。また、これらのアルコキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｘに対応するアルコキシ基としては、入手の容易さ、脱離により生成する副生物が水洗や濃縮によって容易に除去可能であること等の観点から特に好ましい例として、メトキシ基、エトキシ基、２−プロペニルオキシ基、メトキシメトキシ基、１−エトキシエトキシ基等が挙げられる。
Ｘに対応するアルコキシ基の炭素数は、好ましくは１〜１２、より好ましくは炭素数１〜９である。
Ｘに対応するアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基等の直鎖状の飽和アルコキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基等の分岐状の飽和アルコキシ基、２−プロペニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基等の直鎖状の不飽和アルコキシ基、２−メチル−２−プロペニルオキシ基等の分岐状の不飽和アルコキシ基、シクロプロピルオキシ基、２−メチルシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基等の環状アルコキシ基、ベンジルオキシ基、パラメトキシベンジルオキシ基等の芳香環を含有するアルコキシ基、メトキシメトキシ基、２−メトキシエトキシメトキシ基、ベンジルオキシメトキシ基、パラメトキシベンジルオキシメトキシ基、１−エトキシエトキシ基、テトラヒドロピラン−２−イルオキシ基等のオキシアルコキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基等のハロゲン化アルコキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアルコキシ基でも良い。また、これらのアルコキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｘに対応するアルコキシ基としては、入手の容易さ、脱離により生成する副生物が水洗や濃縮によって容易に除去可能であること等の観点から特に好ましい例として、メトキシ基、エトキシ基、２−プロペニルオキシ基、メトキシメトキシ基、１−エトキシエトキシ基等が挙げられる。
Ｘに対応するアシルオキシ基の炭素数は、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜７である。
Ｘに対応するアシルオキシ基としては、例えば、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、クロトニルオキシ基等の直鎖状の脂肪族アシルオキシ基、２−メチルプロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基等の分岐状の脂肪族アシルオキシ基、トリクロロアセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基等のハロゲン化アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアシルオキシ基でも良い。また、これらのアシルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｘに対応するアシルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
Ｘに対応するアシルオキシ基としては、例えば、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、クロトニルオキシ基等の直鎖状の脂肪族アシルオキシ基、２−メチルプロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基等の分岐状の脂肪族アシルオキシ基、トリクロロアセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基等のハロゲン化アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアシルオキシ基でも良い。また、これらのアシルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｘに対応するアシルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
Ｘに対応するシリルオキシ基の炭素数は、好ましくは３〜２０、より好ましくは３〜１６である。
Ｘに対応するシリルオキシ基としては、例えば、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基等のトリアルキルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基等のモノアルキルジアリールシリルオキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるシリルオキシ基でも良い。また、これらのシリルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｘに対応するシリルオキシ基としては、入手の容易さ、脱離により生成する副生物が濃縮によって容易に除去可能であること等の観点から特に好ましい例として、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基等が挙げられる。
Ｘに対応するシリルオキシ基としては、例えば、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基等のトリアルキルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基等のモノアルキルジアリールシリルオキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるシリルオキシ基でも良い。また、これらのシリルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｘに対応するシリルオキシ基としては、入手の容易さ、脱離により生成する副生物が濃縮によって容易に除去可能であること等の観点から特に好ましい例として、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基等が挙げられる。
Ｘに対応するアルカンスルホニルオキシ基の炭素数は、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８である。
Ｘに対応するアルカンスルホニルオキシ基としては、例えばメタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、１−ブタンスルホニルオキシ基、１−オクタンスルホニルオキシ基、アリルスルホニルオキシ基、１０−カンファ―スルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ベンジルスルホニルオキシ基が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアルカンスルホニルオキシ基でも良い。また、これらのアルカンスルホニルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｘに対応するアルカンスルホニルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
Ｘに対応するアルカンスルホニルオキシ基としては、例えばメタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、１−ブタンスルホニルオキシ基、１−オクタンスルホニルオキシ基、アリルスルホニルオキシ基、１０−カンファ―スルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ベンジルスルホニルオキシ基が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアルカンスルホニルオキシ基でも良い。また、これらのアルカンスルホニルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｘに対応するアルカンスルホニルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
Ｘに対応するアレーンスルホニルオキシ基の炭素数は、好ましくは６〜２０、より好ましくは６〜１５である。
Ｘに対応するアレーンスルホニルオキシ基としては、例えば、ベンゼンスルホニルオキシ基、４−クロロベンゼンスルホニルオキシ基、４−メトキシベンゼンスルホニルオキシ基、２−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、１−ナフタレンスルホニルオキシ基、２−ナフタレンスルホニルオキシ基が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアレーンスルホニルオキシ基でも良い。また、これらのアレーンスルホニルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｘに対応するアレーンスルホニルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、ベンゼンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
Ｘに対応するアレーンスルホニルオキシ基としては、例えば、ベンゼンスルホニルオキシ基、４−クロロベンゼンスルホニルオキシ基、４−メトキシベンゼンスルホニルオキシ基、２−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、１−ナフタレンスルホニルオキシ基、２−ナフタレンスルホニルオキシ基が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアレーンスルホニルオキシ基でも良い。また、これらのアレーンスルホニルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Ｘに対応するアレーンスルホニルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、ベンゼンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
Ｘに対応するハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Ｘに対応するハロゲン原子としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
Ｘに対応するハロゲン原子としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物においては、アセタール基の電子的影響で４位の酸性度が高まるため、脱離基Ｘが脱離能の高いアルカンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基、ハロゲン原子の場合のみならず、脱離能の低いアルコキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基等の場合であっても、高い脱離能を有する別の脱離基への変換を要せず、そのまま脱離反応を行うことができる。
脱離基Ｘが脱離能の低いアルコキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基である利点としては、アルカンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基、ハロゲン原子に比べ、５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物の熱安定性が高いため、工業的に有利な蒸留による精製が容易であること等が挙げられる。
一方、アセタール基の代わりに炭化水素基を有する基質では、４位の酸性度が高まらないため、脱離能の低いアルコキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基では特に脱離反応が効率的に進行しない。
脱離基Ｘが脱離能の低いアルコキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基である利点としては、アルカンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基、ハロゲン原子に比べ、５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物の熱安定性が高いため、工業的に有利な蒸留による精製が容易であること等が挙げられる。
一方、アセタール基の代わりに炭化水素基を有する基質では、４位の酸性度が高まらないため、脱離能の低いアルコキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基では特に脱離反応が効率的に進行しない。
５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物における幾何異性体としては、（Ｅ）−２−エナール＝アセタール化合物と（Ｚ）−２−エナール＝アセタール化合物が挙げられる。
なお、Ｒ１が水素原子である場合においては、ペンテナール＝アセタール化合物となる。
なお、Ｒ１が水素原子である場合においては、ペンテナール＝アセタール化合物となる。
５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物（１）は、公知の方法を利用することにより製造することができる。例えば、下記一般式（４）で表される５位に脱離基Ｘを有する２−イナール＝アセタール化合物の三重結合を水素添加することで５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物（１）のＺ体を、ヒドロシリル化−脱シリル化によって二重結合に還元することにより、５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物（１）のＥ体をそれぞれ選択的に得ることができる。下式中、Ｒ1、Ｒ２、Ｒ３は、上記と同様である。
本発明の脱離反応は、下記一般式（１）で表される５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物の４位が、塩基存在下で脱プロトン化されることで進行する。そのため、２位の幾何は反応の前後で保持される。つまり、５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物のＥ体からは、（２Ｅ）−２，４−ジエナール＝アセタール化合物が、Ｚ体からは、（２Ｚ）−２，４−ジエナール＝アセタール化合物が得られる。下式中、Ｒ1、Ｒ２、Ｒ３は、上記と同様である。
脱離反応は、Ｅ２脱離機構で進行すると考えられる。Ｅ２脱離では、４位の水素と５位の脱離基Ｘ、４位のビニル基と５位のＲ１が共にアンチペリプラナーの関係にある立体配座を経て反応が進行することが最も有利であるため、４位の幾何がＥである幾何異性体を優先的に与える。一方、次に有利な４位の水素と５位の脱離基Ｘがアンチペリプラナーの関係にあり、４位のビニル基と５位のＲ１がゴーシュの関係にある立体配座を経て反応が進行すると、４位の幾何がＺである幾何異性体を与える。
脱離反応に用いる塩基としては、例えば、ナトリウム＝メトキシド、ナトリウム＝エトキシド、ナトリウム＝ｔ−ブトキシド、ナトリウム＝ｔ−アミロキシド、リチウム＝メトキシド、リチウム＝エトキシド、リチウム＝ｔ−ブトキシド、リチウム＝ｔ−アミロキシド、カリウム＝メトキシド、カリウム＝エトキシド、カリウム＝ｔ−ブトキシド、カリウム＝ｔ−アミロキシド等の金属アルコキシド類、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、塩化メチルマグネシウム、ジムシルナトリウム等の有機金属試薬類、ナトリウム＝アミド、リチウム＝アミド、リチウム＝ジイソプロピルアミド、リチウム＝ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム＝ヘキサメチルジシラジド、カリウム＝ヘキサメチルジシラジド、リチウム＝ジシクロヘキシルアミド等の金属アミド類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化金属類、トリエチルアミン、ピペリジン、ピロリジン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５.４．０］−７−ウンデセン等のアミン類等を挙げることができる。これらの塩基は、基質の種類や反応性や選択性を考慮して選択できる。
脱離反応に用いる塩基の使用量は、収率及び経済性の観点から、５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物（１）１ｍｏｌに対して、好ましくは０．６〜３ｍｏｌ、より好ましくは０．７〜２ｍｏｌ、更に好ましくは０．８〜１．５ｍｏｌである。
脱離反応に用いる塩基の使用量は、収率及び経済性の観点から、５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物（１）１ｍｏｌに対して、好ましくは０．６〜３ｍｏｌ、より好ましくは０．７〜２ｍｏｌ、更に好ましくは０．８〜１．５ｍｏｌである。
脱離反応に用いる溶媒としては、例えば、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類、Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチル＝スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、ｔ−ブチルアルコール等のアルコール類が挙げられ、これらを単独又は混合して用いることができる。
脱離反応に用いる溶媒の使用量は、５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物（１）１ｍｏｌに対し、好ましくは０〜１０，０００ｇ、より好ましくは０〜５，０００ｇである。
脱離反応に用いる溶媒の使用量は、５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物（１）１ｍｏｌに対し、好ましくは０〜１０，０００ｇ、より好ましくは０〜５，０００ｇである。
塩基として金属アルコキシド類、有機金属試薬類、金属アミド類、水素化金属類を用いる場合における脱離反応の反応温度は、収率の観点から、好ましくは−７８〜５０℃、より好ましくは−５０〜４０℃、更に好ましくは−３０〜３０℃である。
塩基としてアミン類を用いる場合における脱離反応の反応温度は、収率の観点から、好ましくは０〜１８０℃、より好ましくは１０〜１５０℃、更に好ましくは２０℃〜１３０℃である。
塩基としてアミン類を用いる場合における脱離反応の反応温度は、収率の観点から、好ましくは０〜１８０℃、より好ましくは１０〜１５０℃、更に好ましくは２０℃〜１３０℃である。
脱離反応の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）やシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常０．５〜２４時間程度である。
Ｒ１が水素原子である場合における２，４−ジエナール＝アセタール化合物の幾何異性体としては、（２Ｅ）−２，４−ペンタジエナール＝アセタール化合物、（２Ｚ）−２，４−ペンタジエナール＝アセタール化合物が挙げられる。
Ｒ１が炭素数１〜１３の置換又は非置換の一価の炭化水素基である場合における２，４−ジエナール＝アセタール化合物（２）の幾何異性体としては、（２Ｅ、４Ｅ）−２，４−ジエナール＝アセタール化合物、（２Ｅ、４Ｚ）−２，４−ジエナール＝アセタール化合物、（２Ｚ、４Ｅ）−２，４−ジエナール＝アセタール化合物、（２Ｚ、４Ｚ）−２，４−ジエナール＝アセタール化合物が挙げられる。
Ｒ１が炭素数１〜１３の置換又は非置換の一価の炭化水素基である場合における２，４−ジエナール＝アセタール化合物（２）の幾何異性体としては、（２Ｅ、４Ｅ）−２，４−ジエナール＝アセタール化合物、（２Ｅ、４Ｚ）−２，４−ジエナール＝アセタール化合物、（２Ｚ、４Ｅ）−２，４−ジエナール＝アセタール化合物、（２Ｚ、４Ｚ）−２，４−ジエナール＝アセタール化合物が挙げられる。
次に、２，４−ジエナール＝アセタール化合物（２）を脱保護することにより、２，４−ジエナール化合物（３）を製造する方法について述べる。
脱保護としては、加水分解反応による脱保護、求核置換反応による脱保護等が挙げられる。
脱保護としては、加水分解反応による脱保護、求核置換反応による脱保護等が挙げられる。
まず、加水分解反応による脱保護について述べる。
加水分解反応による脱保護に用いる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸類又はこれらの塩類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の有機酸類又はこれらの塩類、テトラフルオロホウ酸リチウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化錫、四塩化チタン、四臭化チタン、トリメチルヨードシラン等のルイス酸類、アルミナ、シリカゲル、チタニア等の酸化物、モンモリロナイト等の鉱物を挙げることができ、これらは単独又は混合して用いられる。
加水分解反応による脱保護に用いる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸類又はこれらの塩類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の有機酸類又はこれらの塩類、テトラフルオロホウ酸リチウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化錫、四塩化チタン、四臭化チタン、トリメチルヨードシラン等のルイス酸類、アルミナ、シリカゲル、チタニア等の酸化物、モンモリロナイト等の鉱物を挙げることができ、これらは単独又は混合して用いられる。
加水分解反応による脱保護に用いる酸の使用量は、経済性の点からは少量の酸が好ましく、実用上十分な反応速度が得られれば任意に設定できるが、基質の２，４−ジエナール＝アセタール化合物１ｍｏｌに対して、好ましくは０．００００１〜１０，０００ｍｏｌ、より好ましくは０．０００１〜１，０００ｍｏｌ、更に好ましくは０．００１〜１００ｍｏｌである。
加水分解反応による脱保護に用いる溶媒としては、例えば、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチル＝スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、ｔ−ブチルアルコール等のアルコール類が挙げられ、これらを単独又は混合して用いることができる。
加水分解反応による脱保護に使用する溶媒の使用量は、２，４−ジエナール＝アセタール化合物１ｍｏｌに対し、好ましくは０〜１０，０００ｇである。
加水分解反応による脱保護に用いる水の使用量は、加える水の量が多いほど平衡がアルデヒドの生成側に傾くため有利だが、経済性、作業性、収率等を考慮すると、２，４−ジエナール＝アセタール化合物１ｍｏｌに対し、好ましくは１〜１０，０００ｍｏｌ、より好ましくは１〜１，０００ｍｏｌ、更に好ましくは１〜５００ｍｏｌである。
加水分解反応による脱保護において、反応系中の水溶液のｐＨを好ましくは１．０超過、より好ましくは１．０を超えて７．０未満、更に好ましくは２．０以上６．０以下とすることで原料の２，４−ジエナール＝アセタール化合物の幾何構造を保持した２，４−ジエナール化合物を製造することができる。一方、反応系中の水溶液のｐＨを好ましくは１以下、より好ましくは−１．０以上１．０以下、更に好ましくは０以上１．０以下とすることで、異性化が進行して、原料の２，４−ジエナール＝アセタール化合物の２位及び４位の幾何構造に関わらず、（２Ｅ，４Ｅ）−２，４−ジエナール化合物が選択的に得られる。
ｐＨ値は、例えばｐＨ試験紙や測定対象の液温を２５℃としてｐＨメータを用いて測定できる。
ｐＨ値は、例えばｐＨ試験紙や測定対象の液温を２５℃としてｐＨメータを用いて測定できる。
加水分解反応による脱保護の反応温度は、反応条件に拠るが−７８〜１６０℃、好ましくは−５０〜１４０℃、更に好ましくは−３０〜１２０℃である。
加水分解反応による脱保護の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）やシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常０．５〜２４時間程度である。
また、アセタールの加水分解により生成するアルコールを留出や層分離等の方法で系外に除去しながら反応を行っても良い。
加水分解反応による脱保護の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）やシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常０．５〜２４時間程度である。
また、アセタールの加水分解により生成するアルコールを留出や層分離等の方法で系外に除去しながら反応を行っても良い。
次に、求核置換反応による脱保護について説明する。
求核置換反応による脱保護に用いる求核試薬としては、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、四塩化チタン、塩化亜鉛等のハロゲン化金属塩、三臭化ホウ素、ブロモジメチルボラン等のハロゲン化ホウ素、ヨードトリメチルシラン、ブロモトリメチルシラン等のハロゲン化ケイ素を挙げることができ、これらは単独又は混合して用いられる。
求核置換反応による脱保護に用いる求核試薬の使用量としては、基質の２，４−ジエナール＝アセタール化合物１ｍｏｌに対して、好ましくは０．６〜２０ｍｏｌ、より好ましくは０．７〜１０ｍｏｌ、更に好ましくは０．８〜５ｍｏｌである。
求核置換反応による脱保護に用いる求核試薬としては、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、四塩化チタン、塩化亜鉛等のハロゲン化金属塩、三臭化ホウ素、ブロモジメチルボラン等のハロゲン化ホウ素、ヨードトリメチルシラン、ブロモトリメチルシラン等のハロゲン化ケイ素を挙げることができ、これらは単独又は混合して用いられる。
求核置換反応による脱保護に用いる求核試薬の使用量としては、基質の２，４−ジエナール＝アセタール化合物１ｍｏｌに対して、好ましくは０．６〜２０ｍｏｌ、より好ましくは０．７〜１０ｍｏｌ、更に好ましくは０．８〜５ｍｏｌである。
求核置換反応による脱保護に用いる溶媒としては、例えば、ジエチル＝エーテル、ジブチル＝エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチル＝スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、ｔ−ブチルアルコール等のアルコール類が挙げられ、これらを単独又は混合して用いることができる。
求核置換反応による脱保護に用いる溶媒の使用量としては、２，４−ジエナール＝アセタール化合物１ｍｏｌに対し、好ましくは０〜１０，０００ｇである。
求核置換反応による脱保護に用いる溶媒の使用量としては、２，４−ジエナール＝アセタール化合物１ｍｏｌに対し、好ましくは０〜１０，０００ｇである。
求核置換反応による脱保護の反応温度は、反応条件に拠るが、好ましくは−７８〜１６０℃、より好ましくは−５０〜１４０℃、更に好ましくは−３０〜１２０℃で行うのが良い。
求核置換反応による脱保護の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）やシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常０．５〜２４時間程度である。
以上のようにして、中間体として有用な２，４−ジエナール＝アセタール化合物及び２，４−ジエナール化合物の簡便かつ効率的な製造方法が提供される。
求核置換反応による脱保護の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）やシリカゲル薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常０．５〜２４時間程度である。
以上のようにして、中間体として有用な２，４−ジエナール＝アセタール化合物及び２，４−ジエナール化合物の簡便かつ効率的な製造方法が提供される。
以下、実施例を示して、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
化合物のスペクトル測定のサンプルは、必要に応じて粗生成物を精製した。また、粗収率とは、精製を行わずに算出した収率をいう。
実施例１
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（１）
窒素雰囲気下、反応器にカリウム＝ｔ−ブトキシド（１６９ｇ，１．５１ｍｏｌ）、ＤＭＦ（４６７ｇ）を加えた後、０〜５℃で撹拌し、（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−３−ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２６２ｇ，１．２０ｍｏｌ）を０〜１０℃で滴下し、室温で２０時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、ヘキサンで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行った後、減圧蒸留を行うことにより目的の（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（１８７ｇ，１．０７ｍｏｌ）を収率８９％で得た。
化合物のスペクトル測定のサンプルは、必要に応じて粗生成物を精製した。また、粗収率とは、精製を行わずに算出した収率をいう。
実施例１
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（１）
窒素雰囲気下、反応器にカリウム＝ｔ−ブトキシド（１６９ｇ，１．５１ｍｏｌ）、ＤＭＦ（４６７ｇ）を加えた後、０〜５℃で撹拌し、（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−３−ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２６２ｇ，１．２０ｍｏｌ）を０〜１０℃で滴下し、室温で２０時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、ヘキサンで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行った後、減圧蒸留を行うことにより目的の（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（１８７ｇ，１．０７ｍｏｌ）を収率８９％で得た。
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）
無色から淡黄色油状液体
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝３０８８，２９７６，２９３０，２８８０，１５９５，１４８２，１４４４，１３７３，１３２５，１２９１，１１２３，１０５５，１００２，９１１，８４１，７９３，６０４，５３４ｃｍ-1。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．１７−１．２２（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．４６−３．５４（２Ｈ，ｍ），３．６１−３．６７（２Ｈ，ｍ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ），５．２５−５．２８（１Ｈ，ｍ），５．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，６．５Ｈｚ），５．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，１１．３Ｈｚ），６．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ），６．６８−６．７６（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１５．１８，６０．５３，９７．６９，１２０．０８，１２８．４７，１３１．８７，１３２．５３ｐｐｍ。
無色から淡黄色油状液体
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝３０８８，２９７６，２９３０，２８８０，１５９５，１４８２，１４４４，１３７３，１３２５，１２９１，１１２３，１０５５，１００２，９１１，８４１，７９３，６０４，５３４ｃｍ-1。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．１７−１．２２（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．４６−３．５４（２Ｈ，ｍ），３．６１−３．６７（２Ｈ，ｍ），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ），５．２５−５．２８（１Ｈ，ｍ），５．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，６．５Ｈｚ），５．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，１１．３Ｈｚ），６．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ），６．６８−６．７６（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１５．１８，６０．５３，９７．６９，１２０．０８，１２８．４７，１３１．８７，１３２．５３ｐｐｍ。
実施例２
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（２）
カリウム＝ｔ−ブトキシド（１６９ｇ，１．５１ｍｏｌ）の代わりに、ナトリウム＝ヘキサメチルジシラジドのテトラヒドロフラン溶液（１．９ｍｏｌ／ｌ，７９５ｍｌ，１．５１ｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で行い、（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（１４３ｇ，１．０２ｍｏｌ）を収率８５％で得た。
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（２）
カリウム＝ｔ−ブトキシド（１６９ｇ，１．５１ｍｏｌ）の代わりに、ナトリウム＝ヘキサメチルジシラジドのテトラヒドロフラン溶液（１．９ｍｏｌ／ｌ，７９５ｍｌ，１．５１ｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で行い、（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（１４３ｇ，１．０２ｍｏｌ）を収率８５％で得た。
実施例３
（Ｅ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−３−ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２６２ｇ，１．２０ｍｏｌ）の代わりに、（Ｅ）−５，５−ジエトキシ−３−ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２６２ｇ，１．２０ｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で行い、（Ｅ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（１６１ｇ，１．０３ｍｏｌ）を収率８６％で得た。
（Ｅ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−３−ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２６２ｇ，１．２０ｍｏｌ）の代わりに、（Ｅ）−５，５−ジエトキシ−３−ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２６２ｇ，１．２０ｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で行い、（Ｅ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（１６１ｇ，１．０３ｍｏｌ）を収率８６％で得た。
（Ｅ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（２）
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．２０（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．４１−３．５２（２Ｈ，ｍ），３．６０−３．６６（２Ｈ，ｍ），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），５．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，１４．１Ｈｚ），５．２４−５．２７（１Ｈ，ｍ），５．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，１４．６Ｈｚ），６．２９−６．３７（２Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１５．１７，６０．９２，１００．９３，１１８．７６，１３０．５１，１３３．５３，１３５．９０ｐｐｍ。
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．２０（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．４１−３．５２（２Ｈ，ｍ），３．６０−３．６６（２Ｈ，ｍ），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），５．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，１４．１Ｈｚ），５．２４−５．２７（１Ｈ，ｍ），５．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，１４．６Ｈｚ），６．２９−６．３７（２Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１５．１７，６０．９２，１００．９３，１１８．７６，１３０．５１，１３３．５３，１３５．９０ｐｐｍ。
実施例４
（Ｅ）−２−ブタ−１，３−ジエニル−４−メチル−１，３−ジオキソラン（２）の製造
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−３−ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２６２ｇ，１．２０ｍｏｌ）の代わりに、（Ｅ）−２−（４−メトキシメトキシ−１−ブテニル）−４−メチル−１，３−ジオキソラン（２４３ｇ，１．２０ｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で行い、（Ｅ）−２−ブタ−１，３−ジエニル−４−メチル−１，３−ジオキソラン（２）（１４３ｇ，１．０２ｍｏｌ）を収率８５％で得た。
（Ｅ）−２−ブタ−１，３−ジエニル−４−メチル−１，３−ジオキソラン（２）の製造
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−３−ペンテニル＝メトキシメチル＝エーテル（２６２ｇ，１．２０ｍｏｌ）の代わりに、（Ｅ）−２−（４−メトキシメトキシ−１−ブテニル）−４−メチル−１，３−ジオキソラン（２４３ｇ，１．２０ｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で行い、（Ｅ）−２−ブタ−１，３−ジエニル−４−メチル−１，３−ジオキソラン（２）（１４３ｇ，１．０２ｍｏｌ）を収率８５％で得た。
（Ｅ）−２−ブタ−１，３−ジエニル−４−メチル−１，３−ジオキソラン（２）
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．２７（１．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），１．３１（１．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），３．４１（０．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．４６（０．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．９９（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，７．６Ｈｚ），４．１３（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，７．６Ｈｚ），４．１５−４．２９（１Ｈ，ｍ），５．１７−５．２０（１Ｈ，ｍ），５．２７−５．３４（１.５Ｈ，ｍ），５．４２（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），５．６３−５．７２（１Ｈ，ｍ），６．３０−６．４２（２Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．２７（１．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），１．３１（１．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），３．４１（０．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．４６（０．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．９９（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，７．６Ｈｚ），４．１３（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，７．６Ｈｚ），４．１５−４．２９（１Ｈ，ｍ），５．１７−５．２０（１Ｈ，ｍ），５．２７−５．３４（１.５Ｈ，ｍ），５．４２（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），５．６３−５．７２（１Ｈ，ｍ），６．３０−６．４２（２Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
実施例５
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（１）
窒素雰囲気下、反応器に（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝ベンゾエート（１．０３ｇ，４．１２ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（３３ｇ）を加えた後、０〜５℃で撹拌し、カリウム＝ヘキサメチルジシラジドのトルエン溶液（０．５ｍｏｌ／ｌ，１２．４ｍｌ，６．１８ｍｍｏｌ）を０〜１０℃で滴下し、０〜１０℃で３時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、エーテルで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（０．４２２ｇ，３．３０ｍｍｏｌ）を粗収率８０％で得た。
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（１）
窒素雰囲気下、反応器に（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝ベンゾエート（１．０３ｇ，４．１２ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（３３ｇ）を加えた後、０〜５℃で撹拌し、カリウム＝ヘキサメチルジシラジドのトルエン溶液（０．５ｍｏｌ／ｌ，１２．４ｍｌ，６．１８ｍｍｏｌ）を０〜１０℃で滴下し、０〜１０℃で３時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、エーテルで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（０．４２２ｇ，３．３０ｍｍｏｌ）を粗収率８０％で得た。
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝３．２７（３Ｈ，ｓ），５．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，６．２Ｈｚ），５．１７−５．２６（２Ｈ，ｍ），５．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．１，１１．１Ｈｚ），６．１４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝０．８，１１．８Ｈｚ），６．６１−６．６９（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝３．２７（３Ｈ，ｓ），５．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，６．２Ｈｚ），５．１７−５．２６（２Ｈ，ｍ），５．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．１，１１．１Ｈｚ），６．１４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝０．８，１１．８Ｈｚ），６．６１−６．６９（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
実施例６
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（２）
窒素雰囲気下、反応器にカリウム＝ｔ−ブトキシド（３．３５ｇ，２９．９ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（２０ｇ）を加えた後、０〜５℃で撹拌し、（Ｚ）−エチル＝５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝エーテル（３．４８ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）を０〜１０℃で滴下し、室温で３時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、エーテルで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（１．９２ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）を粗収率７５％で得た。
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（２）
窒素雰囲気下、反応器にカリウム＝ｔ−ブトキシド（３．３５ｇ，２９．９ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（２０ｇ）を加えた後、０〜５℃で撹拌し、（Ｚ）−エチル＝５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝エーテル（３．４８ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）を０〜１０℃で滴下し、室温で３時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、エーテルで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（１．９２ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）を粗収率７５％で得た。
実施例７
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（３）
（Ｚ）−エチル＝５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝エーテル（３．４８ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）の代わりに、（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−３−ペンテニルオキシトリメチルシラン（４．３７ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例５と同様の方法で行い、（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（２．０８ｇ，１６．２ｍｍｏｌ）を粗収率８１％で得た。
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（３）
（Ｚ）−エチル＝５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝エーテル（３．４８ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）の代わりに、（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−３−ペンテニルオキシトリメチルシラン（４．３７ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例５と同様の方法で行い、（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（２．０８ｇ，１６．２ｍｍｏｌ）を粗収率８１％で得た。
実施例８
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（４）
（Ｚ）−エチル＝５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝エーテル（３．４８ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）の代わりに、（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝メタンスルホナート（４．４９ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例５と同様の方法で行い、（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（２．０８ｇ，１６．２ｍｍｏｌ）を粗収率８１％で得た。
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（４）
（Ｚ）−エチル＝５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝エーテル（３．４８ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）の代わりに、（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝メタンスルホナート（４．４９ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例５と同様の方法で行い、（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（２．０８ｇ，１６．２ｍｍｏｌ）を粗収率８１％で得た。
実施例９
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（５）
（Ｚ）−エチル＝５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝エーテル（３．４８ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）の代わりに、（Ｚ）−５−クロロ−１，１−ジメトキシ−３−ペンテン（３．２９ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例５と同様の方法で行い、（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（２．０５ｇ，１６．０ｍｍｏｌ）を粗収率８０％で得た。
（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）の製造（５）
（Ｚ）−エチル＝５，５−ジメトキシ−３−ペンテニル＝エーテル（３．４８ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）の代わりに、（Ｚ）−５−クロロ−１，１−ジメトキシ−３−ペンテン（３．２９ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例５と同様の方法で行い、（Ｚ）−５，５−ジメトキシ−１，３−ペンタジエン（２）（２．０５ｇ，１６．０ｍｍｏｌ）を粗収率８０％で得た。
実施例１０
１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（２）の製造（１）
窒素雰囲気下、反応器に（Ｚ）−６，６−ジエトキシ−４−ヘキセン−２−イル＝メタンスルホナート（２６０ｍｇ，０．９７６ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ（２２０ｍｇ，１．４５ｍｍｏｌ）、トルエン（４ｇ）を加えた後、加熱還流下、５時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（２）（１２２ｍｇ，０．７８１ｍｍｏｌ）を２Ｚ４Ｅ：２Ｚ４Ｚ＝７３：２７の幾何異性体混合物として粗収率８０％で得た。
１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（２）の製造（１）
窒素雰囲気下、反応器に（Ｚ）−６，６−ジエトキシ−４−ヘキセン−２−イル＝メタンスルホナート（２６０ｍｇ，０．９７６ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ（２２０ｍｇ，１．４５ｍｍｏｌ）、トルエン（４ｇ）を加えた後、加熱還流下、５時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（２）（１２２ｍｇ，０．７８１ｍｍｏｌ）を２Ｚ４Ｅ：２Ｚ４Ｚ＝７３：２７の幾何異性体混合物として粗収率８０％で得た。
１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（２）
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．１８−１．２４（６Ｈ，ｍ），１．７８（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１.５，６．９Ｈｚ），３．４６−３．５４（２Ｈ，ｍ），３．６１−３．６８（２Ｈ，ｍ），５．２９−５．３４（２Ｈ，ｍ），５．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．０，１４．９Ｈｚ），６．０８−６．１４（１Ｈ，ｍ），６．３３−６．５０（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ（ＺＥ体）。
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．１８−１．２４（６Ｈ，ｍ），１．７８（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１.５，６．９Ｈｚ），３．４６−３．５４（２Ｈ，ｍ），３．６１−３．６８（２Ｈ，ｍ），５．２９−５．３４（２Ｈ，ｍ），５．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．０，１４．９Ｈｚ），６．０８−６．１４（１Ｈ，ｍ），６．３３−６．５０（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ（ＺＥ体）。
実施例１１
１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（２）の製造（２）
窒素雰囲気下、反応器にカリウム＝ｔ−ブトキシド（１.６８ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（５０ｇ）を加えた後、０〜５℃で撹拌し、（Ｚ）−６，６−ジエトキシ−４−ヘキセン−２−イル＝メトキシメチル＝エーテル（２.５８ｇ，１１．１ｍｍｏｌ）を０〜１０℃で滴下し、室温で２０時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、エーテルで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（２）（１．２３ｇ，７．２２ｍｍｏｌ）を２Ｚ４Ｅ：２Ｚ４Ｚ＝７３：２７の幾何異性体混合物として粗収率６５％で得た。
１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（２）の製造（２）
窒素雰囲気下、反応器にカリウム＝ｔ−ブトキシド（１.６８ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（５０ｇ）を加えた後、０〜５℃で撹拌し、（Ｚ）−６，６−ジエトキシ−４−ヘキセン−２−イル＝メトキシメチル＝エーテル（２.５８ｇ，１１．１ｍｍｏｌ）を０〜１０℃で滴下し、室温で２０時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、エーテルで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（２）（１．２３ｇ，７．２２ｍｍｏｌ）を２Ｚ４Ｅ：２Ｚ４Ｚ＝７３：２７の幾何異性体混合物として粗収率６５％で得た。
実施例１〜１１において示すように、５位に脱離基を有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、２，４−ジエナール＝アセタール化合物を効率的に製造できる。特にアルコキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基のような脱離能の低い脱離基であっても温和な条件下で脱離反応が進行させることができる。
比較例１
（Ｅ）−１，３−テトラデカジエンの製造
窒素雰囲気下、反応器にカリウム＝ｔ−ブトキシド（１．６９ｇ，１５．１ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（４．７ｇ）を加えた後、０〜５℃で撹拌し、（Ｅ）−３−テトラデカジエニル＝メトキシメチル＝エーテル（３．０８ｇ，１２.０ｍｍｏｌ）を０〜１０℃で滴下し、室温で２０時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、ヘキサンで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより、１，３−テトラデカジエンの幾何異性体及び二重結合に関する位置異性体の混合物（０．６５３ｇ，３．３６ｍｍｏｌ）と原料の（Ｅ）−３−テトラデカジエニル＝メトキシメチル＝エーテル（０．５８４ｇ，２．２８ｍｍｏｌ）を含む粗生成物を得た。テトラデカジエン異性体は少なくとも６種存在することがＧＣ／ＭＳにより確認された。二重結合の幾何及び位置は同定できておらず、（Ｅ）−１，３−テトラデカジエンの収率は算出できなかった。テトラデカジエン異性体混合物としての粗収率は２８％であった。
このように、二重結合のα位のアセタール基の代わりに炭化水素基を持つ基質では、効率的に脱離が進行しなかった。
（Ｅ）−１，３−テトラデカジエンの製造
窒素雰囲気下、反応器にカリウム＝ｔ−ブトキシド（１．６９ｇ，１５．１ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（４．７ｇ）を加えた後、０〜５℃で撹拌し、（Ｅ）−３−テトラデカジエニル＝メトキシメチル＝エーテル（３．０８ｇ，１２.０ｍｍｏｌ）を０〜１０℃で滴下し、室温で２０時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、ヘキサンで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより、１，３−テトラデカジエンの幾何異性体及び二重結合に関する位置異性体の混合物（０．６５３ｇ，３．３６ｍｍｏｌ）と原料の（Ｅ）−３−テトラデカジエニル＝メトキシメチル＝エーテル（０．５８４ｇ，２．２８ｍｍｏｌ）を含む粗生成物を得た。テトラデカジエン異性体は少なくとも６種存在することがＧＣ／ＭＳにより確認された。二重結合の幾何及び位置は同定できておらず、（Ｅ）−１，３−テトラデカジエンの収率は算出できなかった。テトラデカジエン異性体混合物としての粗収率は２８％であった。
このように、二重結合のα位のアセタール基の代わりに炭化水素基を持つ基質では、効率的に脱離が進行しなかった。
実施例１２
（Ｅ）−２，４−ペンタジエナール（３）の製造（１）
窒素雰囲気下、反応器に（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（７７．５ｇ，０．４９６ｍｏｌ）、トルエン（６３２ｇ）、水（１８ｇ）を加えた後、０〜１０℃で撹拌し、２０％塩酸（７１ｇ）を０〜１０℃で滴下し、０〜１０℃で３時間撹拌した。ｐＨ試験紙で水層のｐＨが１未満であることを確認した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の（Ｅ）−２，４−ペンタジエナール（３）（３９．７ｇ，０．４８３ｍｏｌ）のトルエン溶液（６８１ｇ）を収率９７％で得た。
（Ｅ）−２，４−ペンタジエナール（３）の製造（１）
窒素雰囲気下、反応器に（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（７７．５ｇ，０．４９６ｍｏｌ）、トルエン（６３２ｇ）、水（１８ｇ）を加えた後、０〜１０℃で撹拌し、２０％塩酸（７１ｇ）を０〜１０℃で滴下し、０〜１０℃で３時間撹拌した。ｐＨ試験紙で水層のｐＨが１未満であることを確認した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の（Ｅ）−２，４−ペンタジエナール（３）（３９．７ｇ，０．４８３ｍｏｌ）のトルエン溶液（６８１ｇ）を収率９７％で得た。
（Ｅ）−２，４−ペンタジエナール（３）
無色から淡黄色油状液体
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝２８１７，２７２６，１６８３，１６３５，１５９２，１４２１，１１７２，１１０８，１０１７，９９７，９３５，８５３，６００ｃｍ-1。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝５．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．８，１９．９Ｈｚ），５．７０−５．７４（１Ｈ，ｍ），６．１２−６．１６（１Ｈ，ｍ），６．５２−６．６０（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（１Ｈ，ｍ），９．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）ｐｐｍ。
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１２７．４５，１３２．２６，１３４．７３，１５１．８５，１９３．６５ｐｐｍ。
無色から淡黄色油状液体
ＩＲ（Ｄ−ＡＴＲ）：ν＝２８１７，２７２６，１６８３，１６３５，１５９２，１４２１，１１７２，１１０８，１０１７，９９７，９３５，８５３，６００ｃｍ-1。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝５．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．８，１９．９Ｈｚ），５．７０−５．７４（１Ｈ，ｍ），６．１２−６．１６（１Ｈ，ｍ），６．５２−６．６０（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（１Ｈ，ｍ），９．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）ｐｐｍ。
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１２７．４５，１３２．２６，１３４．７３，１５１．８５，１９３．６５ｐｐｍ。
実施例１３
（Ｅ）−２，４−ペンタジエナール（３）の製造（２）
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（７７．５ｇ，０．４９６ｍｏｌ）の代わりに（Ｅ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（７７．５ｇ，０．４９６ｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１２と同様の方法で行い、（Ｅ）−２，４−ペンタジエナール（３）（３９．７ｇ，０．４８３ｍｏｌ）のトルエン溶液（６８１ｇ）を収率９７％で得た。
（Ｅ）−２，４−ペンタジエナール（３）の製造（２）
（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（７７．５ｇ，０．４９６ｍｏｌ）の代わりに（Ｅ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（７７．５ｇ，０．４９６ｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１２と同様の方法で行い、（Ｅ）−２，４−ペンタジエナール（３）（３９．７ｇ，０．４８３ｍｏｌ）のトルエン溶液（６８１ｇ）を収率９７％で得た。
実施例１４
（Ｚ）−２，４−ペンタジエナール（３）の製造（１）
窒素雰囲気下、反応器に（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（７７．５ｇ，０．４９６ｍｏｌ）、トルエン（６３２ｇ）、水（２６１ｇ）を加えた後、０〜１０℃で撹拌し、２０％塩酸（１ｇ）を０〜１０℃で滴下し、０〜１０℃で３時間撹拌した。ｐＨ試験紙で水層のｐＨが２であることを確認した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の（Ｚ）−２，４−ペンタジエナール（３）（３９．７ｇ，０．４８３ｍｏｌ）のトルエン溶液（６８１ｇ）を収率９７％で得た。
（Ｚ）−２，４−ペンタジエナール（３）の製造（１）
窒素雰囲気下、反応器に（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（７７．５ｇ，０．４９６ｍｏｌ）、トルエン（６３２ｇ）、水（２６１ｇ）を加えた後、０〜１０℃で撹拌し、２０％塩酸（１ｇ）を０〜１０℃で滴下し、０〜１０℃で３時間撹拌した。ｐＨ試験紙で水層のｐＨが２であることを確認した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の（Ｚ）−２，４−ペンタジエナール（３）（３９．７ｇ，０．４８３ｍｏｌ）のトルエン溶液（６８１ｇ）を収率９７％で得た。
（Ｚ）−２，４−ペンタジエナール（３）
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝５．６６−５．７３（２Ｈ，ｍ），５．９７−６．０１（１Ｈ，ｍ），６．９７−７．０９（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（１Ｈ，ｍ），１０．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）ｐｐｍ。
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝５．６６−５．７３（２Ｈ，ｍ），５．９７−６．０１（１Ｈ，ｍ），６．９７−７．０９（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（１Ｈ，ｍ），１０．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）ｐｐｍ。
実施例１５
（Ｚ）−２，４−ペンタジエナール（３）の製造（２）
窒素雰囲気下、反応器に（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（７７．５ｇ，０．４９６ｍｏｌ）、トルエン（６３２ｇ）、水（１５０ｇ）、酢酸（５ｇ）を加えた。ｐＨ試験紙で水層のｐＨが３であることを確認した。続いて、１５０ｍｍＨｇに減圧し、７５℃で撹拌し、エタノールを３時間留出した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の（Ｚ）−２，４−ペンタジエナール（３９．７ｇ，０．４８３ｍｏｌ）のトルエン溶液（６８１ｇ）を収率９７％で得た。
（Ｚ）−２，４−ペンタジエナール（３）の製造（２）
窒素雰囲気下、反応器に（Ｚ）−５，５−ジエトキシ−１，３−ペンタジエン（７７．５ｇ，０．４９６ｍｏｌ）、トルエン（６３２ｇ）、水（１５０ｇ）、酢酸（５ｇ）を加えた。ｐＨ試験紙で水層のｐＨが３であることを確認した。続いて、１５０ｍｍＨｇに減圧し、７５℃で撹拌し、エタノールを３時間留出した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の（Ｚ）−２，４−ペンタジエナール（３９．７ｇ，０．４８３ｍｏｌ）のトルエン溶液（６８１ｇ）を収率９７％で得た。
実施例１６
（２Ｅ，４Ｅ）−２，４−ヘキサジエナール（３）の製造
窒素雰囲気下、反応器に１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（８．４４ｇ，４９.６ｍｍｏｌ）の２Ｚ４Ｅ：２Ｚ４Ｚ＝７３：２７の幾何異性体混合物、トルエン（６３ｇ）、水（２ｇ）を加えた後、０〜１０℃で撹拌し、２０％塩酸（７ｇ）を０〜１０℃で滴下し、０〜１０℃で３時間撹拌した。ｐＨ試験紙で水層のｐＨが１未満であることを確認した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の（２Ｅ，４Ｅ）−２，４−ヘキサジエナール（３）（４．６４ｇ，４８．３ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（６８ｇ）を収率９７％で得た。
（２Ｅ，４Ｅ）−２，４−ヘキサジエナール（３）の製造
窒素雰囲気下、反応器に１，１−ジエトキシ−２，４−ヘキサジエン（８．４４ｇ，４９.６ｍｍｏｌ）の２Ｚ４Ｅ：２Ｚ４Ｚ＝７３：２７の幾何異性体混合物、トルエン（６３ｇ）、水（２ｇ）を加えた後、０〜１０℃で撹拌し、２０％塩酸（７ｇ）を０〜１０℃で滴下し、０〜１０℃で３時間撹拌した。ｐＨ試験紙で水層のｐＨが１未満であることを確認した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の（２Ｅ，４Ｅ）−２，４−ヘキサジエナール（３）（４．６４ｇ，４８．３ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（６８ｇ）を収率９７％で得た。
（２Ｅ，４Ｅ）−２，４−ヘキサジエナール（３）
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．９２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），６．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，１５．４Ｈｚ），６．１８−６．４４（２Ｈ，ｍ），７．００−７．１６（１Ｈ，ｍ），９．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）ｐｐｍ。
無色から淡黄色油状液体
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．９２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），６．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，１５．４Ｈｚ），６．１８−６．４４（２Ｈ，ｍ），７．００−７．１６（１Ｈ，ｍ），９．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）ｐｐｍ。
実施例１２〜１６において示すように、２，４−ジエナール＝アセタールを脱保護することにより、２，４−ジエナール化合物を効率よく製造することが出来る。また、加水分解反応による脱保護においては、反応系中の水溶液のｐＨを適宜選択することにより、２，４−ジエナール化合物における幾何異性体を作り分けることができる。
Claims (6)
- 下記一般式（１）
Ｒ１ＣＨＸ-ＣＨ２-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （１）
（式中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜１３の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の一価の炭化水素基を表し、又は結合してＲ２−Ｒ３として炭素数２〜１０の二価の炭化水素基を表し、Ｘは、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、炭素数１〜１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子である脱離基を表す。）
で表される５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、下記一般式（２）
Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （２）
で表される２，４−ジエナール＝アセタール化合物を得る工程
を少なくとも含む２，４−ジエナール＝アセタール化合物の製造方法。 - 前記塩基が、金属アルコキシド類、有機金属試薬類、金属アミド類、水素化金属類、及びアミン類からなる群から選ばれる請求項１に記載の２，４−ジエナール＝アセタール化合物の製造方法。
- 前記Ｒ１が、水素原子である請求項１又は請求項２に記載の２，４−ジエナール＝アセタール化合物の製造方法。
- 下記一般式（１）
Ｒ１ＣＨＸ-ＣＨ２-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （１）
（式中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜１３の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の一価の炭化水素基を表し、又は結合してＲ２−Ｒ３として炭素数２〜１０の二価の炭化水素基を表し、Ｘは、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、炭素数１〜１０のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数６〜２０のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子である脱離基を表す。）
で表される５位に脱離基Ｘを有する２−エナール＝アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、下記一般式（２）
Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ(ＯＲ２)(ＯＲ３) （２）
で表される２，４−ジエナール＝アセタール化合物を得る工程と、
前記２，４−ジエナール＝アセタールを脱保護することにより下記一般式（３）
Ｒ１ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨＯ （３）
で表される２，４−ジエナール化合物を得る工程と
を少なくとも含む２，４−ジエナール化合物の製造方法。 - 前記塩基が、金属アルコキシド類、有機金属試薬類、金属アミド類、水素化金属類、及びアミン類からなる群から選ばれる請求項４に記載の２，４−ジエナール化合物の製造方法。
- 前記Ｒ１が、水素原子である請求項４又は請求項５に記載の２，４−ジエナール化合物の製造方法。
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