JP2018177746A - 2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法 - Google Patents

2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2018177746A
JP2018177746A JP2017084474A JP2017084474A JP2018177746A JP 2018177746 A JP2018177746 A JP 2018177746A JP 2017084474 A JP2017084474 A JP 2017084474A JP 2017084474 A JP2017084474 A JP 2017084474A JP 2018177746 A JP2018177746 A JP 2018177746A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
dienal
carbon atoms
acetal
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017084474A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6695300B2 (ja
Inventor
尚樹 石橋
Naoki Ishibashi
尚樹 石橋
裕樹 三宅
Hiroki Miyake
裕樹 三宅
祐輔 長江
Yusuke Nagae
祐輔 長江
金生 剛
Takeshi Kanao
剛 金生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2017084474A priority Critical patent/JP6695300B2/ja
Priority to US15/951,607 priority patent/US10138179B2/en
Priority to ES18168309T priority patent/ES2788399T3/es
Priority to EP18168309.5A priority patent/EP3392230B1/en
Priority to CN201810362271.XA priority patent/CN108727165B/zh
Publication of JP2018177746A publication Critical patent/JP2018177746A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6695300B2 publication Critical patent/JP6695300B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C4/00Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a larger number of carbon atoms
    • C07C4/08Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a larger number of carbon atoms by splitting-off an aliphatic or cycloaliphatic part from the molecule
    • C07C4/10Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a larger number of carbon atoms by splitting-off an aliphatic or cycloaliphatic part from the molecule from acyclic hydrocarbons
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C41/00Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
    • C07C41/48Preparation of compounds having groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C11/00Aliphatic unsaturated hydrocarbons
    • C07C11/12Alkadienes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/004Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with organometalhalides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/51Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
    • C07C45/511Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of singly bound oxygen functional groups to >C = O groups
    • C07C45/515Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of singly bound oxygen functional groups to >C = O groups the singly bound functional group being an acetalised, ketalised hemi-acetalised, or hemi-ketalised hydroxyl group
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C47/00Compounds having —CHO groups
    • C07C47/02Saturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms or to hydrogen
    • C07C47/12Saturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms or to hydrogen containing more than one —CHO group
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D317/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D317/08Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
    • C07D317/10Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
    • C07D317/12Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

【課題】共役ジエン構造及び共役トリエン構造を有する性フェロモン化合物の合成中間体として有用な2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法を提供する。【解決手段】一般式(1)R1CHX-CH2-CH=CH-CH(OR2)(OR3)で表される5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、一般式(2)R1CH=CH-CH=CH-CH(OR2)(OR3)で表される2,4−ジエナール=アセタール化合物を得る工程を少なくとも含む2,4−ジエナール=アセタール化合物の製造方法、さらに、2,4−ジエナール=アセタールを脱保護することにより一般式(3)R1CH=CH-CH=CH-CHO(3)で表される2,4−ジエナール化合物を得る工程とを少なくとも含む2,4−ジエナール化合物の製造方法を提供する。【選択図】なし

Description

本発明は、昆虫の性フェロモンの合成中間体として有用な2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法に関する。
昆虫の性フェロモンは、通常、雌個体によって分泌され雄個体を誘引する機能をもつ生物活性物質であり、少量で高い誘引活性を示す。性フェロモンは、発生予察や地理的な拡散(特定地域への侵入)の確認の手段として、また、害虫防除の手段として広く利用されている。害虫防除の手段としては、大量誘殺法(Mass trapping)、誘引殺虫法(Lure & kill又はAttract & kill)、誘引感染法(Lure & infect又はAttract & infect)や交信撹乱法(Mating disruption)と呼ばれる防除法が広く実用に供されている。性フェロモンの利用にあたっては、必要量のフェロモン原体を経済的に製造することが、基礎研究のために、更には、応用のために必要とされる。
昆虫の性フェロモンの中には、共役ジエン、共役トリエン構造を有するものが少なくない。例えば、世界中に広く分布し、雑食性でナッツ類や果物等種々の作物に被害を与えるEctomyelois ceratoniae(一般名:Carob moth)の性フェロモンは、(Z,E)−9,11,13−テトラデカトリエナールであることが報告されている。また、リンゴやモモの重要害虫で世界中に広く分布するCydiapomonella(一般名:Codling moth)の性フェロモンは、(E,E)−8、10−ドデカジエノールであることが報告されている。
これらの共役ジエン、共役トリエン構造を有する性フェロモンを製造するための中間体として、2,4−ジエナールが挙げられる。2,4−ジエナールとリンイリドとのWittig反応により共役トリエン構造を構築することが可能であり、2,4−ジエナールから容易に誘導可能な2,4−ジエニルハライドをリンイリドに変換し、アルデヒドとWittig反応を行うことによっても共役トリエン構造を構築することが可能である。また、2,4−ジエニルハライドに対する求核置換反応によれば、共役ジエン構造を有する性フェロモンを製造することが可能である。
様々な前駆体から2,4−ジエナールを製造する方法が知られているが、そのような前駆体の中でも特に優れているものとして、2,4−ジエナール=アセタール化合物が挙げられる。2,4−ジエナール=アセタール化合物は、温和な脱保護条件で2,4−ジエナールを与える上、副生するアルコールは分液操作によって容易に除去できるため、煩雑な精製操作によって不安定な2,4−ジエナールの収率を損なうことなく、効率的に得ることができる。
不安定な2,4−ジエナールを経由しない2,4−ジエナール=アセタール化合物の製造方法として、様々なものが報告されている。Alexakisらは、プロピナール=ジエチル=アセタールへのアルケニルGilman試薬の付加により、2,4−ジエナール=ジエチル=アセタールを得ている(非特許文献1)。Greeらは、フランにメタノール中、臭素を付加させることにより得られるフマルアルデヒド=ビス(ジメチル=アセタール)の一方のアセタールを選択的に加水分解した後、Wittig反応により2,4−ジエナール=ジメチル=アセタールを得ている(非特許文献2)。Genetらは、ヨウ化ビニルとアルケニルホウ素化合物のSuzukiカップリングにより(非特許文献3)、Abarbriらは、ヨウ化ビニルとアルケニルスズのStillカップリングにより(非特許文献4)、Thiotらは、ヨウ化ビニルとプロピナール=ジエチル=アセタールをパラジウム触媒、ロジウム触媒、シランの存在下でカップリングさせることにより(非特許文献5)、2,4−ジエナール=アセタール化合物を得ている。
Tetrahedron,40(4),715(1984) TetrahedronLett.27,4983(1986) TetrahedronLett.36,1443(1995) TetrahedronLett.36,2469(1995) Chemistry−AEuropean Journal,13,8971(2007)
しかし、非特許文献1に記載された方法では、当量以上の銅塩、2当量以上のアルケニルリチウムが必要なため経済的ではない。また、非特許文献2に記載された方法では、フマルアルデヒド=ビス(ジメチル=アセタール)を調製する際の後処理で、大過剰の無機塩を少量ずつ添加して中和を行う必要がある上に、ろ過によって大量の塩を除く必要がある点や、Wittig反応で副生する大量のトリフェニルホスフィン=オキシドを除去する必要がある点から工業的には実施し難い。非特許文献3、4、5に記載された方法は、いずれもパラジウムやロジウム等の高価な金属触媒を必要とするため、経済的ではない。
そのため、共役ジエン構造及び共役トリエン構造を有する性フェロモン化合物の基礎的な生物学的研究や農学的研究のために、また、応用や実用に供する目的のために、十分量のフェロモン原体の供給が可能な効率的な2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法が強く望まれている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、共役ジエン構造及び共役トリエン構造を有する性フェロモン化合物の合成中間体として有用な2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法を提供する。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、5位に脱離基を有する2−エナール=アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、2,4−ジエナール=アセタール化合物が効率的に合成できることを見出し、本発明を完成させた。
本発明の一つの態様によれば、下記一般式(1)
CHX-CH-CH=CH-CH(OR)(OR) (1)
(式中、Rは、水素原子又は炭素数1〜13の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、R及びRは、それぞれ独立して炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表し、又は結合してR−Rとして炭素数2〜10の二価の炭化水素基を表し、Xは、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、炭素数3〜20のシリルオキシ基、炭素数1〜10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子である脱離基を表す。)
で表される5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、下記一般式(2)
CH=CH-CH=CH-CH(OR)(OR) (2)
で表される2,4−ジエナール=アセタール化合物を得る工程を少なくとも含む2,4−ジエナール=アセタール化合物の製造方法が提供される。
また、本発明の他の態様によれば、下記一般式(1)
CHX-CH-CH=CH-CH(OR)(OR) (1)
(式中、Rは、水素原子又は炭素数1〜13の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、R及びRは、それぞれ独立して炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表し、又は結合してR−Rとして炭素数2〜10の二価の炭化水素基を表し、Xは、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、炭素数3〜20のシリルオキシ基、炭素数1〜10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子である脱離基を表す。)
で表される5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、下記一般式(2)
CH=CH-CH=CH-CH(OR)(OR) (2)
で表される2,4−ジエナール=アセタール化合物を得る工程と、
前記2,4−ジエナール=アセタールを脱保護することにより下記一般式(3)
CH=CH-CH=CH-CHO (3)
で表される2,4−ジエナール化合物を得る工程とを少なくとも含む2,4−ジエナール化合物の製造方法が提供される。
本発明によれば、5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、2,4−ジエナール=アセタール化合物を効率的に製造することができる。
更に、得られた2,4−ジエナール=アセタール化合物を脱保護することにより、2,4−ジエナール化合物を効率的に製造することができる。
本明細書中の中間体、試薬や目的物の化学式において、構造上、置換位置の異なる異性体や、エナンチオ異性体あるいはジアステレオ異性体等の立体異性体が存在し得るものがあるが、特に記載がない限り、いずれの場合も各化学式はこれらの異性体のすべてを表すものとする。また、これらの異性体は、単独で用いてもよいし、混合物として用いてもよい。
まず、5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、2、4−ジエナール=アセタール化合物を製造する方法について述べる。
5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物は下記一般式(1)で表される。
CHX-CH-CH=CH-CH(OR)(OR) (1)
式中、R1は、水素原子又は炭素数1〜13の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、R及びRは、それぞれ独立して炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表し、又は結合してR−Rとして炭素数2〜10の二価の炭化水素基を表す。
に対応する置換又は非置換の一価の炭化水素基の炭素数は、好ましくは1〜13、より好ましくは1〜9である。
に対応する一価の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基等の直鎖状の飽和炭化水素基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基等の分岐状の飽和炭化水素基、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、イソプロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基、シクロプロピル基、2−メチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
及びRに対応する一価の炭化水素基の炭素数は、好ましくは1〜10、より好ましくは1〜5である。
及びRに対応する一価の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基等の直鎖状の飽和炭化水素基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基等の分岐状の飽和炭化水素基、2−プロペニル基、2−プロピニル基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、2−メチル−2−プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基、シクロプロピル基、2−メチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
及びRに対応する一価の炭化水素基は、脱保護における反応性や精製の容易さを考慮すると、反応性が高く、脱保護により生成する副生物が水洗や濃縮によって容易に除去可能な低級(好ましくは炭素数1〜4)炭化水素基や一級炭化水素基が好ましい。これらを考慮すると、R及びRに対応する一価の炭化水素基の特に好ましい例として、メチル基、エチル基、n−プロピル基等が挙げられる。
次に、R及びRが結合してR−Rとして、炭素数2〜10の二価の炭化水素基を表す場合について述べる。
−Rに対応する二価の炭化水素基の炭素数は、好ましくは2〜10、より好ましくは炭素数2〜6である。
−Rに対応する二価の炭化水素基としては、例えば、エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基等の直鎖状の飽和炭化水素基、1,2−プロピレン基、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン基、1,2−ブチレン基、1,3−ブチレン基、2,3−ブチレン基、2,3−ジメチル−2,3−ブチレン基等の分岐状の飽和炭化水素基、1−ビニルエチレン基、(Z)−2−ブテン−1,4−ジイル基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、2−メチレン−1,3−プロピレン基等の分岐状の不飽和炭化水素基、1,2−シクロプロピレン基、1,2−シクロブチレン基、1,2−シクロペンチレン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,2−フェニレン基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
−Rに対応する二価の炭化水素基は、脱保護における反応性や精製の容易さ、入手の容易さを考慮すると、反応性が高く、脱保護により生成する副生物が水洗や濃縮によって容易に除去可能な低級(好ましくは炭素数1〜4)炭化水素基が好ましい。これらを考慮すると、R−Rに対応する二価の炭化水素基の特に好ましい例として、エチレン基、1,2−プロピレン基、1,3−プロピレン基、1,2−ブチレン基、1,3−ブチレン基、2,3−ジメチル−2,3−ブチレン基等が挙げられる。
一般式(1)中、Xは、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、炭素数3〜20のシリルオキシ基、炭素数1〜10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のアレーンスルホニルオキシ基、ハロゲン原子のいずれかの脱離基を表す。
Xに対応するアルコキシ基の炭素数は、好ましくは1〜12、より好ましくは炭素数1〜9である。
Xに対応するアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基等の直鎖状の飽和アルコキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基等の分岐状の飽和アルコキシ基、2−プロペニルオキシ基、2−プロピニルオキシ基等の直鎖状の不飽和アルコキシ基、2−メチル−2−プロペニルオキシ基等の分岐状の不飽和アルコキシ基、シクロプロピルオキシ基、2−メチルシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基等の環状アルコキシ基、ベンジルオキシ基、パラメトキシベンジルオキシ基等の芳香環を含有するアルコキシ基、メトキシメトキシ基、2−メトキシエトキシメトキシ基、ベンジルオキシメトキシ基、パラメトキシベンジルオキシメトキシ基、1−エトキシエトキシ基、テトラヒドロピラン−2−イルオキシ基等のオキシアルコキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基等のハロゲン化アルコキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアルコキシ基でも良い。また、これらのアルコキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Xに対応するアルコキシ基としては、入手の容易さ、脱離により生成する副生物が水洗や濃縮によって容易に除去可能であること等の観点から特に好ましい例として、メトキシ基、エトキシ基、2−プロペニルオキシ基、メトキシメトキシ基、1−エトキシエトキシ基等が挙げられる。
Xに対応するアシルオキシ基の炭素数は、好ましくは1〜10、より好ましくは1〜7である。
Xに対応するアシルオキシ基としては、例えば、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、クロトニルオキシ基等の直鎖状の脂肪族アシルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基等の分岐状の脂肪族アシルオキシ基、トリクロロアセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基等のハロゲン化アシルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアシルオキシ基でも良い。また、これらのアシルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Xに対応するアシルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
Xに対応するシリルオキシ基の炭素数は、好ましくは3〜20、より好ましくは3〜16である。
Xに対応するシリルオキシ基としては、例えば、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、t−ブチルジメチルシリルオキシ基等のトリアルキルシリルオキシ基、t−ブチルジフェニルシリルオキシ基等のモノアルキルジアリールシリルオキシ基等が挙げられ、これらと異性体の関係にあるシリルオキシ基でも良い。また、これらのシリルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Xに対応するシリルオキシ基としては、入手の容易さ、脱離により生成する副生物が濃縮によって容易に除去可能であること等の観点から特に好ましい例として、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基等が挙げられる。
Xに対応するアルカンスルホニルオキシ基の炭素数は、好ましくは1〜10、より好ましくは1〜8である。
Xに対応するアルカンスルホニルオキシ基としては、例えばメタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、1−ブタンスルホニルオキシ基、1−オクタンスルホニルオキシ基、アリルスルホニルオキシ基、10−カンファ―スルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ベンジルスルホニルオキシ基が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアルカンスルホニルオキシ基でも良い。また、これらのアルカンスルホニルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Xに対応するアルカンスルホニルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
Xに対応するアレーンスルホニルオキシ基の炭素数は、好ましくは6〜20、より好ましくは6〜15である。
Xに対応するアレーンスルホニルオキシ基としては、例えば、ベンゼンスルホニルオキシ基、4−クロロベンゼンスルホニルオキシ基、4−メトキシベンゼンスルホニルオキシ基、2−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、1−ナフタレンスルホニルオキシ基、2−ナフタレンスルホニルオキシ基が挙げられ、これらと異性体の関係にあるアレーンスルホニルオキシ基でも良い。また、これらのアレーンスルホニルオキシ基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
Xに対応するアレーンスルホニルオキシ基としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、ベンゼンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
Xに対応するハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Xに対応するハロゲン原子としては、入手の容易さの観点から特に好ましい例として、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物においては、アセタール基の電子的影響で4位の酸性度が高まるため、脱離基Xが脱離能の高いアルカンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基、ハロゲン原子の場合のみならず、脱離能の低いアルコキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基等の場合であっても、高い脱離能を有する別の脱離基への変換を要せず、そのまま脱離反応を行うことができる。
脱離基Xが脱離能の低いアルコキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基である利点としては、アルカンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニルオキシ基、ハロゲン原子に比べ、5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物の熱安定性が高いため、工業的に有利な蒸留による精製が容易であること等が挙げられる。
一方、アセタール基の代わりに炭化水素基を有する基質では、4位の酸性度が高まらないため、脱離能の低いアルコキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基では特に脱離反応が効率的に進行しない。
5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物における幾何異性体としては、(E)−2−エナール=アセタール化合物と(Z)−2−エナール=アセタール化合物が挙げられる。
なお、Rが水素原子である場合においては、ペンテナール=アセタール化合物となる。
5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物(1)は、公知の方法を利用することにより製造することができる。例えば、下記一般式(4)で表される5位に脱離基Xを有する2−イナール=アセタール化合物の三重結合を水素添加することで5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物(1)のZ体を、ヒドロシリル化−脱シリル化によって二重結合に還元することにより、5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物(1)のE体をそれぞれ選択的に得ることができる。下式中、R1、R、Rは、上記と同様である。
Figure 2018177746
本発明の脱離反応は、下記一般式(1)で表される5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物の4位が、塩基存在下で脱プロトン化されることで進行する。そのため、2位の幾何は反応の前後で保持される。つまり、5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物のE体からは、(2E)−2,4−ジエナール=アセタール化合物が、Z体からは、(2Z)−2,4−ジエナール=アセタール化合物が得られる。下式中、R1、R、Rは、上記と同様である。
Figure 2018177746
脱離反応は、E2脱離機構で進行すると考えられる。E2脱離では、4位の水素と5位の脱離基X、4位のビニル基と5位のRが共にアンチペリプラナーの関係にある立体配座を経て反応が進行することが最も有利であるため、4位の幾何がEである幾何異性体を優先的に与える。一方、次に有利な4位の水素と5位の脱離基Xがアンチペリプラナーの関係にあり、4位のビニル基と5位のRがゴーシュの関係にある立体配座を経て反応が進行すると、4位の幾何がZである幾何異性体を与える。
脱離反応に用いる塩基としては、例えば、ナトリウム=メトキシド、ナトリウム=エトキシド、ナトリウム=t−ブトキシド、ナトリウム=t−アミロキシド、リチウム=メトキシド、リチウム=エトキシド、リチウム=t−ブトキシド、リチウム=t−アミロキシド、カリウム=メトキシド、カリウム=エトキシド、カリウム=t−ブトキシド、カリウム=t−アミロキシド等の金属アルコキシド類、メチルリチウム、エチルリチウム、n−ブチルリチウム、塩化メチルマグネシウム、ジムシルナトリウム等の有機金属試薬類、ナトリウム=アミド、リチウム=アミド、リチウム=ジイソプロピルアミド、リチウム=ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム=ヘキサメチルジシラジド、カリウム=ヘキサメチルジシラジド、リチウム=ジシクロヘキシルアミド等の金属アミド類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化金属類、トリエチルアミン、ピペリジン、ピロリジン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等のアミン類等を挙げることができる。これらの塩基は、基質の種類や反応性や選択性を考慮して選択できる。
脱離反応に用いる塩基の使用量は、収率及び経済性の観点から、5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物(1)1molに対して、好ましくは0.6〜3mol、より好ましくは0.7〜2mol、更に好ましくは0.8〜1.5molである。
脱離反応に用いる溶媒としては、例えば、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、t−ブチルアルコール等のアルコール類が挙げられ、これらを単独又は混合して用いることができる。
脱離反応に用いる溶媒の使用量は、5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物(1)1molに対し、好ましくは0〜10,000g、より好ましくは0〜5,000gである。
塩基として金属アルコキシド類、有機金属試薬類、金属アミド類、水素化金属類を用いる場合における脱離反応の反応温度は、収率の観点から、好ましくは−78〜50℃、より好ましくは−50〜40℃、更に好ましくは−30〜30℃である。
塩基としてアミン類を用いる場合における脱離反応の反応温度は、収率の観点から、好ましくは0〜180℃、より好ましくは10〜150℃、更に好ましくは20℃〜130℃である。
脱離反応の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)やシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5〜24時間程度である。
が水素原子である場合における2,4−ジエナール=アセタール化合物の幾何異性体としては、(2E)−2,4−ペンタジエナール=アセタール化合物、(2Z)−2,4−ペンタジエナール=アセタール化合物が挙げられる。
が炭素数1〜13の置換又は非置換の一価の炭化水素基である場合における2,4−ジエナール=アセタール化合物(2)の幾何異性体としては、(2E、4E)−2,4−ジエナール=アセタール化合物、(2E、4Z)−2,4−ジエナール=アセタール化合物、(2Z、4E)−2,4−ジエナール=アセタール化合物、(2Z、4Z)−2,4−ジエナール=アセタール化合物が挙げられる。
次に、2,4−ジエナール=アセタール化合物(2)を脱保護することにより、2,4−ジエナール化合物(3)を製造する方法について述べる。
脱保護としては、加水分解反応による脱保護、求核置換反応による脱保護等が挙げられる。
まず、加水分解反応による脱保護について述べる。
加水分解反応による脱保護に用いる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸類又はこれらの塩類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の有機酸類又はこれらの塩類、テトラフルオロホウ酸リチウム、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、四塩化錫、四臭化錫、二塩化錫、四塩化チタン、四臭化チタン、トリメチルヨードシラン等のルイス酸類、アルミナ、シリカゲル、チタニア等の酸化物、モンモリロナイト等の鉱物を挙げることができ、これらは単独又は混合して用いられる。
加水分解反応による脱保護に用いる酸の使用量は、経済性の点からは少量の酸が好ましく、実用上十分な反応速度が得られれば任意に設定できるが、基質の2,4−ジエナール=アセタール化合物1molに対して、好ましくは0.00001〜10,000mol、より好ましくは0.0001〜1,000mol、更に好ましくは0.001〜100molである。
加水分解反応による脱保護に用いる溶媒としては、例えば、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、t−ブチルアルコール等のアルコール類が挙げられ、これらを単独又は混合して用いることができる。
加水分解反応による脱保護に使用する溶媒の使用量は、2,4−ジエナール=アセタール化合物1molに対し、好ましくは0〜10,000gである。
加水分解反応による脱保護に用いる水の使用量は、加える水の量が多いほど平衡がアルデヒドの生成側に傾くため有利だが、経済性、作業性、収率等を考慮すると、2,4−ジエナール=アセタール化合物1molに対し、好ましくは1〜10,000mol、より好ましくは1〜1,000mol、更に好ましくは1〜500molである。
加水分解反応による脱保護において、反応系中の水溶液のpHを好ましくは1.0超過、より好ましくは1.0を超えて7.0未満、更に好ましくは2.0以上6.0以下とすることで原料の2,4−ジエナール=アセタール化合物の幾何構造を保持した2,4−ジエナール化合物を製造することができる。一方、反応系中の水溶液のpHを好ましくは1以下、より好ましくは−1.0以上1.0以下、更に好ましくは0以上1.0以下とすることで、異性化が進行して、原料の2,4−ジエナール=アセタール化合物の2位及び4位の幾何構造に関わらず、(2E,4E)−2,4−ジエナール化合物が選択的に得られる。
pH値は、例えばpH試験紙や測定対象の液温を25℃としてpHメータを用いて測定できる。
加水分解反応による脱保護の反応温度は、反応条件に拠るが−78〜160℃、好ましくは−50〜140℃、更に好ましくは−30〜120℃である。
加水分解反応による脱保護の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)やシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5〜24時間程度である。
また、アセタールの加水分解により生成するアルコールを留出や層分離等の方法で系外に除去しながら反応を行っても良い。
次に、求核置換反応による脱保護について説明する。
求核置換反応による脱保護に用いる求核試薬としては、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、四塩化チタン、塩化亜鉛等のハロゲン化金属塩、三臭化ホウ素、ブロモジメチルボラン等のハロゲン化ホウ素、ヨードトリメチルシラン、ブロモトリメチルシラン等のハロゲン化ケイ素を挙げることができ、これらは単独又は混合して用いられる。
求核置換反応による脱保護に用いる求核試薬の使用量としては、基質の2,4−ジエナール=アセタール化合物1molに対して、好ましくは0.6〜20mol、より好ましくは0.7〜10mol、更に好ましくは0.8〜5molである。
求核置換反応による脱保護に用いる溶媒としては、例えば、ジエチル=エーテル、ジブチル=エーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等の塩素系溶媒類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、N,N-ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチル=スルホキシド、ヘキサメチルホスホリック=トリアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、t−ブチルアルコール等のアルコール類が挙げられ、これらを単独又は混合して用いることができる。
求核置換反応による脱保護に用いる溶媒の使用量としては、2,4−ジエナール=アセタール化合物1molに対し、好ましくは0〜10,000gである。
求核置換反応による脱保護の反応温度は、反応条件に拠るが、好ましくは−78〜160℃、より好ましくは−50〜140℃、更に好ましくは−30〜120℃で行うのが良い。
求核置換反応による脱保護の反応時間は、任意に設定できるが、ガスクロマトグラフィー(GC)やシリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)で反応を追跡して反応を完結させることが収率の点で望ましく、通常0.5〜24時間程度である。
以上のようにして、中間体として有用な2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の簡便かつ効率的な製造方法が提供される。
以下、実施例を示して、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
化合物のスペクトル測定のサンプルは、必要に応じて粗生成物を精製した。また、粗収率とは、精製を行わずに算出した収率をいう。
実施例1
(Z)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(2)の製造(1)
窒素雰囲気下、反応器にカリウム=t−ブトキシド(169g,1.51mol)、DMF(467g)を加えた後、0〜5℃で撹拌し、(Z)−5,5−ジエトキシ−3−ペンテニル=メトキシメチル=エーテル(262g,1.20mol)を0〜10℃で滴下し、室温で20時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、ヘキサンで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行った後、減圧蒸留を行うことにより目的の(Z)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(2)(187g,1.07mol)を収率89%で得た。
(Z)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(2)
無色から淡黄色油状液体
IR(D−ATR):ν=3088,2976,2930,2880,1595,1482,1444,1373,1325,1291,1123,1055,1002,911,841,793,604,534cm-1
H−NMR(500MHz,CDCl):δ=1.17−1.22(6H,t,J=7.1Hz),3.46−3.54(2H,m),3.61−3.67(2H,m),5.20(1H,d,J=10.3Hz),5.25−5.28(1H,m),5.31(1H,dd,J=1.1,6.5Hz),5.47(1H,dd,J=6.3,11.3Hz),6.15(1H,t,J=11.3Hz),6.68−6.76(1H,m)ppm。
13C−NMR(125MHz,CDCl):δ=15.18,60.53,97.69,120.08,128.47,131.87,132.53ppm。
実施例2
(Z)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(2)の製造(2)
カリウム=t−ブトキシド(169g,1.51mol)の代わりに、ナトリウム=ヘキサメチルジシラジドのテトラヒドロフラン溶液(1.9mol/l,795ml,1.51mol)を用いた以外は、実施例1と同様の方法で行い、(Z)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(2)(143g,1.02mol)を収率85%で得た。
実施例3
(E)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(2)の製造
(Z)−5,5−ジエトキシ−3−ペンテニル=メトキシメチル=エーテル(262g,1.20mol)の代わりに、(E)−5,5−ジエトキシ−3−ペンテニル=メトキシメチル=エーテル(262g,1.20mol)を用いた以外は、実施例1と同様の方法で行い、(E)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(2)(161g,1.03mol)を収率86%で得た。
(E)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(2)
無色から淡黄色油状液体
H−NMR(500MHz,CDCl):δ=1.20(6H,t,J=7.1Hz),3.41−3.52(2H,m),3.60−3.66(2H,m),4.93(1H,d,J=4.6Hz),5.14(1H,dd,J=1.4,14.1Hz),5.24−5.27(1H,m),5.67(1H,dd,J=5.2,14.6Hz),6.29−6.37(2H,m)ppm。
13C−NMR(125MHz,CDCl):δ=15.17,60.92,100.93,118.76,130.51,133.53,135.90ppm。
実施例4
(E)−2−ブタ−1,3−ジエニル−4−メチル−1,3−ジオキソラン(2)の製造
(Z)−5,5−ジエトキシ−3−ペンテニル=メトキシメチル=エーテル(262g,1.20mol)の代わりに、(E)−2−(4−メトキシメトキシ−1−ブテニル)−4−メチル−1,3−ジオキソラン(243g,1.20mol)を用いた以外は、実施例1と同様の方法で行い、(E)−2−ブタ−1,3−ジエニル−4−メチル−1,3−ジオキソラン(2)(143g,1.02mol)を収率85%で得た。
(E)−2−ブタ−1,3−ジエニル−4−メチル−1,3−ジオキソラン(2)
無色から淡黄色油状液体
H−NMR(500MHz,CDCl):δ=1.27(1.5H,d,J=6.1Hz),1.31(1.5H,d,J=6.1Hz),3.41(0.5H,t,J=7.5Hz),3.46(0.5H,t,J=7.5Hz),3.99(0.5H,dd,J=6.3,7.6Hz),4.13(0.5H,dd,J=5.9,7.6Hz),4.15−4.29(1H,m),5.17−5.20(1H,m),5.27−5.34(1.5H,m),5.42(0.5H,d,J=6.1Hz),5.63−5.72(1H,m),6.30−6.42(2H,m)ppm。
実施例5
(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)の製造(1)
窒素雰囲気下、反応器に(Z)−5,5−ジメトキシ−3−ペンテニル=ベンゾエート(1.03g,4.12mmol)、THF(33g)を加えた後、0〜5℃で撹拌し、カリウム=ヘキサメチルジシラジドのトルエン溶液(0.5mol/l,12.4ml,6.18mmol)を0〜10℃で滴下し、0〜10℃で3時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、エーテルで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)(0.422g,3.30mmol)を粗収率80%で得た。
(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)
無色から淡黄色油状液体
H−NMR(500MHz,CDCl):δ=3.27(3H,s),5.14(1H,dd,J=1.6,6.2Hz),5.17−5.26(2H,m),5.37(1H,dd,J=6.1,11.1Hz),6.14(1H,dt,J=0.8,11.8Hz),6.61−6.69(1H,m)ppm。
実施例6
(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)の製造(2)
窒素雰囲気下、反応器にカリウム=t−ブトキシド(3.35g,29.9mmol)、DMF(20g)を加えた後、0〜5℃で撹拌し、(Z)−エチル=5,5−ジメトキシ−3−ペンテニル=エーテル(3.48g,20.0mmol)を0〜10℃で滴下し、室温で3時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、エーテルで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)(1.92g,15.0mmol)を粗収率75%で得た。
実施例7
(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)の製造(3)
(Z)−エチル=5,5−ジメトキシ−3−ペンテニル=エーテル(3.48g,20.0mmol)の代わりに、(Z)−5,5−ジメトキシ−3−ペンテニルオキシトリメチルシラン(4.37g,20.0mmol)を用いた以外は、実施例5と同様の方法で行い、(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)(2.08g,16.2mmol)を粗収率81%で得た。
実施例8
(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)の製造(4)
(Z)−エチル=5,5−ジメトキシ−3−ペンテニル=エーテル(3.48g,20.0mmol)の代わりに、(Z)−5,5−ジメトキシ−3−ペンテニル=メタンスルホナート(4.49g,20.0mmol)を用いた以外は、実施例5と同様の方法で行い、(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)(2.08g,16.2mmol)を粗収率81%で得た。
実施例9
(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)の製造(5)
(Z)−エチル=5,5−ジメトキシ−3−ペンテニル=エーテル(3.48g,20.0mmol)の代わりに、(Z)−5−クロロ−1,1−ジメトキシ−3−ペンテン(3.29g,20.0mmol)を用いた以外は、実施例5と同様の方法で行い、(Z)−5,5−ジメトキシ−1,3−ペンタジエン(2)(2.05g,16.0mmol)を粗収率80%で得た。
実施例10
1,1−ジエトキシ−2,4−ヘキサジエン(2)の製造(1)
窒素雰囲気下、反応器に(Z)−6,6−ジエトキシ−4−ヘキセン−2−イル=メタンスルホナート(260mg,0.976mmol)、DBU(220mg,1.45mmol)、トルエン(4g)を加えた後、加熱還流下、5時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の1,1−ジエトキシ−2,4−ヘキサジエン(2)(122mg,0.781mmol)を2Z4E:2Z4Z=73:27の幾何異性体混合物として粗収率80%で得た。
1,1−ジエトキシ−2,4−ヘキサジエン(2)
無色から淡黄色油状液体
H−NMR(500MHz,CDCl):δ=1.18−1.24(6H,m),1.78(3H,dd,J=1.5,6.9Hz),3.46−3.54(2H,m),3.61−3.68(2H,m),5.29−5.34(2H,m),5.77(1H,dd,J=7.0,14.9Hz),6.08−6.14(1H,m),6.33−6.50(1H,m)ppm(ZE体)。
実施例11
1,1−ジエトキシ−2,4−ヘキサジエン(2)の製造(2)
窒素雰囲気下、反応器にカリウム=t−ブトキシド(1.68g,15.0mmol)、DMF(50g)を加えた後、0〜5℃で撹拌し、(Z)−6,6−ジエトキシ−4−ヘキセン−2−イル=メトキシメチル=エーテル(2.58g,11.1mmol)を0〜10℃で滴下し、室温で20時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、エーテルで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより目的の1,1−ジエトキシ−2,4−ヘキサジエン(2)(1.23g,7.22mmol)を2Z4E:2Z4Z=73:27の幾何異性体混合物として粗収率65%で得た。
実施例1〜11において示すように、5位に脱離基を有する2−エナール=アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、2,4−ジエナール=アセタール化合物を効率的に製造できる。特にアルコキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基のような脱離能の低い脱離基であっても温和な条件下で脱離反応が進行させることができる。
比較例1
(E)−1,3−テトラデカジエンの製造
窒素雰囲気下、反応器にカリウム=t−ブトキシド(1.69g,15.1mmol)、DMF(4.7g)を加えた後、0〜5℃で撹拌し、(E)−3−テトラデカジエニル=メトキシメチル=エーテル(3.08g,12.0mmol)を0〜10℃で滴下し、室温で20時間撹拌した。反応混合物に水を加えた後、ヘキサンで抽出し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理を行うことにより、1,3−テトラデカジエンの幾何異性体及び二重結合に関する位置異性体の混合物(0.653g,3.36mmol)と原料の(E)−3−テトラデカジエニル=メトキシメチル=エーテル(0.584g,2.28mmol)を含む粗生成物を得た。テトラデカジエン異性体は少なくとも6種存在することがGC/MSにより確認された。二重結合の幾何及び位置は同定できておらず、(E)−1,3−テトラデカジエンの収率は算出できなかった。テトラデカジエン異性体混合物としての粗収率は28%であった。
このように、二重結合のα位のアセタール基の代わりに炭化水素基を持つ基質では、効率的に脱離が進行しなかった。
実施例12
(E)−2,4−ペンタジエナール(3)の製造(1)
窒素雰囲気下、反応器に(Z)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(77.5g,0.496mol)、トルエン(632g)、水(18g)を加えた後、0〜10℃で撹拌し、20%塩酸(71g)を0〜10℃で滴下し、0〜10℃で3時間撹拌した。pH試験紙で水層のpHが1未満であることを確認した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の(E)−2,4−ペンタジエナール(3)(39.7g,0.483mol)のトルエン溶液(681g)を収率97%で得た。
(E)−2,4−ペンタジエナール(3)
無色から淡黄色油状液体
IR(D−ATR):ν=2817,2726,1683,1635,1592,1421,1172,1108,1017,997,935,853,600cm-1
H−NMR(500MHz,CDCl):δ=5.60(1H,dd,J=0.8,19.9Hz),5.70−5.74(1H,m),6.12−6.16(1H,m),6.52−6.60(1H,m),7.05−7.10(1H,m),9.56(1H,d,J=7.7Hz)ppm。
13C−NMR(125MHz,CDCl):δ=127.45,132.26,134.73,151.85,193.65ppm。
実施例13
(E)−2,4−ペンタジエナール(3)の製造(2)
(Z)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(77.5g,0.496mol)の代わりに(E)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(77.5g,0.496mol)を用いた以外は、実施例12と同様の方法で行い、(E)−2,4−ペンタジエナール(3)(39.7g,0.483mol)のトルエン溶液(681g)を収率97%で得た。
実施例14
(Z)−2,4−ペンタジエナール(3)の製造(1)
窒素雰囲気下、反応器に(Z)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(77.5g,0.496mol)、トルエン(632g)、水(261g)を加えた後、0〜10℃で撹拌し、20%塩酸(1g)を0〜10℃で滴下し、0〜10℃で3時間撹拌した。pH試験紙で水層のpHが2であることを確認した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の(Z)−2,4−ペンタジエナール(3)(39.7g,0.483mol)のトルエン溶液(681g)を収率97%で得た。
(Z)−2,4−ペンタジエナール(3)
無色から淡黄色油状液体
H−NMR(500MHz,CDCl):δ=5.66−5.73(2H,m),5.97−6.01(1H,m),6.97−7.09(1H,m),7.25−7.40(1H,m),10.27(1H,d,J=8.0Hz)ppm。
実施例15
(Z)−2,4−ペンタジエナール(3)の製造(2)
窒素雰囲気下、反応器に(Z)−5,5−ジエトキシ−1,3−ペンタジエン(77.5g,0.496mol)、トルエン(632g)、水(150g)、酢酸(5g)を加えた。pH試験紙で水層のpHが3であることを確認した。続いて、150mmHgに減圧し、75℃で撹拌し、エタノールを3時間留出した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の(Z)−2,4−ペンタジエナール(39.7g,0.483mol)のトルエン溶液(681g)を収率97%で得た。
実施例16
(2E,4E)−2,4−ヘキサジエナール(3)の製造
窒素雰囲気下、反応器に1,1−ジエトキシ−2,4−ヘキサジエン(8.44g,49.6mmol)の2Z4E:2Z4Z=73:27の幾何異性体混合物、トルエン(63g)、水(2g)を加えた後、0〜10℃で撹拌し、20%塩酸(7g)を0〜10℃で滴下し、0〜10℃で3時間撹拌した。pH試験紙で水層のpHが1未満であることを確認した。反応混合物に水を加えた後、苛性ソーダ水溶液で中和し、分離した有機層に対し通常の洗浄、乾燥による後処理を行うことにより目的の(2E,4E)−2,4−ヘキサジエナール(3)(4.64g,48.3mmol)のトルエン溶液(68g)を収率97%で得た。
(2E,4E)−2,4−ヘキサジエナール(3)
無色から淡黄色油状液体
H−NMR(500MHz,CDCl):δ=1.92(3H,d,J=5.2Hz),6.06(1H,dd,J=7.9,15.4Hz),6.18−6.44(2H,m),7.00−7.16(1H,m),9.54(1H,d,J=7.9Hz)ppm。
実施例12〜16において示すように、2,4−ジエナール=アセタールを脱保護することにより、2,4−ジエナール化合物を効率よく製造することが出来る。また、加水分解反応による脱保護においては、反応系中の水溶液のpHを適宜選択することにより、2,4−ジエナール化合物における幾何異性体を作り分けることができる。

Claims (6)

  1. 下記一般式(1)
    CHX-CH-CH=CH-CH(OR)(OR) (1)
    (式中、Rは、水素原子又は炭素数1〜13の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、R及びRは、それぞれ独立して炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表し、又は結合してR−Rとして炭素数2〜10の二価の炭化水素基を表し、Xは、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、炭素数3〜20のシリルオキシ基、炭素数1〜10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子である脱離基を表す。)
    で表される5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、下記一般式(2)
    CH=CH-CH=CH-CH(OR)(OR) (2)
    で表される2,4−ジエナール=アセタール化合物を得る工程
    を少なくとも含む2,4−ジエナール=アセタール化合物の製造方法。
  2. 前記塩基が、金属アルコキシド類、有機金属試薬類、金属アミド類、水素化金属類、及びアミン類からなる群から選ばれる請求項1に記載の2,4−ジエナール=アセタール化合物の製造方法。
  3. 前記Rが、水素原子である請求項1又は請求項2に記載の2,4−ジエナール=アセタール化合物の製造方法。
  4. 下記一般式(1)
    CHX-CH-CH=CH-CH(OR)(OR) (1)
    (式中、Rは、水素原子又は炭素数1〜13の置換又は非置換の一価の炭化水素基を表し、R及びRは、それぞれ独立して炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表し、又は結合してR−Rとして炭素数2〜10の二価の炭化水素基を表し、Xは、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、炭素数3〜20のシリルオキシ基、炭素数1〜10のアルカンスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のアレーンスルホニルオキシ基、又はハロゲン原子である脱離基を表す。)
    で表される5位に脱離基Xを有する2−エナール=アセタール化合物に対し、塩基存在下で脱離反応を行うことにより、下記一般式(2)
    CH=CH-CH=CH-CH(OR)(OR) (2)
    で表される2,4−ジエナール=アセタール化合物を得る工程と、
    前記2,4−ジエナール=アセタールを脱保護することにより下記一般式(3)
    CH=CH-CH=CH-CHO (3)
    で表される2,4−ジエナール化合物を得る工程と
    を少なくとも含む2,4−ジエナール化合物の製造方法。
  5. 前記塩基が、金属アルコキシド類、有機金属試薬類、金属アミド類、水素化金属類、及びアミン類からなる群から選ばれる請求項4に記載の2,4−ジエナール化合物の製造方法。
  6. 前記Rが、水素原子である請求項4又は請求項5に記載の2,4−ジエナール化合物の製造方法。
JP2017084474A 2017-04-21 2017-04-21 2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法 Active JP6695300B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017084474A JP6695300B2 (ja) 2017-04-21 2017-04-21 2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法
US15/951,607 US10138179B2 (en) 2017-04-21 2018-04-12 Method for producing 2,4-dienal acetal compound and 2,4-dienal compound
ES18168309T ES2788399T3 (es) 2017-04-21 2018-04-19 Procedimiento de producción de compuesto 2,4-dienal acetal y compuesto 2,4-dienal
EP18168309.5A EP3392230B1 (en) 2017-04-21 2018-04-19 Method for producing 2,4-dienal acetal compound and 2,4-dienal compound
CN201810362271.XA CN108727165B (zh) 2017-04-21 2018-04-20 制备2,4-二烯醛缩醛化合物和2,4-二烯醛化合物的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017084474A JP6695300B2 (ja) 2017-04-21 2017-04-21 2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018177746A true JP2018177746A (ja) 2018-11-15
JP6695300B2 JP6695300B2 (ja) 2020-05-20

Family

ID=62116671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017084474A Active JP6695300B2 (ja) 2017-04-21 2017-04-21 2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10138179B2 (ja)
EP (1) EP3392230B1 (ja)
JP (1) JP6695300B2 (ja)
CN (1) CN108727165B (ja)
ES (1) ES2788399T3 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021038172A (ja) * 2019-09-04 2021-03-11 信越化学工業株式会社 4−ペンテン−2−イナールの製造方法
CN113443971A (zh) * 2020-03-27 2021-09-28 信越化学工业株式会社 制备甲炔基烷氧甲基醚化合物的方法和由其制备共轭二烯化合物的方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114904575A (zh) * 2022-06-28 2022-08-16 万华化学集团股份有限公司 一种催化剂和制备方法及3,6-二烷氧基-2,7-二甲基-4-辛烯二醛的制备方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3520839A (en) * 1969-04-01 1970-07-21 Union Carbide Corp Hexadienol and hexadienal derivatives
CN102391083B (zh) * 2011-10-11 2014-01-29 安徽智新生化有限公司 一种十碳缩醛醛的合成方法
PL420038A1 (pl) * 2014-03-28 2017-07-31 Godavari Biorefineries Ltd. Sposób wytwarzania środka pianotwórczego o wysokiej temperaturze zapłonu

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021038172A (ja) * 2019-09-04 2021-03-11 信越化学工業株式会社 4−ペンテン−2−イナールの製造方法
JP7254665B2 (ja) 2019-09-04 2023-04-10 信越化学工業株式会社 4-ペンテン-2-イナールの製造方法
CN113443971A (zh) * 2020-03-27 2021-09-28 信越化学工业株式会社 制备甲炔基烷氧甲基醚化合物的方法和由其制备共轭二烯化合物的方法
JP2021155373A (ja) * 2020-03-27 2021-10-07 信越化学工業株式会社 ホルミルアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物の製造方法及びこれを用いた共役ジエン化合物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP3392230B1 (en) 2020-03-04
JP6695300B2 (ja) 2020-05-20
EP3392230A1 (en) 2018-10-24
ES2788399T3 (es) 2020-10-21
CN108727165B (zh) 2021-11-12
US10138179B2 (en) 2018-11-27
US20180305276A1 (en) 2018-10-25
CN108727165A (zh) 2018-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6698049B2 (ja) α−ハロテトラメチルシクロヘキサノン及びその製造方法並びに(2,3,4,4−テトラメチルシクロペンチル)メチル=カルボキシレート化合物の製造方法
JP6695300B2 (ja) 2,4−ジエナール=アセタール化合物及び2,4−ジエナール化合物の製造方法
KR101753937B1 (ko) 5-아세톡시-(e3)-3-펜테닐-메톡시메틸에테르의 제조 방법 및 5-아세톡시-(e3)-3-펜테닐-메톡시메틸에테르를 이용한 (e3)-3-알케닐아세테이트의 제조 방법
EP3214063B1 (en) Terminal conjugated trienal acetal compound and method for producing terminal conjugated trienal compound using the same
JP6947690B2 (ja) (2E,6Z)−2,6−ノナジエナールの製造方法及び(2E)−cis−6,7−エポキシ−2−ノネナールの製造方法
US10494322B2 (en) Method for producing 3,7-dimethyl-7-octenol and method for producing 3,7-dimethyl-7-octenyl carboxylate compound
JP6249938B2 (ja) 4−アルキル−3−メチレンブチル=カルボキシレートの製造方法
JP6510457B2 (ja) 末端共役ジエン構造を有する脂肪族アルデヒド化合物の製造方法及びその中間体
JP6162645B2 (ja) 3,5−ジメチルドデカン酸の製造方法及び4−カルボキシ−3,5−ジメチル−3,5−ドデカジエン酸
JP6742230B2 (ja) 7−メチル−3−メチレン−7−オクテナール=アセタール化合物並びにこれを用いたアルデヒド化合物及びエステル化合物の製造方法
CN112441895B (zh) 二烷氧基链二烯炔化合物及其制备方法和二烯炔醛化合物的制备方法
US11661390B2 (en) Acetal compounds and processes for preparing thereof, and processes for preparing aldehyde compounds from the acetal compounds
CN109195942B (zh) 制备聚檀香醇类化合物的方法
JP2023012305A (ja) ビニルエーテル化合物、並びにそれからのアルデヒド化合物及びカルボキシレート化合物の製造方法
JP2021038172A (ja) 4−ペンテン−2−イナールの製造方法
JP2009137991A (ja) 1−アルキルカルボニルオキシ−3−置換フェニル−プロペン化合物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190523

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200220

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200324

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200421

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6695300

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150