JP2009114013A - 酸化インジウムを主成分とする粉末およびその製造方法 - Google Patents

酸化インジウムを主成分とする粉末およびその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】塩化インジウム、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩を出発原料として用いた場合であっても、塩素品位が低い酸化インジウムを主成分とする粉末を、効率よく、かつ、低コストで得られる製造方法を提供する。
【解決手段】混合時の液温が50℃未満、pHが8以上に保持されるように、かつ、混合終了時のpHが11〜14となるように、塩基性水溶液に塩化インジウムを添加し、水酸化インジウムを晶析させ、得られた水酸化インジウムを、0.08mol/L以上のアンモニア水溶液に分散させることによりサスペンションとし、該サスペンションを60〜100℃の液温に保持した後、濾過することにより粉末を得て、その後、水洗および仮焼の処理を行う。
【選択図】なし

Description

本発明は、酸化インジウムを主成分とする粉末およびその製造方法に関し、特に、出発原料として、塩化インジウム、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩を用いた粉末およびその製造方法に関する。
酸化インジウムを主成分とする粉末(酸化インジウム粉末、または、酸化インジウムを主成分とし、他の金属または金属酸化物を含有する粉末)は、その導電性を利用して、樹脂混練用導電性フィラーのほか、透明導電膜塗料や、透明導電性薄膜作製用のターゲット材などの原料として、電子材料用に広く使われている。
酸化インジウムの粉末は、例えば、インジウム塩水溶液にアンモニア水溶液や水酸化ナトリウム等の塩基を添加することにより中和し、水酸化インジウムを晶析させ、得られた水酸化インジウムを、水洗し、乾燥し、仮焼することにより得ることができる。
導電性フィラーあるいは透明導電膜塗料は、その用途が電子材料用であることから、不純物、特にハロゲン元素が含まれることが問題となる。ハロゲン元素が存在すると、電子機器内に用いられている金属の腐食または溶出が発生しやすくなるとともに、酸化インジウム粉末が混合された樹脂においても、経時劣化が起きやすくなるという問題がある。
このような問題に対して、例えば、特許文献1(特開平5−201731号公報)には、酸化インジウムにスズをドープした酸化インジウムスズ(Indium tin oixde、以下「ITO」という)粉末における、ハロゲン元素である塩素の除去について記載されている。これによれば、塩化インジウムおよび塩化スズの混合水溶液をアルカリ水溶液で中和して得た共沈沈殿物を、デカンテーションまたは遠心分離法によって水洗し、加熱分解することによりITO粉末を得ることが提案されている。
しかし、ITO粉末の塩素品位を100質量ppm未満にするためには、デカンテーションまたは遠心分離法等による水洗を、電気抵抗率が2000Ω・cm以上、好ましくは5000Ω・cm以上になるまで、行う必要があり、このような水洗により工程の高コスト化が予想される。また、特許文献1には、ITO粉末の塩素品位を、蒸留水への溶出塩素に基づいて決定しており、得られたITO粉末の塩素品位が6〜390質量ppmであることが記載されているが、通常は、溶出分より多くの塩素が粉末内部に残留しているものであり、粉末内部の塩素まで十分に除去されているとは言い難い。
一方、ITO粉末に代表される透明導電性薄膜作製用のターゲット材では、ハロゲン元素が存在すると、その焼結性が阻害されるとされている。例えば、特許文献2(特開平10−182150号公報)には、焼結を阻害する塩素や硫黄を含まない硝酸インジウムを用いた酸化スズ含有酸化インジウム粉末の製造方法が記載されている。特許文献2には、焼結温度域、特に800℃を超える温度では、揮発する成分が残存することにより、焼結が阻害され、特に、ハロゲン元素の存在は好ましくないとされており、かかる方法では、出発原料のインジウム塩として、塩化インジウムではなく、硝酸インジウムを使用することが提案されている。
しかし、塩化インジウムを出発原料として酸化インジウムを合成する場合と比較すると、硝酸インジウムを出発原料として酸化インジウムを合成する場合には、硝酸が塩酸よりも高価であり、かつ、硝酸性窒素の廃液処理コストが高いことから、製造コストが高くなってしまう。
以上のように、硝酸性窒素の廃液処理コストが高いため、排水処理を含む生産コストの観点からは、硝酸性窒素が副生する硝酸インジウムを出発原料とする製造プロセスではなく、塩化インジウムを出発原料とする製造プロセスの方が望ましいといえる。
しかしながら、生産コストが安価となるように、塩化インジウムを出発原料として酸化インジウムを合成すると、塩素が残留するため、前述のように電子材料用としての使用は困難になる。さらに、残留塩素を除去する場合には、塩素除去の困難さから、製造コストが高くなるという問題がある。
特開平5−201731号公報 特開平10−182150号公報
本発明の目的は、かかる問題点に鑑みてなされたものであって、塩化インジウム、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩を出発原料として用いた場合であっても、塩素品位が低い酸化インジウムを主成分とする粉末を、効率よく、かつ、低コストで得られる製造方法を提供することにある。
本発明者は、塩化インジウム、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩を出発原料として用いて、塩素品位が低い酸化インジウムを主成分とする粉末を製造する方法を確立すべく、鋭意、研究開発を行った。
その結果、塩化インジウムの水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、塩基とを、特定の温度とpHに制御して、水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物を晶析させ、得られた水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物を、特定の塩基性水溶液で洗浄することで、塩素品位が低い酸化インジウムを主成分とする粉末が得られるとの知見を得て、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明に係る酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法では、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、塩基性水溶液とを、液温50℃未満、pH8以上に保持し、かつ、混合終了時のpHが11〜14となるように、混合することを特徴とする。
そして、晶析した水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物を0.08mol/L以上のアンモニア水溶液に分散させることによりサスペンションとし、該サスペンションを60℃〜100℃の液温に保持した後、濾過することにより粉末を得て、その後、該粉末に水洗および仮焼の処理を施すことにより、塩素品位が低い酸化インジウムを主成分とする粉末を得る。
本発明では、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、塩基性水溶液との混合溶液において、混合の開始から混合の終了までの間において、液温50℃未満、pH8以上に保持する。
pH8以上に保持するためには、前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、前記塩基性水溶液とを混合するに際して、該塩基性水溶液に対して、前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液を添加することが好ましい。
確実にpH8以上に保持するためには、前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液を、当量以上の前記塩基性水溶液に添加することが好ましい。
また、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、塩基性水溶液との混合は、前記塩基性水溶液に対して、前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液を添加することにより行ってもよく、または、前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液を、前記塩基性水溶液に添加するに際して、該塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液の添加と同時に、塩基を添加することにより行ってもよい。
本発明では、混合時にpHを8以上に保持しつつ、かつ、混合終了時のpHが11〜14となるように混合を調整する必要があるが、これは、前記塩基性水溶液としpHの高い溶液を使用し、前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液の添加により、pHを上記範囲に調整してもよく、また、前記塩基性水溶液に、前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液の添加と同時に、前記塩基を添加することにより、混合溶液のpHを8以上に保持し、かつ、混合終了時のpHが11〜14の範囲内となるように調整してもよい。
さらには、前記水酸化インジウムまたはインジウム複合酸化物の晶析後に、前記塩基をさらに添加することにより、混合終了時のpHを11〜14の範囲内となるように調整してもよい。
前記塩基性水溶液として、アンモニア水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、および水酸化カリウム水溶液のうちの少なくとも1種類を用いることができる。
また、前記塩基としては、アンモニア水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム、および水酸化カリウムのうちの少なくとも1種類を用いることができる。
得られた水酸化インジウムの粉末に水洗および仮焼の処理を施すことのみにより、酸化インジウムを主成分とする粉末が得られるが、本発明では、得られた水酸化インジウムの粉末における塩素品位が8質量ppm以下であり、よって、水酸化インジウムの粉末における塩素品位をさらに低下させるための処理を施すことなく、塩素品位が10質量ppm以下である酸化インジウムを主成分とする粉末を得ることが可能となる。
本発明により、塩化インジウム、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩を出発原料として用いた場合であっても、塩素品位が低い酸化インジウムを主成分とする粉末を、効率よく、かつ、低コストで得ることができる。
以下、本発明に係る酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法を、詳細に説明する。
本発明の酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法は、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、塩基性水溶液とを、液温50℃未満、pH8以上に保持しながら、混合終了時のpHが11〜14となるように、混合する。
塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、塩基性水溶液とを混合する際の液温、すなわち、混合の開始から混合の終了までの液温を50℃未満の温度に保持する必要がある。
液温が50℃以上になると、晶析した水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物からなる粒子が凝集してしまう。この場合、凝集した水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物からなる粒子の内部に、塩素が存在することとなる。よって、後工程の水洗によっても、このように内部に存在する塩素の除去が困難となり、水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物の粉末に残留する塩素が多くなってしまう。なお、塩素の残留量を5ppm以下とするためには、かかる混合時の液温を40℃以下に保持する。一方、混合時の液温は、凝固点以上であれば問題ないが、液温が低すぎると、濾過性が悪化するため、30℃以上とすることが好ましい。
また、かかる混合溶液における混合開始から混合終了までのpHを8以上に保持する必要がある。pHが8未満になると、水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物からなる粒子の内部に塩素が残留しやすくなる。よって、その後の洗浄による塩素の除去が困難となるため、水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物の粉末に残留する塩素が多くなってしまう。
以上のように、水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物を晶析させる工程においては、混合開始から混合終了までにおいて、混合溶液の液温を50℃未満、pHを8以上に制御する必要がある。
かかる混合の開始から終了まで、混合溶液のpHを8以上に保持する方法としては、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、塩基性水溶液とを混合する際に、塩基性水溶液に対して、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液を添加することが好ましい。塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、塩基性水溶液とを、反応槽等に同時に直接入れて混合した場合には、混合が不均一となり、部分的にpHが8未満になる領域が生じるおそれがあり、このように部分的にでもpHが8未満となると、当該領域において粒子の内部に塩素が残留し、最終的な塩素の残留量を10ppm以下とできない場合が生ずる。
また、pHを8以上に保持するために、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液の添加の際に、同時に、塩基を添加させてもよい。同時に塩基を添加することにより、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液の添加によるpHの低下を抑制し、pHを8以上に保持することを確実にできる。
また、塩基性水溶液は、当量以上に添加することが好ましい。当量以上の塩基性水溶液に対して、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液を添加することで、混合が生ずる領域においてpHを8以上に保持することを確実にできる。
また、本発明では、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と塩基性水溶液の混合は、混合終了時のpHが11〜14の範囲内となるように行なうことが必要である。
混合終了時のpHが11未満では、塩素の除去効果が少なく、得られた水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物中に残留する塩素が多くなり、洗浄によっても、十分に低減することができない。一方、pHが14を超えても、塩素の除去効果は大きくならず、水酸化インジウムの再溶解により、インジウムの収率が悪化するばかりか、必要な塩基性水溶液あるいは塩基の量が、さらに増加するため、コスト的にも不利となる。
なお、混合終了時のpHが11〜14の範囲内となればよく、晶析の過程にわたってpHがこの範囲に存する必要はない。例えば、pHがこの範囲より高い(すなわち、pHが8以上の)塩基性水溶液に、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液を添加して、pHを下げて、混合終了時に上記範囲内となるように調整してもよい。また、混合開始時にpHが8以上に保持されていれば、晶析の過程においてpHが11未満であってもよく、晶析の過程では、塩基の同時添加によりpHが8以上に保持されていればよく、混合が終了する時点で、pHが上記範囲内となるように調整すればよい。よって、晶析の終了後に、さらに塩基を添加して、混合の終了時点のpHを上記範囲内に調整してもよい。
このように、本発明では、混合の開始から混合の終了までにおいて、混合溶液のpHを8以上に保持し、かつ、混合終了時の混合溶液のpHを11〜14の範囲内とすることが重要である。
pH調整の容易さを考慮すると、塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、塩基性水溶液とを混合して、水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物を晶析させた後、さらに塩基を混合することにより、混合終了時におけるpHを11〜14の範囲内に調整することが好ましい。
塩基性水溶液としては、水酸化インジウムないしはインジウム複合水酸化物を晶析できるものであれば、特に限定されないが、アンモニア水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、および水酸化カリウム水溶液の内の少なくとも1種類を用いること好ましい。また、同様に塩基としては、前述の塩基性水溶液、または塩基性固体のいずれか、あるいはその両方を用いることができ、塩基性固体としては、水酸化ナトリウム、または水酸化カリウムか、あるいは両方を用いることが好ましい。
特に、コスト面から、塩基性水溶液としては、アンモニア水溶液、または水酸化ナトリウム水溶液か、あるいは両方を用いることが好ましく、塩基性固体としては、水酸化ナトリウムを用いることが好ましい。
なお、pHを8以上に保持しながら混合する際の塩基と、晶析後にpHを11〜14に上昇させる際の塩基は、同一の塩基を用いてもよく、異なる塩基を組み合わせてもよい。
次に、得られた水酸化インジウムまたはインジウム複合酸化物の粉末を分散させてサスペンションとするためのアンモニア水溶液の濃度は、0.08mol/L以上とすることが必要である。0.08mol/L未満では、水酸化インジウム粉末中に残留する塩素を減らすことが十分にできない。アンモニア水溶液の濃度は、1.0mol/L以下であることが好ましく、1.0mol/Lを超えても、塩素除去の効果は大きくならず、コストが増加するのみである。水洗あるいはサスペンションに用いる液量は、塩素を十分に吸収でき、かつ、十分に撹拌できる液量とすればよい。水洗には、純水を用いることが好ましく、塩基の種類、処理する塩化インジウムないしは塩化インジウムを主成分とする金属塩の量に応じて、適切に決定される。
また、水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物の粉末をアンモニア水溶液に分散させて得たサスペンションは、60〜100℃の液温に保持することが必要である。液温が60℃未満の場合、水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物の粉末中に残留する塩素を減らすことが、十分にはできない。一方、液温が100℃を超えると、アンモニアの蒸発が激しくなり、アンモニア濃度が減少してしまうため、塩素の量を減らすことが十分にはできないことがある。より好ましくは、塩素を安定して低減するため、サスペンションを70〜80℃の液温に保持している状態で撹拌する。サスペンションの保持時間は、15分以上とする。保持時間が15分未満の場合は、塩素を減らすことが十分にはできないことがある。より好ましくは、塩素を安定して低減するため、1時間以上保持する。
一方、仮焼温度は、通常行なわれる温度で問題なく、700〜1200℃とすることが好ましい。700℃未満では、水酸化物から酸化物への転換が十分でないことがあり、1200℃を超えると、酸化インジウムが焼結することがある。
仮焼時の雰囲気は、特に限定されないが、酸化性雰囲気とすることが好ましく、コスト面から大気雰囲気とすることがより好ましい。
以上のようにして得た酸化インジウムを主成分とする粉末においては、残留塩素が少なく、10質量ppm以下となり、電子材料用としては好適なものとなる。特に、本発明では、水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物の粉末に対する後処理を施すことなく、得られる酸化インジウムまたはインジウム複合酸化物の粉末において、10質量ppm以下の塩素品位、さらには、電子材料用として好適な5質量ppm以下の塩素品位とすることができる。よって、濾過と水洗を繰り返したり、その間に乾燥工程を加えたり、また、水洗前に硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸ナトリウム、硫酸ナトリウムなどの無機塩の水溶液を用いてサスペンションとして保持する工程などは不要であり、低コスト化に著しく寄与する。ただし、本発明により得られた水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物に対して、これらの後処理をさらに施すことにより、最終的な酸化インジウムまたはインジウム複合酸化物の粉末における塩素品位を5質量ppm以下となるようにしてもよい。
なお、残留塩素は、水酸化インジウムまたはインジウム複合酸化物の粉末を乾燥させ、その後、硝酸で溶解し、硝酸銀を加えて、塩化銀を沈殿させ、沈殿物中の塩素を、蛍光X線定量分析装置にて検量線により測定することで求める。これにより、表面に存在する塩素だけでなく、粉末の内部に存在する塩素を含めた形で、塩素品位を測定することができる。
[実施例1、比較例1]
実施例1および比較例1により、塩化インジウム水溶液と塩基性水溶液を混合する際、塩基性水溶液に塩化インジウム水溶液と塩基を同時に添加する方法を用いた場合に関して、晶析時の制御pHが、水酸化インジウム中に残留する塩素の量へ及ぼす影響を検討した。
(実施例1)
25%アンモニア(NH4OH)水溶液(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)を少量添加し、pHを8以上に調整した純水44.7ml中に、インジウムメタルを濃塩酸に溶解して調製した0.88mol/Lの塩化インジウム水溶液100mlと、25%アンモニア(NH4OH)水溶液(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)44.7mlを、液温35℃、pH8に制御しながら添加した。添加の終了により、水酸化インジウムの晶析も終了した。その後、水酸化ナトリウムペレット(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)を溶解して調製した25%水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液43.0mlを添加し、pHを12.9とした。
得られた溶液を濾過することにより得られた水酸化インジウムの粉末を水洗した後、0.2mol/LのNH4OH水溶液に分散させることによりサスペンションとした。その後、得られたサスペンションを、90℃で2時間、保持した後、濾過し、水洗を行い、乾燥させて、水酸化インジウム粉末を得た。
得られた水酸化インジウム粉末を、硝酸で溶解し、硝酸銀を加えて、塩化銀を沈殿させ、沈殿物中の塩素を、蛍光X線定量分析装置(PANalytical製、Magix)にて検量線により測定し、水酸化インジウム粉末中に残留する塩素による塩素品位を求めた。
その結果、最終的に得られた水酸化インジウム粉末中に残留する塩素による塩素品位は、3質量ppm(酸化インジウム換算で4質量ppm)であった。
(比較例1)
塩化インジウム水溶液と、25%アンモニア水溶液を添加する際のpHを7に制御とした以外は、実施例1と同様に、水酸化インジウム粉末を得た。
得られた水酸化インジウム粉末中に残留する塩素による塩素品位を、実施例1と同様に求めた。塩素品位は、21質量ppm(酸化インジウム換算で25質量ppm)であった。
[実施例2、3、および比較例2]
実施例2、3、および比較例2により、混合中のpHの影響を検討した。
(実施例2)
25%アンモニア(NH4OH)水溶液(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)24.4mlと、水酸化ナトリウムペレット(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)を溶解して調製した25%水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液43.0mlを混合した水溶液(pH13)を用意した。当該水溶液に、インジウムメタルを濃塩酸に溶解して調整した0.88mol/Lの塩化インジウム水溶液100mlを、液温35℃に保持しながら添加した。塩化インジウム水溶液の添加によりpHは低下し、添加後のpHは12.3となった。
得られた溶液を濾過することにより得られた水酸化インジウムの粉末を水洗した後、実施例1と同様に、洗浄し、水酸化インジウム粉末を得た。
得られた水酸化インジウム粉末中に残留する塩素による塩素品位を、実施例1と同様に求めた。塩素品位は、2質量ppm(酸化インジウム換算で2質量ppm)であった。
(実施例3)
25%アンモニア(NH4OH)水溶液(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)40.6mlに、インジウムメタルを濃塩酸に溶解して調整した0.88mol/Lの塩化インジウム水溶液100mlを、液温を10℃〜25℃に制御しながら添加した。添加後のpHは9.1となった。その後、水酸化ナトリウムペレット(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)を溶解して調製した25%水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液33.1mlを添加し、pHを11.6とした。
得られた溶液を濾過することにより得られた水酸化インジウムの粉末を水洗した後、実施例1と同様に、洗浄し、水酸化インジウム粉末を得た。
得られた水酸化インジウム粉末中に残留する塩素による塩素品位を、実施例1と同様に求めた。塩素品位は、5質量ppm(酸化インジウム換算で6質量ppm)であった。
(比較例2)
インジウムメタルを濃塩酸に溶解して調整した0.88mol/Lの塩化インジウム水溶液100mlに、25%アンモニア(NH4OH)水溶液(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)24.4mlを、液温を24℃〜34℃に制御しながら添加した。pHは2.9から7.7に上昇した。その後、水酸化ナトリウムペレット(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)を溶解して調製した25%水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液43.0mlを添加し、pHを13.4とした。
得られた溶液を濾過することにより得られた水酸化インジウムの粉末を水洗した後、実施例1と同様に、洗浄し、水酸化インジウム粉末を得た。
得られた水酸化インジウム粉末中に残留する塩素による塩素品位を、実施例1と同様に求めた。塩素品位)は、20質量ppm(酸化インジウム換算で24質量ppm)であった。
(比較例3)
比較例3により、晶析時の液温が水酸化インジウム中に残留する塩素の量へ及ぼす影響を検討した。
25%アンモニア(NH4OH)水溶液(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)を2倍に希釈したアンモニア水溶液89.4ml(pH12)に、インジウムメタルを濃塩酸に溶解して調整した0.88mol/Lの塩化インジウム水溶液100mlを、液温を50℃に制御しながら添加した。塩化インジウム水溶液の添加によりpHは低下し、添加後のpHは8.3となった。その後、水酸化ナトリウムペレット(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)を溶解して調製した25%水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液43.0mlを添加し、pHを12.6とした。
得られた溶液を濾過することにより得られた水酸化インジウムの粉末を水洗した後、実施例1と同様に、洗浄し、水酸化インジウム粉末を得た。
得られた水酸化インジウム粉末中に残留する塩素による塩素品位を、実施例1と同様に求めた。塩素品位は、21質量ppm(酸化インジウム換算で25質量ppm)であった。
(比較例4)
比較例4により、混合後の最終pHが水酸化インジウム中に残留する塩素の量へ及ぼす影響を検討した。
25%アンモニア(NH4OH)水溶液(和光純薬工業株式会社製、試薬一級)40.6ml(pH12)に、インジウムメタルを濃塩酸に溶解して調整した0.88mol/Lの塩化インジウム水溶液100mlを、液温12℃〜29℃に制御しながら添加した。添加後のpHは8.9となった。
得られた溶液を濾過することにより得られた水酸化インジウムの粉末を水洗した後、実施例1と同様に、洗浄し、水酸化インジウム粉末を得た。
得られた水酸化インジウム粉末中に残留する塩素による塩素品位を、実施例1と同様に求めた。塩素品位は、16質量ppm(酸化インジウム換算で19質量ppm)であった。
(比較例5)
比較例5により、NH4OH水溶液に分散させることによりサスペンションとして保持する工程の有無が、水酸化インジウム中に残留する塩素の量へ及ぼす影響を検討した。
実施例1において、晶析した水酸化ナトリウムを濾過し、水洗した後、NH4OH水溶液に分散させることなく、乾燥させて、水酸化インジウム粉末を得た。
得られた水酸化インジウム粉末中に残留する塩素による塩素品位を、実施例1と同様に求めた。塩素品位は、80質量ppm(酸化インジウム換算で96質量ppm)であった。
Figure 2009114013
本発明による実施例1〜3で得られた水酸化インジウム粉末中の塩素品位は、2〜5質量ppmであり、十分に低減されている。一方、晶析時の制御pHが8未満である比較例1および2においては、得られた水酸化インジウム粉末中の塩素品位が、20質量ppmおよび21質量ppmであり、十分には低減されていないことがわかる。また、晶析時の液温が50℃以上である比較例3においては、得られた水酸化インジウム粉末中の塩素品位が21質量ppmであり、低減されていない。さらに、混合後の最終pHが11未満である比較例4においても、得られた水酸化インジウム粉末中の塩素品位が19質量ppmであり、低減されていない。
実施例で得られた水酸化インジウム粉末を、大気雰囲気中、700℃〜1200℃で仮焼して、酸化インジウムを得た。得られた酸化インジウムは、塩素品位が2〜6質量ppmであり、電子材料用として好適であった。
以上より明らかなように、本発明の製造方法により、塩化インジウム、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩を出発原料として用いた場合であっても、残留する塩素による塩素品位が少なく、効率よく、かつ、低コストで、酸化インジウムを主成分とする粉末を製造することができる。従って、得られる酸化インジウムを主成分とする粉末は、電子材料用として好適であり、透明導電性薄膜形成用の高密度インジウム含有酸化物ターゲットの分野で利用されるのみでなく、樹脂混練用導電性フィラーおよび透明導電膜塗料の分野でも利用され、工業的に極めて有益である。

Claims (8)

  1. 塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、塩基性水溶液とを、液温50℃未満、pH8以上に保持し、かつ、混合終了時のpHが11〜14となるように、混合し、晶析した水酸化インジウムまたはインジウム複合水酸化物を0.08mol/L以上のアンモニア水溶液に分散させることによりサスペンションとし、該サスペンションを60℃〜100℃の液温に保持した後、濾過することにより粉末を得て、その後、該粉末に水洗および仮焼の処理を施すことを特徴とする酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法。
  2. 前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液と、前記塩基性水溶液とを混合するに際して、該塩基性水溶液に対して、前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液を添加することを特徴とする請求項1に記載の酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法。
  3. 前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液を、当量以上の前記塩基性水溶液に添加することを特徴とする請求項2に記載の酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法。
  4. 前記塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液を、前記塩基性水溶液に添加するに際して、該塩化インジウム水溶液、または、塩化インジウムを主成分とする金属塩が含まれる水溶液の添加と同時に、塩基を添加することを特徴とする請求項2または3に記載の酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法。
  5. 前記水酸化インジウムまたはインジウム複合酸化物の晶析後に、前記塩基をさらに添加することにより、混合終了時のpHを11〜14の範囲内に調整することを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法。
  6. 前記塩基性水溶液として、アンモニア水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、および水酸化カリウム水溶液のうちの少なくとも1種類を用いることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法。
  7. 前記塩基として、アンモニア水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム、および水酸化カリウムのうちの少なくとも1種類を用いることを特徴とする請求項1〜6に記載の酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法。
  8. 請求項1〜7のいずれかの製造方法により製造され、塩素品位が10質量ppm以下であることを特徴とする酸化インジウムを主成分とする粉末。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2010140548A1 (ja) * 2009-06-05 2012-11-15 Jx日鉱日石金属株式会社 酸化物焼結体、その製造方法及び酸化物焼結体製造用原料粉末
JP2013087018A (ja) * 2011-10-18 2013-05-13 Jx Nippon Mining & Metals Corp 酸化インジウムの製造方法及び酸化インジウム
JP2016094338A (ja) * 2015-12-02 2016-05-26 Jx金属株式会社 酸化インジウムの製造方法及び酸化インジウム

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05201731A (ja) * 1991-10-15 1993-08-10 Mitsubishi Materials Corp 超微粒低抵抗スズドープ酸化インジウム粉末とその製法
JPH10182150A (ja) * 1996-11-08 1998-07-07 Dowa Mining Co Ltd Itoの原料粉と焼結体およびそれらの製造方法
JP2004123523A (ja) * 2002-09-11 2004-04-22 Sumitomo Chem Co Ltd 酸化インジウム−酸化錫粉末の製造方法
WO2004089829A1 (ja) * 2003-04-01 2004-10-21 Hitachi Maxell, Ltd. 複合化酸化インジウム粒子およびその製造方法ならびに導電性塗料、導電性塗膜および導電性シート
JP2004307221A (ja) * 2003-04-01 2004-11-04 Hitachi Maxell Ltd スズ亜鉛アルミニウム含有酸化インジウム粒子とその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05201731A (ja) * 1991-10-15 1993-08-10 Mitsubishi Materials Corp 超微粒低抵抗スズドープ酸化インジウム粉末とその製法
JPH10182150A (ja) * 1996-11-08 1998-07-07 Dowa Mining Co Ltd Itoの原料粉と焼結体およびそれらの製造方法
JP2004123523A (ja) * 2002-09-11 2004-04-22 Sumitomo Chem Co Ltd 酸化インジウム−酸化錫粉末の製造方法
WO2004089829A1 (ja) * 2003-04-01 2004-10-21 Hitachi Maxell, Ltd. 複合化酸化インジウム粒子およびその製造方法ならびに導電性塗料、導電性塗膜および導電性シート
JP2004307221A (ja) * 2003-04-01 2004-11-04 Hitachi Maxell Ltd スズ亜鉛アルミニウム含有酸化インジウム粒子とその製造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2010140548A1 (ja) * 2009-06-05 2012-11-15 Jx日鉱日石金属株式会社 酸化物焼結体、その製造方法及び酸化物焼結体製造用原料粉末
JP2015006984A (ja) * 2009-06-05 2015-01-15 Jx日鉱日石金属株式会社 酸化物焼結体、その製造方法及び酸化物焼結体製造用原料粉末
JP5822198B2 (ja) * 2009-06-05 2015-11-24 Jx日鉱日石金属株式会社 酸化物焼結体、その製造方法及び酸化物焼結体製造用原料粉末
TWI550110B (zh) * 2009-06-05 2016-09-21 Jx Nippon Mining & Metals Corp An oxide sintered body, a method for producing the same, and a raw material powder for producing an oxide sintered body
JP2016216354A (ja) * 2009-06-05 2016-12-22 Jx金属株式会社 酸化物焼結体、その製造方法及び酸化物焼結体製造用原料粉末
US9663405B2 (en) 2009-06-05 2017-05-30 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Oxide sintered compact, its production method, and raw material powder for producing oxide sintered compact
JP2013087018A (ja) * 2011-10-18 2013-05-13 Jx Nippon Mining & Metals Corp 酸化インジウムの製造方法及び酸化インジウム
JP2016094338A (ja) * 2015-12-02 2016-05-26 Jx金属株式会社 酸化インジウムの製造方法及び酸化インジウム

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