JP2009056474A - レーザ加工装置及び加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 エネルギ調整器が、入射するパルスレーザビームのパルスエネルギを低下させて、加工用経路に出射させる。加工用経路に出射されたパルスレーザビームが入射する位置に加工対象物が保持される。加工用経路に沿って伝搬するパルスレーザビームの入射位置が加工対象物の表面上で移動するように、ビーム走査器がパルスレーザビームを走査する。制御装置が、加工対象物の表面上の複数の被加工点の位置情報及び加工の順番を記憶する。さらに、被加工点間の距離と、エネルギ調整器によるパルスエネルギの低下量を規定する物理量との対応関係を記憶する。ある被加工点から、次に加工する被加工点までの距離を算出し、パルスエネルギの低下量を規定する物理量を算出する。算出された低下量になるようにエネルギ調整器を制御する。
【選択図】 図1
Description
パルスレーザビームを出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射したパルスレーザビームが入射する位置に配置され、外部からの制御を受けて、入射するパルスレーザビームのパルスエネルギを低下させて、加工用経路に出射させるエネルギ調整器と、
前記エネルギ調整器から加工用経路に出射されたパルスレーザビームが入射する位置に加工対象物を保持するステージと、
前記加工用経路に沿って伝搬するパルスレーザビームの入射位置が、前記ステージに保持された加工対象物の表面上で移動するように、該パルスレーザビームを走査するビーム走査器と、
前記レーザ光源、エネルギ調整器、及びビーム走査器を制御する制御装置とを
を有し、
前記制御装置は、
前記ステージに保持された加工対象物の表面上の複数の被加工点の位置情報及び加工の順番を記憶し、
被加工点間の距離と、前記エネルギ調整器によるパルスエネルギの低下量を規定する物理量との対応関係を記憶し、
ある被加工点から、次に加工する被加工点までの距離を算出し、該距離に、前記対応関係を適用して、パルスエネルギの低下量を規定する物理量を算出し、該被加工点にパルスレーザビームを入射させるときに、算出された低下量になるように前記エネルギ調整器を制御する制御装置と
を有するレーザ加工装置が提供される。
(a)表面に複数の被加工点が画定された加工対象物をステージに保持する工程と、
(b)レーザ光源から出射されたパルスレーザビームのレーザパルスが、前記加工対象物の被加工点に順番に入射するように、該パルスレーザビームを走査してレーザ加工を行う工程と
を有し、
前記工程(b)において、前記パルスレーザビームを走査して、パルスレーザビームの入射位置が、直前に加工された被加工点から次に加工すべき被加工点に移動するまでの時間に基づいて、レーザ光源から出射されたパルスレーザビームのパルスエネルギの低下量を規定する物理量を算出し、算出された物理量に基づいて、前記レーザ光源から出射されたパルスレーザビームのパルスエネルギを低下させて、次に加工すべき被加工点にパルスレーザビームを入射させるレーザ加工方法が提供される。
2 ビームエキスパンダ
3 マスク
5 エネルギ調整器
6 ビームダンパ
7 折り返しミラー
9 ビーム走査器
10 fθレンズ
11 XYステージ
20 制御装置
50 加工対象物
51 単位加工領域
55 コア基板
56 内層銅パターン
57 樹脂層
58 ビアホール
Claims (4)
- パルスレーザビームを出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射したパルスレーザビームが入射する位置に配置され、外部からの制御を受けて、入射するパルスレーザビームのパルスエネルギを低下させて、加工用経路に出射させるエネルギ調整器と、
前記エネルギ調整器から加工用経路に出射されたパルスレーザビームが入射する位置に加工対象物を保持するステージと、
前記加工用経路に沿って伝搬するパルスレーザビームの入射位置が、前記ステージに保持された加工対象物の表面上で移動するように、該パルスレーザビームを走査するビーム走査器と、
前記レーザ光源、エネルギ調整器、及びビーム走査器を制御する制御装置とを
を有し、
前記制御装置は、
前記ステージに保持された加工対象物の表面上の複数の被加工点の位置情報及び加工の順番を記憶し、
被加工点間の距離と、前記エネルギ調整器によるパルスエネルギの低下量を規定する物理量との対応関係を記憶し、
ある被加工点から、次に加工する被加工点までの距離を算出し、該距離に、前記対応関係を適用して、パルスエネルギの低下量を規定する物理量を算出し、該被加工点にパルスレーザビームを入射させるときに、算出された低下量になるように前記エネルギ調整器を制御する制御装置と
を有するレーザ加工装置。 - 前記エネルギ調整器は、音響光学素子を含み、前記物理量は、該音響光学素子の回折効率、または前記加工用経路に出射させるパルスレーザビームのパルス幅である請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記レーザ光源は、出射するパルスレーザビームのパルスの繰り返し周波数が高くなるに従ってパルスエネルギが低下する周波数特性を有し、
前記ビーム走査器は、直前に加工した被加工点から、次に加工すべき被加工点までの距離が長くなるに従って、レーザビームの入射位置が、直前に加工した被加工点から次に加工すべき被加工点まで移動する時間が長くなる特性を有し、
直前に加工した被加工点から次に加工すべき被加工点までの、レーザビームの入射位置の移動時間のばらつきに起因して、前記レーザ光源から出射されたパルスレーザビームのパルスエネルギがばらつき、
前記制御装置は、前記加工用経路に沿って伝搬するパルスレーザビームのパルスエネルギのばらつきが、前記エネルギ調整器に入射する前のパルスレーザビームのパルスエネルギのばらつきよりも小さくなるように、前記エネルギ調整器を制御する請求項1または2に記載のレーザ加工装置。 - (a)表面に複数の被加工点が画定された加工対象物をステージに保持する工程と、
(b)レーザ光源から出射されたパルスレーザビームのレーザパルスが、前記加工対象物の被加工点に順番に入射するように、該パルスレーザビームを走査してレーザ加工を行う工程と
を有し、
前記工程(b)において、前記パルスレーザビームを走査して、パルスレーザビームの入射位置が、直前に加工された被加工点から次に加工すべき被加工点に移動するまでの時間に基づいて、レーザ光源から出射されたパルスレーザビームのパルスエネルギの低下量を規定する物理量を算出し、算出された物理量に基づいて、前記レーザ光源から出射されたパルスレーザビームのパルスエネルギを低下させて、次に加工すべき被加工点にパルスレーザビームを入射させるレーザ加工方法。
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