JP3872462B2 - レーザ加工装置、及びレーザ加工方法 - Google Patents
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2 AOD(光学手段)
5 コントローラ(制御手段)
M1 第1の導光光学系
M2 第2の導光光学系
W1 被加工基板(加工対象物)
W2 被加工基板(加工対象物)
Claims (13)
- パルスレーザ光を放射する光源と、
それぞれ自己に入射したパルスレーザ光を加工対象物上へ導く複数の導光光学系と、
前記光源から放射されたパルスレーザ光が入射する位置に配置され、入射したパルスレーザ光を偏向する機能と、該パルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを変更する機能とを有する光学手段と、
前記光源から放射されたパルスレーザ光が前記光学手段によって偏向されることにより前記複数の導光光学系に時間的に振り分けられるように入射され、かつ時間的に振り分けられて一つの前記導光光学系にパルスレーザ光が入射されている期間に、前記光学手段を通過したパルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギが変更されるよう前記光学手段を制御する制御手段と
を備えたレーザ加工装置。 - 前記制御手段が、前記パルスレーザ光が時間的に振り分けられて一つの前記導光光学系に入射されている期間に、該パルスレーザ光の前記加工対象物上における1パルスあたりのエネルギ密度が、銅をアブレーションさせることのできる第1の値から、該第1の値よりも低くかつ樹脂をアブレーションさせることのできる第2の値へ変更されるよう前記光学手段を制御する請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記複数の導光光学系の各々が、自己に入射したパルスレーザ光の照射位置を前記加工対象物上で移動させる走査光学系を含み、
前記制御手段が、前記光学手段によって前記パルスレーザ光が時間的に振り分けられて一つの前記導光光学系に入射されている期間に、前記複数の導光光学系のうち当該一つの導光光学系以外の少なくとも一つの導光光学系の前記走査光学系を駆動してパルスレーザ光の照射位置を移動させておく請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。 - 前記光学手段が、一つの光学偏向器からなる請求項1〜3のいずれかに記載のレーザ加工装置。
- 前記光学手段が、前記パルスレーザ光を透過させる音響媒体と、該音響媒体内に伝搬させる超音波を発生する超音波発生手段とを備えた音響光学偏向器からなり、
前記制御手段が、前記超音波発生手段によって発生される超音波の周波数を変化させることに基づいて、前記音響媒体を透過するパルスレーザ光の回折方向を変化させることにより、該パルスレーザ光を前記複数の導光光学系に時間的に振り分けるように入射させるとともに、前記超音波発生手段によって発生される超音波の振幅を変化させることに基づいて、前記音響媒体を透過するパルスレーザ光の回折効率を変化させることにより、該パルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを変更させる請求項1〜4のいずれかに記載のレーザ加工装置。 - (a)光源から放射されたパルスレーザ光の入射先を、光学偏向器を用いて第1の導光光学系に設定する工程と、
(b)前記第1の導光光学系に入射させるパルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを、前記光学偏向器を用いて第1の値に設定して、該第1の導光光学系によってパルスレーザ光が導かれる加工対象物上の位置に穴を途中段階まで形成する工程と、
(c)前記第1の導光光学系に入射させるパルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを、前記光学偏向器を用いて前記第1の値とは異なる第2の値に設定して、前記工程(b)において途中段階まで形成された穴の底面を掘る工程と、
(d)前記光源から放射されたパルスレーザ光の入射先を、前記光学偏向器を用いて前記第1の導光光学系から第2の導光光学系に変更する工程と、
(e)前記第2の導光光学系に入射させるパルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを、前記光学偏向器を用いて第1の値に設定して、該第2の導光光学系によってパルスレーザ光が導かれる加工対象物上の位置に穴を途中段階まで形成する工程と、
(f)前記第2の導光光学系に入射させるパルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを、前記光学偏向器を用いて前記第1の値とは異なる第2の値に設定して、前記工程(e)において途中段階まで形成された穴の底面を掘る工程と
を有するレーザ加工方法。 - 前記加工対象物が、樹脂層の上に銅層が積層された構造を有する多層基板であり、
前記工程(b)及び(e)では、前記パルスレーザ光の照射面における1パルスあたりのエネルギ密度が銅をアブレーションさせることのできる値となるように、該パルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを前記光学偏向器を用いて第1の値に設定して前記銅層を貫通する穴を形成し、
前記工程(c)及び(f)では、前記パルスレーザ光の照射面における1パルスあたりのエネルギ密度が、銅をアブレーションさせることのできる値よりも低く、かつ樹脂をアブレーションさせることのできる値となるように、該パルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを前記光学偏向器を用いて第2の値に設定して前記樹脂層を貫通する穴を形成する請求項6に記載のレーザ加工方法。 - 前記第1の導光光学系及び前記第2の導光光学系の各々が、自己に入射したパルスレーザ光の照射位置を前記加工対象物上で移動させる走査光学系を含み、
前記光源から放射されたパルスレーザ光を前記第1の導光光学系に入射させている期間に、前記第2の導光光学系の前記走査光学系を駆動してパルスレーザ光の照射位置を移動させておく工程と、
前記光源から放射されたパルスレーザ光を前記第2の導光光学系に入射させている期間に、前記第1の導光光学系の前記走査光学系を駆動してパルスレーザ光の照射位置を移動させておく工程と
をさらに有する請求項6又は7に記載のレーザ加工方法。 - 前記光学偏向器が、前記パルスレーザ光を透過させる音響媒体と、該音響媒体内に伝搬させる超音波を発生する超音波発生手段とを備えた音響光学偏向器からなり、
前記工程(a)及び(d)では、前記超音波発生手段によって発生される超音波の周波数に基づいて、前記音響媒体を透過するパルスレーザ光の回折方向を設定することにより、該パルスレーザ光の入射先をそれぞれ前記第1の導光光学系及び第2の導光光学系に設定し、
前記工程(b)、(c)、(e)、及び(f)では、前記超音波発生手段によって発生される超音波の振幅に基づいて、前記音響媒体を透過するパルスレーザ光の回折効率を設定することにより、該パルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを設定する請求項6〜8のいずれかに記載のレーザ加工方法。 - (a)一つの光源から放射されたパルスレーザ光を、光学偏向器を用いて、各々が自己に入射したパルスレーザ光を加工対象物上へ導く複数の導光光学系に、時間的に振り分けるように入射させる工程と、
(b)前記工程(a)で時間的に振り分けられて一つの導光光学系にパルスレーザ光が入射している期間に、該導光光学系によってパルスレーザ光が導かれる前記加工対象物上の位置に穴を形成する工程であって、(1)該導光光学系に入射させるパルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを、前記光学偏向器を用いて第1の値に設定して、前記加工対象物に前記穴を途中段階まで形成し、(2)該導光光学系に入射させるパルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを、前記光学偏向器を用いて前記第1の値とは異なる第2の値に設定して、前記途中段階まで形成された穴の底面を掘る工程と
を有するレーザ加工方法。 - 前記加工対象物が、樹脂層の上に銅層が積層された構造を有する多層基板であり、
前記工程(1)では、前記パルスレーザ光の照射面における1パルスあたりのエネルギ密度が銅をアブレーションさせることのできる値となるように、該パルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを前記光学偏向器を用いて第1の値に設定して前記銅層を貫通する穴を形成し、
前記工程(2)では、前記パルスレーザ光の照射面における1パルスあたりのエネルギ密度が、銅をアブレーションさせることのできる値よりも低く、かつ樹脂をアブレーションさせることのできる値となるように、該パルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギを前記光学偏向器を用いて第2の値に設定して前記樹脂層を貫通する穴を形成する請求項10に記載のレーザ加工方法。 - 前記複数の導光光学系の各々が、自己に入射したパルスレーザ光の照射位置を前記加工対象物上で移動させる走査光学系を含み、
前記工程(a)で時間的に振り分けられて一つの導光光学系にパルスレーザ光が入射している期間に、前記複数の導光光学系のうち当該一つの導光光学系以外の少なくとも一つの導光光学系の前記走査光学系を駆動してパルスレーザ光の照射位置を移動させておく工程をさらに有する請求項10又は11に記載のレーザ加工方法。 - 前記光学偏向器が、前記パルスレーザ光を透過させる音響媒体と、該音響媒体内に伝搬させる超音波を発生する超音波発生手段とを備えた音響光学偏向器からなり、
前記工程(a)では、前記超音波発生手段によって発生される超音波の周波数を変化させることに基づいて、前記音響媒体を透過するパルスレーザ光の回折方向を変化させることにより、該パルスレーザ光を前記複数の導光光学系に時間的に振り分けるように入射させ、
前記工程(1)及び(2)では、前記超音波発生手段によって発生される超音波の振幅に基づいて、前記音響媒体を透過するパルスレーザ光の回折効率を設定することにより、該パルスレーザ光の1パルスあたりのエネルギをそれぞれ前記第1の値及び第2の値に設定する請求項10〜12のいずれかに記載のレーザ加工方法。
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