JP2009008788A - 化学増幅型ポジ型レジスト組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(I)で示される感放射線性酸発生剤
(式(I)中、Rはそれぞれ独立に水素原子、直鎖状又は分岐状で置換基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基、直鎖状又は分岐状で置換基を有していてもよい炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基を表し、nは0〜4の整数を表す。A+は有機対カチオンを表す。)と樹脂とを含有し、該樹脂が酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂であることを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
【選択図】なし
Description
リソグラフィにおいては、レイリー(Rayleigh)の回折限界の式で表されるように、原理的には露光波長が短いほど解像度を上げることが可能である。半導体の製造に用いられるリソグラフィ用露光光源は、波長436nmのg線、波長365nmのi線、波長248nmのKrFエキシマレーザー、波長193nmのArFエキシマレーザーと、年々短波長になってきており、次世代の露光光源として、波長13nm以下のEUV(極紫外線)、電子線、X線などについても精力的に研究されている。
式(VIIIa)中、P1〜P3は、互いに独立に、直鎖又は分岐の炭素数1〜30のアルキル基又は炭素数3〜30の環式炭化水素基を表す。P1〜P3がアルキル基である場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基の一つ以上を置換基として含んでいてもよく、P1〜P3が環式炭化水素基である場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。該アルキル基及び該アルコキシ基は、直鎖でも分岐していてもよい。
該環式炭化水素基の具体例としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ビシクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル、ビフェニル基などが挙げられる。
式(VIIIb)中、P4およびP5は、互いに独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表し、該アルキル基及び該アルコキシ基は、式(VIIIa)のアルキル基及びアルコキシ基と同じ意味を表す。
式(VIIIc)中、P6およびP7は、互いに独立に、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数3〜12のシクロアルキル基を表し、該アルキル基は、直鎖でも分岐していてもよい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられる。該シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基などが挙げられる。また、P6とP7とが結合して、アルキレン基などの炭素数3〜12の2価の炭化水素基であってもよい。P8は水素原子を表し、P9は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、またはフェニル基、ベンジル基などの置換されていてもよい芳香環基をあらわすか、P8とP9とが結合して、アルキレン基などの炭素数3〜12の2価の炭化水素基を表す。P9がアルキル基の場合、該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基などが挙げられる。P9がシクロアルキル基の場合、該シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基などが挙げられる。ここで、式(VIIIc)における2価の炭化水素基に含まれる炭素原子は、その一部が任意に、カルボニル基、酸素原子、硫黄原子に置換されていてもよい。
式(VIIId)中、P10〜P21は、互いに独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す。該アルキル基及び該アルコキシ基は、式(VIIIa)のアルキル基及びアルコキシ基と同じ意味を表す。Dは、硫黄原子又は酸素原子を表す。mは、0又は1を表す。
式(VIIIe)〜(VIIIg)中、P28〜P30は互いに独立に、直鎖又は分岐の炭素数1〜20のアルキル基を表すか又はフェニル基以外の炭素数3〜30の環式炭化水素基を表す。P28〜P30がアルキル基である場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基の一つ以上を置換基として含んでいてもよく、P28〜P30が環式炭化水素基の場合には、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。式中のP31〜P36は、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基又は炭素数3〜12の環式炭化水素基を表し、l、k、j、i、hおよびgは、互いに独立に0〜5の整数を表す。
式(VIIIh)中、P25〜P27は、互いに独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表し、該アルキル基及び該アルコキシ基は、直鎖でも分岐していてもよい。
式(VIIIi)中、P22〜P24は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、該アルキル基は、直鎖でも分岐していてもよい。
ジフェニルヨードニウム p−トルエンスルホナート、ジ(4−メトキシフェニル)ヨードニウム p−トルエンスルホナート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム ベンゼンスルホナート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム p−トルエンスルホナート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム トリイソプロピルベンゼンスルホナート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム 2,4,6−トリイソプロピル3−ニトロベンゼンスルホナート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム 2−フルオロベンゼンスルホナート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム 4−フルオロベンゼンスルホナート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム 2,4−ジフルオロベンゼンスルホナート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム 4−(n−ブチル)ベンゼンスルホナート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム 4−(n−オクチル)ベンゼンスルホナート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム 4−(n−ドデシル)ベンゼンスルホナートなどが挙げられる。
式(IX)中、R30及びR31は、それぞれ独立に炭素数3〜8の分岐状又は環状のアルキル基又はアリール基を表す。R30及びR31の具体例としては、tert−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられる。
ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(4−クロロフェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(p−トリルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(2,4−キシリルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(4−イソプロピルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(4−tert−ブチルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(ナフチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(アントラセニルスルホニル)ジアゾメタンなどが挙げられる。
その中でも、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタンが特に好ましい。これらは単独で用いてもよいし、2種類以上組み合わせて用いてもよい。
とりわけ(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチルやα−クロロアクリル酸2−アルキル−2−アダマンチルをモノマーとして用いた場合は、解像度が優れるので好ましい。このような(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチルやα−クロロアクリル酸2−アルキル−2−アダマンチルの代表例としては、例えばアクリル酸2−メチル−2−アダマンチル、メタクリル酸2−メチル−2−アダマンチル、アクリル酸2−エチル−2−アダマンチル、メタクリル酸2−エチル−2−アダマンチル、アクリル酸2−n−ブチル−2−アダマンチル、α−クロロアクリル酸2−メチル−2−アダマンチル、α−クロロアクリル酸2−エチル−2−アダマンチル、などが挙げられる。これらの中では、特に(メタ)アクリル酸2−エチル−2−アダマンチル又はα−クロロアクリル酸2−エチル−2−アダマンチルを用いた場合、感度、耐熱性のバランスが良いので好ましい。本発明において、必要に応じて、酸の作用により解裂する基を持つ他のモノマーを併用してもよい。
また、(メタ)アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンは、ラクトン環がアルキルで置換されていてもよいα−もしくはβ−ブロモ−γ−ブチロラクトンにアクリル酸もしくはメタクリル酸を反応させるか、又はラクトン環がアルキルで置換されていてもよいα−もしくはβ−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンにアクリル酸ハライドもしくはメタクリル酸ハライドを反応させることにより製造できる。
そして、酸に不安定な基として特に、(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチル、(メタ)アクリル酸1−(1−アダマンチル)−1−アルキルアルキルから導かれる重合単位を用いる場合は、該重合単位が樹脂の全重合単位のうち10%以上となるようにすることが有利である。
また、酸に不安定な基を持つ重合単位に加えて、酸の作用で解裂しにくい他の重合単位、例えば、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチルから導かれる重合単位、(メタ)アクリル酸3、5−ジヒドロキシ−1−アダマンチル、α−(メタ)アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンから導かれる重合単位、β−(メタ)アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンから導かれる重合単位、ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位、スチレンから導かれる重合単位などを存在させる場合は、それらの重合単位の合計が、樹脂の全重合単位のうち20〜90%の範囲となるようにすることが好ましい。
また、T1〜T7において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。
実施例および比較例中、含有量ないし使用量を表す%及び部は、特記ないかぎり重量基準である。また重量平均分子量(Mw)及び分散度(Mw/Mn)は、ポリスチレンを標準品として、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。また、化合物のNMRで確認した。
化合物(B1−2)を5.0部にイオン交換水400.0部を加え45℃に昇温して完溶させた。これをカラム管にイオン交換樹脂(DuoliteC20)6.9部を充填したものに通液してスルホン酸を得た。得られた溶液に酸化銀2.0部添加し一晩撹拌した。その後ろ過することにより化合物(B1−3)を3.9部得た。
メタノール1000部、化合物(B1−2)を25.6部、化合物(B2−1)の10.6%水溶液を232.7部を混合して60℃で32時間攪拌した。その後ろ過してろ液を濃縮した。残渣にクロロホルム412.3部を加えて、攪拌、静置し、有機層を分液した。この有機層にイオン交換水209.4部を加えて攪拌、静置、有機層を分液した。この操作を水層が中性になるまで繰り返した。得られた有機層に活性炭4.7部を加え攪拌した後、ろ過した。ろ液を濃縮した。アセトニトリル100.9部を加えて溶解した後、濃縮した。そこにt−ブチルメチルエーテルを62.7部加えて攪拌して得られた析出物をろ過、乾燥して化合物(B2)を8.4部得た。
クロロホルム61.1部、化合物(B3−1)を5.0部、化合物(B2−2)の14.2%水溶液を33.9部を混合して室温下一晩攪拌した。その後静置、分液して有機層を得た。この有機層にイオン交換水30.5部を加えて攪拌、静置、有機層を分液した。この操作を水層が中性になるまで繰り返した。得られた有機層に活性炭1.0部を加え攪拌した後、ろ過した。ろ液を濃縮した。アセトニトリル26.3部を加えて溶解した後、濃縮して化合物(B3)を4.7部得た。
冷却管、撹拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに、4−アセトキシスチレン179.2g(1.105モル)、EAMA48.4g(0.195モル)、メチルイソブチルケトン306gを仕込み80℃まで昇温した。そこに2,2’−アゾビス(イソ酪酸ジメチル)13.5g(0.585モル)をメチルイソブチルケトン36.0gに溶解した液を10分間かけて滴下した。その後80℃を保ったまま15時間保温した。メタノール4660gと水583gの混合溶液を撹拌しながらその混合溶液に反応液を注ぎ、析出した樹脂を濾取した。得られた樹脂をメタノール751gに分散し、4−ジメチルアミノピリジン25.4g(0.208モル)を加え62℃で15時間保温した。その後氷酢酸37.5g(0.624モル)を加え30分撹拌した後、水6830gに撹拌しながら注ぎ、析出した樹脂を濾取、水洗し減圧乾燥することで、HSTとEAMA共重合樹脂174.5gを得た。次いで、この樹脂174.5gを冷却管、撹拌装置、温度計を備えた4つ口フラスコに仕込み、アセトン1047gに溶解後、トリエチルアミン19.7g(0.195モル)を仕込み40℃まで昇温し、塩化ベンゾイル18.3g(0.13モル)を30分かけて滴下した。その後40℃で3時間保温後、酢酸エチル698g、0.5%蓚酸水640gを加え撹拌後分液した。さらに蓚酸水で分液洗浄を行った後、酢酸エチル698g、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート698g、水436gを加え分液洗浄を行った。さらに水で4回分液洗浄を行った後、減圧濃縮を行い、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートを加え、再び減圧濃縮を行って、樹脂のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液543g(固形分33.7%)を得た。得られた樹脂は、重量平均分子量(Mw)は約9800、分散度(Mw/Mn)1.73(GPC法:ポリスチレン換算)であり、13C−NMRよりEAMA14%、BzST12%、HST74%の共重合体であった。この樹脂を樹脂(A1)とする。
仕込み比率を変えて合成例1と同様の操作を行い、樹脂のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液568g(固形分35.4%)を得た。得られた樹脂は、重量平均分子量(Mw)は約9100、分散度(Mw/Mn)1.72(GPC法:ポリスチレン換算)であり、13C−NMRよりEAMA14%、BzST17%、HST69%の共重合体であった。この樹脂を樹脂(A2)とする。
以下の表1に示す各成分を混合して溶解し、さらに孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルタで濾過して、レジスト液を調製した。尚、( )内の数値は配合量(重量部)を示す。
(B4):トリフェニルスルホニウム 2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホネート
(B5):ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン
(B6):トリフェニルスルホニウム 2−ナフタレンスルホネート
(B7):(4−メチルフェニル)ジフェニルスルホニウム パーフルオロブタンスルホネート
Claims (6)
- 樹脂の重合単位中の酸に不安定な基を持つ重合単位の含有率が、5〜80モル%である請求項1記載の組成物。
- 樹脂中の酸に不安定な基を持つ重合単位が、(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチル基又は(メタ)アクリル酸1−(1−アダマンチル)−1−アルキルアルキル基を有する重合単位である請求項1又は2に記載の組成物。
- 樹脂が、酸に不安定な基を持つ重合単位のほかに、さらに、p−ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位、m−ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位、スチレンから導かれる重合単位からなる群から選ばれた少なくとも1種の重合単位を含有する請求項1〜3のいずれかに記載の組成物。
- さらに、感放射線性酸発生剤としてジアゾメタン系酸発生剤を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の組成物。
- さらに、塩基性含有窒素有機化合物を含有する請求項1〜5のいずれかに記載の組成物。
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