RU2495468C1 - Негативная фоточувствительная полимерная композиция, способ формирования паттерна и головка для выбрасывания жидкости - Google Patents
Негативная фоточувствительная полимерная композиция, способ формирования паттерна и головка для выбрасывания жидкости Download PDFInfo
- Publication number
- RU2495468C1 RU2495468C1 RU2012137723/04A RU2012137723A RU2495468C1 RU 2495468 C1 RU2495468 C1 RU 2495468C1 RU 2012137723/04 A RU2012137723/04 A RU 2012137723/04A RU 2012137723 A RU2012137723 A RU 2012137723A RU 2495468 C1 RU2495468 C1 RU 2495468C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- acid
- compound
- salt
- photogenerator
- group
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 36
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 217
- -1 sulphonic acid compound Chemical class 0.000 claims abstract description 73
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 71
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 65
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims abstract description 47
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 17
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 6
- 125000005496 phosphonium group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 5
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Substances [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229940078162 triadine Drugs 0.000 claims abstract description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 31
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 7
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 6
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000003458 sulfonic acid derivatives Chemical group 0.000 claims description 4
- VSQAMHLYSYQSBM-UHFFFAOYSA-N [F].OB(O)O Chemical group [F].OB(O)O VSQAMHLYSYQSBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- COFWJARDGQSZLX-UHFFFAOYSA-N [F].[Sb] Chemical group [F].[Sb] COFWJARDGQSZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 19
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical class OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 40
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 33
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 22
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 18
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 101000795074 Homo sapiens Tryptase alpha/beta-1 Proteins 0.000 description 9
- 102100029639 Tryptase alpha/beta-1 Human genes 0.000 description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 9
- 101000662819 Physarum polycephalum Terpene synthase 1 Proteins 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 5
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004060 metabolic process Effects 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- JGTNAGYHADQMCM-UHFFFAOYSA-N perfluorobutanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JGTNAGYHADQMCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical group O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACPUHIQZFSBBGQ-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4-hexafluorobutanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F ACPUHIQZFSBBGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 2-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=CC=N1 ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CUYKNJBYIJFRCU-UHFFFAOYSA-N 3-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=CN=C1 CUYKNJBYIJFRCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 2
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJNKQJAJXSUJBO-UHFFFAOYSA-N 9,10-diethoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCC)C2=C1 GJNKQJAJXSUJBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- VEIOBOXBGYWJIT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;methanol Chemical compound OC.OC.C1CCCCC1 VEIOBOXBGYWJIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000000415 inactivating effect Effects 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 2
- DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N (2-oxo-1,2-diphenylethyl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=CC=CC=C1 DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPBCUCGKHDEUDD-UHFFFAOYSA-N (5-methylpyrazin-2-yl)methanamine Chemical compound CC1=CN=C(CN)C=N1 MPBCUCGKHDEUDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKJNETINGMOHJG-GGWOSOGESA-N (e)-1-[(e)-prop-1-enoxy]prop-1-ene Chemical group C\C=C\O\C=C\C ZKJNETINGMOHJG-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylguanidine Chemical compound CN(C)C(=N)N(C)C KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDVBKXJMLILLLB-UHFFFAOYSA-N 1,4'-bipiperidine Chemical compound C1CCCCN1C1CCNCC1 QDVBKXJMLILLLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTVFPPFZRRKJIH-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(C)N1 FTVFPPFZRRKJIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQTWHPMSVAFDA-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1h-pyrazole Chemical compound C1NNC=C1 KEQTWHPMSVAFDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXFMYVTSLAQMO-UHFFFAOYSA-N 2-Pyridinemethanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=N1 WOXFMYVTSLAQMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940013085 2-diethylaminoethanol Drugs 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJNRGSHEMCMUOE-UHFFFAOYSA-N 2-piperidin-1-ylethanamine Chemical compound NCCN1CCCCC1 CJNRGSHEMCMUOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- NAHHNSMHYCLMON-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-3-ylethanamine Chemical compound NCCC1=CC=CN=C1 NAHHNSMHYCLMON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDLHTECVNDEOIY-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-4-ylethanamine Chemical compound NCCC1=CC=NC=C1 IDLHTECVNDEOIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRXNJTBODVGDRY-UHFFFAOYSA-N 2-pyrrolidin-1-ylethanamine Chemical compound NCCN1CCCC1 WRXNJTBODVGDRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAVOOWVINKGEHS-UHFFFAOYSA-N 3-(diethylamino)phenol Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC(O)=C1 WAVOOWVINKGEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWLKGDAVCFYWJK-UHFFFAOYSA-N 3-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC(O)=C1 CWLKGDAVCFYWJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940018563 3-aminophenol Drugs 0.000 description 1
- RGDQRXPEZUNWHX-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridin-2-amine Chemical compound CC1=CC=CN=C1N RGDQRXPEZUNWHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCGBIXXDQFWVDW-UHFFFAOYSA-N 4,5-dihydro-1h-pyrazole Chemical compound C1CC=NN1 MCGBIXXDQFWVDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUFGYCAXVIUXIP-UHFFFAOYSA-N 4,6-dihydroxypyrimidine Chemical compound OC1=CC(O)=NC=N1 DUFGYCAXVIUXIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUKYPUAOHBNCPY-UHFFFAOYSA-N 4-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=NC=C1 NUKYPUAOHBNCPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORLGLBZRQYOWNA-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridin-2-amine Chemical compound CC1=CC=NC(N)=C1 ORLGLBZRQYOWNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYTLHYRDGXRYEY-UHFFFAOYSA-N 5-Methyl-3-pyrazolamine Chemical compound CC=1C=C(N)NN=1 FYTLHYRDGXRYEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQUNBEPKWJLYJD-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-(4-methylphenyl)pyrazol-3-amine Chemical compound N1=C(C)C=C(N)N1C1=CC=C(C)C=C1 WQUNBEPKWJLYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMBSSVKZOPZBKW-UHFFFAOYSA-N 5-methylpyridin-2-amine Chemical compound CC1=CC=C(N)N=C1 CMBSSVKZOPZBKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUXLCYFNVNNRBE-UHFFFAOYSA-N 6-methylpyridin-2-amine Chemical compound CC1=CC=CC(N)=N1 QUXLCYFNVNNRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical group F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKNUHUCEWALCOI-UHFFFAOYSA-N N-ethyldiethanolamine Chemical compound OCCN(CC)CCO AKNUHUCEWALCOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N Phenanthrene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000830822 Physarum polycephalum Terpene synthase 2 Proteins 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N TMG Natural products CNC(N)=NC LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005001 aminoaryl group Chemical group 0.000 description 1
- IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N aminoethylpiperazine Chemical compound NCCN1CCNCC1 IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011175 aminopicoline Drugs 0.000 description 1
- 150000005005 aminopyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003868 ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 229960004979 fampridine Drugs 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- MKQLBNJQQZRQJU-UHFFFAOYSA-N morpholin-4-amine Chemical compound NN1CCOCC1 MKQLBNJQQZRQJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRPITCBWOUOJTH-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylpyridin-2-amine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=N1 XRPITCBWOUOJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHFUXPCCELGMFC-UHFFFAOYSA-N n-(6-cyano-3-hydroxy-2,2-dimethyl-3,4-dihydrochromen-4-yl)-n-phenylmethoxyacetamide Chemical compound OC1C(C)(C)OC2=CC=C(C#N)C=C2C1N(C(=O)C)OCC1=CC=CC=C1 RHFUXPCCELGMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWIVICVCHVMHMU-UHFFFAOYSA-N n-aminoethylmorpholine Chemical compound NCCN1CCOCC1 RWIVICVCHVMHMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004708 n-butylthio group Chemical group C(CCC)S* 0.000 description 1
- RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N n-methyl-1-phenylmethanamine Chemical compound CNCC1=CC=CC=C1 RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004706 n-propylthio group Chemical group C(CC)S* 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005029 naphthylthio group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)S* 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- LJXQPZWIHJMPQQ-UHFFFAOYSA-N pyrimidin-2-amine Chemical compound NC1=NC=CC=N1 LJXQPZWIHJMPQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYRRZWATULMEPF-UHFFFAOYSA-N pyrimidin-4-amine Chemical compound NC1=CC=NC=N1 OYRRZWATULMEPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVLAYJRLBLHIPV-UHFFFAOYSA-N pyrimidin-5-amine Chemical compound NC1=CN=CN=C1 FVLAYJRLBLHIPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAAWASYJIRZXSZ-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2,4-diamine Chemical compound NC1=CC=NC(N)=N1 YAAWASYJIRZXSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- IZBNHIWUATWXHK-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-amine Chemical compound NC1CCCN1 IZBNHIWUATWXHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGXSWUFDCSEIOO-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-3-amine Chemical compound NC1CCNC1 NGXSWUFDCSEIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1623—Manufacturing processes bonding and adhesion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
- B41J2/1634—Manufacturing processes machining laser machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1635—Manufacturing processes dividing the wafer into individual chips
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1637—Manufacturing processes molding
- B41J2/1639—Manufacturing processes molding sacrificial molding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1645—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by spincoating
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
Изобретение относится к фоточувствительной композиции смолы, используемой для получения головки для выбрасывания жидкости для генерирования капли жидкости, например капли краски, а также к способу формирования паттерна и к головке для выбрасывания жидкости. Фоточувствительная композиция включает катионно-полимеризуемое соединение, фотогенератор кислоты, имеющую анионную часть и катионную часть, а также соль, имеющую катионную часть, обладающую любой одной из четвертичной структурой аммония или четвертичной структурой фосфония, и анионную часть. При этом анионная часть соли замещена анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты, для формирования второй кислоты, обладающей силой кислоты, меньшей, чем сила кислоты первой кислоты. Катионно-полимеризуемое соединение представляет собой эпоксидную смолу. Фотогенератор кислоты представляет собой, по меньшей мере, соединение, выбранное из группы, включающей соединение сульфоновой кислоты и другие производные сульфоновой кислоты, диазометановое соединение, соединение соли сульфония, соединение соли йодония, сульфонимидное соединение, дисульфоновое соединение, нитробензольное соединение, бензоинтозилатное соединение, ареновый комплекс железа, галогенсодержащее соединение триадина, производное соединение ацетофена, и содержащий цианогруппу сульфатоксим. Способ формирования паттерна заключается в том, что готовят подложку, на которой предоставлена фоточувствительная композиция. Затем проводят экспонирование участка композиции светом для отверждения экспонированной части. Далее отвержденную часть нагревают. Головка для выбрасывания жидкости включает часть с выпускным каналом для выбрасывания жидкости. Часть с выпускным каналом сформирована из отвержденного материала, выполненного из вышеуказанной композиции. Изобретение позволяет повысить термостойкость фоточувствительной композиции и повысить точность формирования паттерна. 3 н. и 10 з.п. ф-лы, 5 табл., 4 ил., 9 пр.
Description
Область технического применения
Настоящее изобретение относится к негативной фоточувствительной полимерной композиции. Более конкретно настоящее изобретение относится к негативной фоточувствительной полимерной композиции, используемой для получения головки для выбрасывания жидкости, которая использована в пишущем способе выбрасывания жидкости для генерирования капли жидкости, например, капли краски. Дополнительно настоящее изобретение относится к способу формирования паттерна, к головке для выбрасывания жидкости и к способу получения головки для выбрасывания жидкости, использующей негативную фоточувствительную полимерную композицию.
Основы области техники
В качестве технологии микрообработки для формирования паттерна или структуры была известна технология фотолитографии с помощью экспонирования и проявления негативной фоточувствительной полимерной композиции. Эту технологию широко использовали для получения полупроводниковых интегральных схем, полупроводниковых фотошаблонов и различных микроэлектромеханических систем MEMS (MEMS microelectromecanical systems-микроэлектромеханические системы) и тому подобное. В качестве примера использования для получения MEMS эта технология использована для получения сопла (форсунки) головки для выбрасывания жидкости. В этой области техники в последние годы существует спрос на получение структуры, обладающей более сложной конфигурацией с высокой четкостью, а также высокой термостойкостью, а, следовательно, существует спрос на негативную фоточувствительную полимерную композицию, которая демонстрирует высокую термостойкость и точность формовки.
В качестве примера негативной фоточувствительной полимерной композиции в выложенной заявке JP2008-256980 рассмотрена негативная фоточувствительная полимерная композиция, содержащая полифункциональную эпоксидную смолу и фотогенератор кислоты
В качестве примера головки для выбрасывания жидкости в US 5218376 обсуждается конфигурация, включающая сопло для устройства выбрасывания жидкости, в котором капелька краски выброшена путем предоставления взаимодействия между пузырьками воздуха, созданными при нагревании термостойкого элемента, и наружным воздухом.
Однако в случае нагрева при высокой температуре для придания высокой надежности, часть отвержденной пленки иногда становилась модифицированной, что делает невозможным получение требуемой отвержденной пленки.
Краткое описание изобретения
Настоящее изобретение нацелено на негативную фоточувствительную полимерную композицию, обладающую высокой термостойкостью и точностью формирования. Дополнительно настоящее изобретение нацелено на головку для выбрасывания жидкости, имеющую часть с выпускным каналом, предоставленную с выпускными каналами, сформированными из композиции и обладающими высокой четкостью формы.
В соответствии с аспектом настоящего изобретения предоставлена фоточувствительная полимерная композиция, включающая катионно-полимеризуемое соединение; фотогенератор кислоты, обладающий анионной частью и катионной частью; и соль, имеющую катионную часть, обладающую любой одной из четвертичной структурой аммония или четвертичной структурой фосфония и анионную часть, где анионная часть соли заменена анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты для формирования второй кислоты, обладающей силой кислоты, меньшей, чем сила первой кислоты.
В соответствии с примерными вариантами воплощения настоящего изобретения предоставлена негативная фоточувствительная полимерная композиция, обладающая высокой термостойкостью и способная создать отвержденное вещество, обладающее хорошей точностью формовки. Дополнительно существует возможность предоставить головку выбрасывания жидкости, имеющую часть с выпускным каналом, предоставленную с выпускными каналами с высокой четкостью формы.
Дополнительные характерные черты настоящего изобретения станут понятны из следующего подробного описания примерных вариантов воплощения изобретения со ссылкой на приложенные чертежи.
Краткое описание чертежей
Сопровождающие чертежи, которые включены и составляют часть описания изобретения, иллюстрируют показательные варианты воплощения изобретения, характерные черты и аспекты изобретения и вместе с описанием служат для объяснения принципов изобретения.
Фиг.1 - схематичная диаграмма, иллюстрирующая паттерн, который необходимо использовать для оценки точности формовки в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения.
Фиг.2 - перспективный вид, схематично иллюстрирующий головку для выбрасывания жидкости в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения.
Фиг.3 - перспективный вид, схематично иллюстрирующий подложку, которую необходимо использовать для головки для выбрасывания жидкости в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения.
Фиг.4А - сечение, иллюстрирующее технологическую стадию производственного процесса головки для выбрасывания жидкости в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения.
Фиг.4B - сечение, иллюстрирующее технологическую стадию производственного процесса головки выбрасывания жидкости в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения.
Фиг.4С - сечение, иллюстрирующее технологическую стадию производственного процесса головки выбрасывания жидкости в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения.
Фиг.4D - сечение, иллюстрирующее технологическую стадию производственного процесса головки выбрасывания жидкости в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения.
Фиг.4E - сечение, иллюстрирующее технологическую стадию производственного процесса головки выбрасывания жидкости в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения.
Фиг.4F - сечение, иллюстрирующее технологическую стадию производственного процесса головки выбрасывания жидкости в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения.
Описание вариантов воплощения
Различные иллюстративные варианты воплощения, характерные особенности и аспекты изобретения будут более подробно описаны ниже со ссылкой на чертежи.
Негативная фоточувствительная полимерная композиция в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения имеет в своем составе:
(a) кислотно-полимеризуемое соединение; (b) по меньшей мере, один фотогенератор кислоты; и (c) агент солевого обмена, которым является соль, обладающая катионной частью, имеющей любую одну из четвертичную структуру аммония или четвертичную структуру фосфония, и анионной частью.
В дальнейшем в данном документе компоненты негативной фоточувствительной полимерной композиции в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения будут описаны подробно.
<(a) Катионно-полимеризуемое соединение>
Примеры кислотно-полимеризуемого соединения включают, но не ограничены, соединением, обладающим одной или двумя или более вступающими в реакцию функциональными группами, выбранными из группы, состоящей из эпоксидной группы, группы оксетана (oxetane), группы винилового эфира и группы пропенилового эфира.
Среди них предпочтительной является полифункциональное эпоксидное соединение, обладающее множеством эпоксидных групп в одной молекуле. Примеры полифункциональных эпоксидных смол включают полифункциональную алициклическую эпоксидную смолу, полифункциональную фенолноволачную эпоксидную смолу, полифункциональную орто-крезолноволачную эпоксидную смолу, полифункциональную трифенилноволачную эпоксидную смолу, полифункциональную бисфенол-А новолачную эпоксидную смолу и аналогичные. Среди них предпочтительно могут быть использованы полифункциональная бисфенол-А новолачная эпоксидная смола, полифункциональная алициклическая эпоксидная смола или полифункциональная фенолноволачная эпоксидная смола. Функциональность может быть предпочтительно (пента) пятифункциональной или более, и, например, “Epicoat 157S70” выпускаемая Japan Epoxy Resin Co., Ltd., “Epiclon N-865”, выпускаемая DIC Corporation и “EHPE 3150”, выпускаемая Daicel Chemical Industries Ltd, являются коммерчески доступными и могут быть использованы более предпочтительно.
Температура размягчения полифункциональной эпоксидной смолы может быть предпочтительно, но не ограничена, 50°-180°C, более предпочтительно 60°-160°C.
Содержание полифункциональной эпоксидной смолы может быть предпочтительно 40 масс.%-99,9 масс.%, более предпочтительно 45 масс.%-99,9 масс.%, дополнительно предпочтительно 50 масс.%-99,2 масс.%. При таком содержании существует возможность получить резистивный слой, имеющий соответствующую твердость при нанесении на (вспомогательный объект).
В качестве соединения, обладающего оксетановой группой, может быть использовано любое соединение, имеющее, по меньшей мере, одно оксетановое кольцо. Примеры соединения, обладающего оксетановой группой, включают бисфенол-А оксетановое соединение, бисфенол оксетановое соединение, бисфенол-S оксетановое соединение, ксилилен оксетановое соединение, фенолноволачное оксетановое соединение, крезолноволачное оксетановое соединение, алкилфенолноволачное оксетановое соединение, бифенол оксетановое соединение, биксиленол оксетановое соединение, нафталин оксетановое соединение, дициклопентадиен оксетановое соединение, оксетановое соединение, которое является продуктом конденсации фенола и ароматического альдегида, обладающего фенольной гидроксидной группой, и аналогичные.
Более конкретные примеры соединения, обладающего оксетановой группой, включают соединения, представленные следующей химической формулой:
[Хим. формула 1]
[Хим. формула 2]
где n является целым числом от 1 до 20.
Примеры соединения, которые включают группу винилового эфира (далее в данном документе, сокращенную до VE-ВЭ) включают монофункциональный ВЭ, обладающий 3 или более углеродными атомами (С3 или больше) и средней величиной молекулярного веса (Mn) 1000 или меньше, например, алкилВЭ (метилВЭ, этилВЭ, бутилВЭ, изобутилВЭ, циклогексилВЭ, 2-хлорэтилВЭ, 2-феноксиэтилВЭ, 2-гидроксиэтилВЭ 4-гидроксибутилВЭ, стеарилВЭ, 2-ацетоксиэтилВЭ, моноВЭ диэтиленгликоля, 2-этилгексилВЭ, додецилВЭ, октадецилВЭ и т.д.), алкениловый ВЭ (аллиловый ВЭ), ВЭ 2-метакрилоилоксиэтила, ВЭ 2-акроилоксиэтила и т.д.), ариловый ВЭ (фениловый ВЭ, ВЭ p-метоксифенила, и т.д.), полифункциональный ВЭ (С6 или более и Mn 1000 или меньше, например, ди-ВЭ 1,4 бутандиола, ди-ВЭ, триэтиленгликоля, ди-ВЭ 1,4-бензола, гидрохиноновый ди-ВЭ, ди-ВЭ циклогександиметанола, ди-ВЭ диэтиленгликоля, ди-ВЭ дипропилена, ди-ВЭ гександиола, и т.д.) и аналогичные.
Примеры соединения, обладающего группой пропиленового эфира (далее в данном документе сокращенной до PPE-ППЭ) включают полифункциональный ППЭ (С4 или более и Mn 1000 или менее, например, алкилППЭ (метиловый ППЭ, этиловый ППЭ, бутиловый ППЭ, изобутиловый ППЭ, циклогексиловый ППЭ, 2-хлорэтиловый ППЭ, 2-феноксиэтиловый ППЭ, 2-гидроксиэтиловый ППЭ, 4-гидроксибутиловый ППЭ, стеариловый ППЭ, 2-ацетоксиэтиловый ППЭ, диэтиленгликолевый моноППЭ, 2-этилгексиловый ППЭ, додециловый ППЭ, октадециловый ППЭ и т.д), алкениловый ППЭ (аллиловый ППЭ, 2-метакрилоилоксиэтиловый ППЭ, 2-акроилоксиэтиловый ППЭ и т.д.), арильные ППЭ (фениловый ППЭ, p-метоксифениловый ППЭ и т.д.), полифункциональные ППЭ (С6 или больше, Mn 1000 или меньше, например, 1,4-бутандиоловый ди-ППЭ, триэтиленгликолевый ди-ППЭ, 1,4-бензольный ди-ППЭ, гидрохиноновый ди-ППЭ, циклогександиметанольный ди-ППЭ, диэтиленгликолевый ди-ППЭ, дипропиленовый ди-ППЭ, гександиоловый ди-ППЭ и т.д.) и аналогичные.
<(b) Фотогенератор кислоты>
Компонентом (b) является вещество, которое разлагается воспринимаемым светом, для образования кислоты непосредственно или опосредовано. Поскольку фотогенератор кислоты обладает вышеупомянутым свойством, тип, структура и аналогичные этому особым образом не ограничиваются. Кислота, образованная из фотогенератора кислоты, обладает эффектом начала или ускорения реакции полимеризации. Дополнительно кислота включает катион.
Примеры фотогенератора кислоты компонента (b) включают соединение сульфоновой кислоты и другие производные сульфоновой кислоты, диазометановое соединение, соединение соли сульфония, соединение соли йодония (iodonium), сульфонимидное соединение, дисульфоновое соединение, нитробензольное соединение, бензоинтозилатное (бензоинтолуолсульфокислотное) соединение, ареновый комплекс железа, галогенсодержащее соединение триадина, производное соединение ацетофенона, содержащий цианогруппу сульфат оксим (oxime) и аналогичные. Любое одно из общеизвестных или традиционно используемых фотогенераторов кислоты может быть использовано в настоящем изобретении без особых ограничений.
Более предпочтительные примеры фотогенератора кислоты включают соединение соли сульфония и соединение соли йодония (iodonium). С точки зрения термостойкости соль моноарилсульфония, соль диарилсульфония и соль триарилсульфония, обладающая одной или более арильными группами у катионной части могут быть предпочтительно используемыми в качестве соединения соли сульфония. В качестве соединения соли йодония (iodonium) предпочтительно используемой может быть соль диарилйодония (iodonium).
Дополнительно предпочтительные примеры фотогенератора кислоты включают соль моноарилсульфония, соль диарилсульфония и соль триарилсульфония и соль диарилйодония с точки зрения образования кислоты, обладающей силой кислоты, которая является достаточной для отверждения эпоксидной смолы. В качестве силы кислоты достаточной для отверждения эпоксидной смолы сильная кислота, например, гексафторсурьмяная кислота или кислота более сильная, чем гексафторсурьмяная кислота являются предпочтительными среди кислот Льюиса (Lewis). “Сильная кислота, например, гексафторсурьмяная кислота или кислота более сильная, чем гексафторсурьмяная кислота” подразумевает кислоту, обладающую функцией кислотности Гаммета (Hammettte)-HO, которая равна или больше 18. Среди кислот Бренстеда (Brensted), предпочтительна сильная кислота, например, нонафторбутансульфоновая кислота или кислота более сильная, чем нонафторбутансульфоновая кислота. “Сильная кислота равная или более сильная, чем нонафторбутансульфоновая кислота” подразумевает кислоту, обладающую величиной PKa, которая равна или больше, чем -3,57. Далее в данном документе будут описаны конкретные примеры структуры анионной части соли сульфония и соли йодония (iodonium), которые будут источником образования сильной кислоты. Тем не менее, соединения являются не более чем примерами и настоящее изобретения не ограничено приведенными примерами соединений.
[Хим. формула 3]
[Хим. формула 4]
Среди приведенных выше примеров наиболее предпочтительные примеры структуры анионной части включают (b-1)-(b-14). Существует возможность получить отвержденный материал с высокой точностью формовки, используя структуру анионной части, которая является источником формирования сильной кислоты.
Описанные выше компоненты (b) могут быть использованы по отдельности или в комбинации из двух или более. Содержание компонента (b) может быть обычно от 0,01 до 20 масс.%, предпочтительно от 0,1 до 15 масс.%, более предпочтительно от 0,15 до 10 масс.%.
<(c) Агент солевого обмена>
Агентом солевого обмена является четвертичная соль аммония или четвертичная соль фосфония, которая способна создать вторую кислоту, обладающую силой кислоты меньшей, чем сила кислоты первой кислоты при обмене с анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты после того, как фотогенератор кислоты разлагается воспринимаемым светом. Тип, структура и аналогичные вышеупомянутого особым образом не ограничены, поскольку агент солевого обмена имеет описанное выше свойство. Существует возможность выбрать агент солевого обмена, сравнивая анионную часть фотогенератора кислоты (b) и анионную часть агента солевого обмена (с) и используя в качестве критерия силы кислот, полученных преобразованием анионных частей в кислоты. Более конкретно, соединение, удовлетворяющее Формуле <1> способно захватывать кислоту (первую кислоту), образованную из фотогенератора кислоты (b), и выбрасывать кислоту (вторую кислоту), имеющую меньшую силу кислоты, чем захваченная кислота, и использована в настоящем изобретении в качестве агента солевого обмена. “Анионная часть” означает звено, содержащее символ, выраженный посредством “-”, в качестве отрицательного заряда, а “превращение в кислоту” означает добавление H+ к анионной части. В Формуле <1> сила кислоты слева от знака > сильнее, и сила кислоты справа от знака > слабее.
Сила кислоты, когда анионная часть фотогенератора кислоты (b) преобразована в кислоту]>[силы кислоты, когда анионная часть агента солевого обмена преобразована в кислоту] <1>
Существует возможность использовать физические значения физической характеристики, обозначающей силу кислоты, например, функцию кислотности Гаммета (Hammette) и PKa, чтобы выразить силу кислоты. Подобным образом могут быть использованы действительные значения измерений. В качестве способа измерения, существует возможность в действительности определить силу кислоты, подвергая экспонированию фоточувствительные полимерные композиции, использующие фотогенератор кислоты, в котором катионные части являются одинаковыми, а анионные части изменяются, и сравнивая чувствительности. Вкратце фотогенератор кислоты, который является более чувствительным, имеет более высокую силу кислоты. Подробности способа измерения будут описаны в <Оценке>, описанной ниже в изобретении.
В качестве принципов химической реакции, относящихся к солевому обмену, показана наглядная схема в следующей Формуле <2>.
[Хим. формула 5]
M-/S+ представляет фотогенератор кислоты (b); E представляет процесс облучения световой энергией (мощностью света); M-/H+ представляет кислоту, образованную из фотогенератора кислоты (b) после экспонирования светом; и N-/A+ представляет агент солевого обмена. Здесь установлено соотношение [сила кислоты M-/H+]>[силы кислоты N-/H+]. Вкратце для удобства M-/H+ представляет сильную кислоту, а N-/H+ представляет слабую кислоту в Формуле <2>.
Звено, имеющее знак “-” представляет анионную часть, а звено, имеющее знак “+” представляет катионную часть. Вкратце фотогенератор кислоты (b) и агент солевого обмена (с) являются солями с противоположно заряженными ионами, в которых анионная часть и катионная часть в Формуле <2> составляют 1:1. В качестве конкретного примера: S+ является трифенилсульфонием; A+ является тетраалкиламмонием, M+ является (b-1), описанным выше, и N+ является пентафторантимонатом.
В формуле <2> кислота M-/H+, образованная из фотогенератора кислоты, преобразована в N-/H+, которая является более слабой кислотой, если кислота M-/H+ сталкивается с N-/A+, которая является агентом солевого обмена (с), в процессе сушки после экспонирования PEB (Post-Exposure Baking-сушки после экспонирования), которая является процессом выполнения формирования изображения с помощью диффузии образованной кислоты и тепловой обработки (последующей сушки) после проявления. Это химическое явление, называемое “солевым обменом”.
В случае нагревания негативного фоточувствительного полимерного отвержденного вещества при высокой температуре для придания высокой надежности с помощью обычных технологических процессов существовали проблемы недостаточной термостойкости, которые вызывают иногда модифицирование отвержденной пленки, что приводит к повреждению получающейся требуемой отвержденной пленки. Изобретатели настоящего изобретения обнаружили, что причиной повреждения является сочетание присутствия сильной кислоты и высокой температуры нагревания, чтобы убедиться, что существует возможность улучшить термостойкость отвержденной пленки преобразованием кислоты, образованной из генератора кислоты (b) в кислоту, обладающую более низкой силой кислоты, и стабильную соль с помощью агента солевого обмена. Устойчивая соль подразумевает M-/A+, которая является соединением соли, образованным после того как кислота, образованная из фотогенератора кислоты (b) захвачена агентом солевого обмена (c), и не модифицирует отвержденную пленку, поскольку она является стабильной (устойчивой) при высоких температурах.
В противоположность, для полимеризации желательно использовать кислоту, обладающую высокой силой кислоты, для того чтобы достичь высокой точности формовки. Таким образом, поскольку точность формовки и термостойкость имеют компромиссное соотношение, было трудно добиться обоих этих свойств. Тем не менее решение проблемы предоставлено посредством использования реакции солевого обмена настоящего изобретения.
В качестве агента солевого обмена (с) предпочтительной является следующая структурная Формула (1).
[Хим. формула 6]
A представляет атом азота или атом фосфора; R1-R4 представляют арильную группу, имеющую суммарно 6-30 атомов углерода, гетероциклическую группу, имеющую суммарно 4-30 атомов углерода, алкильную группу, имеющую суммарно 1-30 атомов углерода, алкенильную группу, имеющую суммарно 2-30 атомов углерода, и алкинильную группу, имеющую суммарно 2-30 атомов углерода, каждая из которых может быть замещена, по меньшей мере, одной группой, выбранной из группы, состоящей из алкильной группы, группы гидроксила, группы циклоалкила (циклоалкильной группы), группы алкенила, алкоксигруппы, группы алкилкарбонила, группы арилкарбонила, группы алкоксикарбонила, группы арилоксикарбонила, группы арилтиокарбонила, ацилоксигруппы, арилтиогруппы, алкилтиогруппы, арильной группы, группы, содержащей гетероатом в ароматическом кольце, арилоксигруппы, группы алкилсульфинила, группы арилсульфинила, группы алкилсульфонила, группы арилсульфонила, алкиленоксигруппы, аминогруппы, цианогруппы, нитрогруппы и галогеновой группы. Более конкретные примеры замещающих групп включают группу алкила, имеющую 1-6 атомов углерода (например, метиловую группу, этиловую группу, пропиловую группу, изопропиловую группу и бутиловую группу), группу гидроксила, группу циклоалкила, имеющую 3-6 атомов углерода (например, группу циклопропила, группу циклобутила, группу циклопентила и группу циклогексила), группу алкенила, имеющую 2-6 атомов углерода (например, виниловую группу, группу 1-пропенила, группу 2-пропенила и группу 2-бутенила), группу алкинила, имеющую 2-6 атомов углерода (например, группу ацетиленила, группу 1-пропинила, группу 2-пропинила и группу 2-бутинила), алкоксигруппу, имеющую 1-6 атомов углерода (например, метоксигруппу, этоксигруппу, n-пропоксигруппу, изопропоксигруппу, n-бутоксигруппу и третбутоксигруппу), группу алкилкарбонила, имеющую 2-6 атомов углерода, группу арилкарбонила, имеющую 7-11 атомов углерода группу алкоксикарбонила, имеющую 2-6 атомов углерода (например, метоксикарбонильную группу, этоксикарбонильную группу и третбутоксикарбонильную группу), группу арилоксикарбонила, имеющую 7-11 атомов углерода, группу арилтиокарбонила, имеющую 7-11 атомов углерода, ацилоксигруппу, имеющую 2-6 атомов углерода, арилтиогруппу, имеющую 2-6 атомов углерода (например, фенилтиогруппу и нафтилтиогруппу), алкилтиогруппу, имеющую 1-6 атомов углерода (например, метилтиогруппу, этилтиогруппу, n-пропилтиогруппу, изопропилтиогруппу, n-бутилтиогруппу и третбутилтиогруппу), группу арила, имеющую 6-14 атомов углерода (например, фенильную группу, группу нафтила и группу антраценила), группу, содержащую гетероатом в ароматическом кольце, имеющую 4-8 атомов углерода (например, фуриловую группу и тиениловую группу), арилоксигруппу, имеющую 6-10 атомов углерода (например, феноксигруппу и нафтоксигруппу), группу алкилсульфинила, имеющую 1-6 атомов углерода, группу арилсульфинила, имеющую 6-10 атомов углерода, группу алкилсульфонила, имеющую 1-6 атомов углерода, группу арилсульфонила, имеющую 6-10 атомов углерода, алкиленоксигруппу, имеющую 1-6 атомов углерода, аминогруппу, цианогруппу, нитрогруппу, галогеновую группу (например, атом хлора, атом брома, атом фтора) и аналогичные. R1-R4 могут быть одинаковыми или различными. Дополнительно, если A является атомом азота, то R1 и R4 могут сформировать двойную связь, чтобы сформировать R2-N+(=R6)-R3. Дополнительно два или более из R1-R4 и R6 могут сформировать кольцевую структуру, имеющую одно кольцо или множество колец, через атом углерода, атом кислорода, атом серы или атом азота. В случае формирования кольцевой структуры, она может иметь одну или более двойных связей и может быть гетероциклическим кольцом или ароматическим кольцом, содержащим атом азота.
X выбран из атома азота, атома фосфора, атома сурьмы, атома бора и атома кислорода. Если X является азотом: m+n составляет 2; n является целым числом, выбранным из 0 и 1; и Y выбран из -S(=O)2- алкиленовой фтористой группы,-O-CF2-, -C(=O)-CF2-, O-C(=O)-CF2-, -C(=O)-O-CF2- и одинарной связи. R5 представляет углеводородную группу, имеющую от 1 до 30 атомов углерода, которые могут быть замещены атомом фтора, и углеводородная группа имеет, по меньшей мере, один атом фтора, если n является 0, а Y выбран из -S(=O)2- или одинарной связи. Если X является атомом фосфора или атомом сурьмы: m+n составляет 6; n является целым числом, выбранным от 0 до 6; и Y выбран из -S(=O)2-, -O-CF2-, -C(=O)-CF2-, O-С(=O)-CF2-, -C(=O)-O-CF2-, -O- и одинарной связи. R5 представляет группу, выбранную из углеводородной группы, которая может быть замещена атомом фтора и имеет от 1 до 30 атомов углерода и атом водорода, и углеводородная группа имеет, по меньшей мере один атом фтора, если n является 0 и Y выбран из -S(=O)2-, -O- или одинарной связи. Если X является атомом бора: m+n составляет 4; n является целым числом, выбранным от 0 до 4; и Y выбран из -S(=O)2-, -O-CF2-, -C(=O)-CF2-, -O-C(=O)-CF2-, -С(=O)-O-CF2-, фениленовой группы, которая может быть замещена фтором, и одинарной связи. R5 представляет группу, выбранную из углеводородной группы, которая может быть замещена атомом фтора, и имеет от 1 до 30 атомов углерода, атома фтора и атома водорода, и углеводородная группа имеет, по меньшей мере, один атом фтора, если n является 0 и Y выбран из -S(=O)2- или одинарной связи. Если X является атомом кислорода: m составляет 1, n является целым числом 0; и Y выбран из -S(=O)2- и -C(=O)-. R5 представляет группу гидроксида, атом хлора или углеводородную группу, которая может быть замещена атомом фтора и имеет от 1 до 30 атомов углерода. Если X является атомом кислорода, R3 и R5 могут быть связаны через группу гидроксида или углеводородную группу, которая может быть замещена атомом хлора и имеет от 1 до 30 атомов углерода, для формирования внутримолекулярной соли.
Часть конкретных примеров соединений солевого обмена (c) приведена ниже. Однако эти соединения являются не более, чем примерами и не являются лимитирующими.
[Хим. формула 7]
[Хим. формула 8]
[Хим. формула 9]
Описанные выше компоненты (с) могут быть использованы по отдельности или в комбинации из двух или более.
Кислотой, которая выпущена (освобождена) из агента солевого обмена (с), и имеет более низкую силу кислоты, чем захваченная кислота предпочтительно может быть содержащая атом фтора сурьмяная кислота, содержащая атом фтора фосфорная кислота, содержащая атом фтора борная кислота, сульфоновая кислота, которая может содержать атом фтора, или карбоновая кислота среди кислот, полученных из анионной части Формулы <1>. Примеры сурьмяной кислоты, содержащей атом фтора, включают гексафторсурьмяную кислоту и фторсурьмяную кислоту, в которой от 1 до 5 гидроксильных групп замещены. Примеры фосфорной кислоты, содержащей атом фтора, включают гексафторфосфорную кислоту и фторфосфорную кислоту, в которой одна или две содержащие фтор алкильные группы замещены. Примеры борной кислоты, содержащей атом фтора, включают тетрафторборную кислоту. Примеры сульфоновой кислоты, которая может содержать атом фтора, или карбоновой кислоты, включают метилсульфоновую кислоту, фторуксусную кислоту, уксусную кислоту и аналогичные.
Содержание агента солевого обмена (c) может быть обычно 0,001 до 15 масс.%, предпочтительно 0,01 до 8 масс.%, более предпочтительно 0,05 до 7 масс.% в общем содержании сухого вещества.
Содержание агента солевого обмена (c) предпочтительно может удовлетворять соотношению “число молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, обладающую наивысшей силой кислоты, среди фотогенераторов кислоты (b)< числа молей агента солевого обмена (c) х4” без особых ограничений на это. Вкратце, содержание агента солевого обмена (c) может быть предпочтительно в ¼ раза больше числа молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, обладающую наивысшей силой кислоты. Что касается указанного выше числа молей, то агент солевого обмена (c) преобразует кислоту, генерированную фотогенератором кислоты (b), в достаточно слабую кислоту, и, следовательно, существует возможность улучшить термостойкость отвержденной пленки. Однако если валентность генерированной кислоты является множественной, то число молей фотогенератора кислоты равно числу молей, умноженному на валентность.
Дополнительно более предпочтительно может быть удовлетворено соотношение “число молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, обладающую наивысшей силой кислоты, среди фотогенераторов кислоты (b)< числа молей ×2 агента солевого обмена (c)”. Вкратце содержание агента солевого обмена (c) может быть предпочтительно в 1/2 раза больше числа молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, обладающую наивысшей силой кислоты. Дополнительно может быть особенно предпочтительно удовлетворено соотношение “число молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, обладающую наивысшей силой кислоты, среди фотогенераторов кислоты (b)< числа молей агента солевого обмена (c)”. Вкратце содержание агента солевого обмена (c) может быть особенно предпочтительно больше числа молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, обладающую наивысшей силой кислоты.
Дополнительно содержание агента солевого обмена (c) может быть предпочтительно в 20 раз меньше числа молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, обладающую наивысшей силой кислоты. С помощью поддержания содержания агента солевого обмена (с) в пределах указанного выше интервала, существует возможность легко предотвратить снижение чувствительности и ухудшение свойств покрытия.
С точки зрения термостойкости, точности формовки и чувствительности фотогенератор кислоты (b) и агент солевого обмена (c) могут быть использованы в соответствующем сочетании в пределах соотношения эквивалентности с описанной выше силой кислоты. Если особое значение придают термостойкости, то в качестве агента солевого обмена предпочтительно выбрать агент солевого обмена (c), создающий более слабую кислоту. В этом случае степень (процентность) слабой кислоты установлена для достижения предпочтительной области чувствительности. Если особое значение придают балансу между точностью формовки и термостойкостью, то предпочтительно выбрать в качестве фотогенератора кислоты (b) фотогенератор кислоты, образующий более сильную кислоту, а в качестве агента солевого обмена (c) - агент солевого обмена, образующий более слабую кислоту. В этом случае желательно выбрать агент солевого обмена (c) принимая во внимание ослабление более слабой кислоты для достижения предпочтительной области чувствительности. Дополнительно, если особое значение придается чувствительности, то предпочтительно выбрать в качестве фотогенератора кислоты (b) фотогенератор кислоты, образующий более сильную кислоту, и выбрать в качестве агента солевого обмена (с) агент солевого обмена, образующий более слабую кислоту. В этом случае желательно выбрать агент солевого обмена (с) с точки зрения силы более сильной кислоты для достижения предпочтительной области термостойкости.
Для негативной фоточувствительной полимерной композиции настоящего изобретения существует возможность получить отвержденное вещество, демонстрирующее хорошую точность формовки и термостойкость, имея в составе (а) кислотно-полимеризуемое соединение, (b) фотогенератор кислоты и (с) агент солевого обмена, а следующие добавки могут быть введены по требованию для улучшения различных свойств. Добавки являются не более, чем примерами и не ограничены следующими соединениями.
<(d) Аминосоединение>
Аминосоединение относится к щелочному соединению, содержащему атом азота, и демонстрирует основность, полученную из отдельной электронной пары атома азота. В виде действия аминосоединения, это соединение способно захватить кислоту, генерированную, например, из фотогенератора кислоты, и инактивировать кислотность. Следовательно, существует возможность улучшить четкость паттерна, управляя длиной диффузии кислоты в процессе диффузии кислоты под действием тепла, и существует возможность подавить изменение чувствительности в процессе хранения раствора фоточувствительной полимерной композиции инактивированием очень маленьким количеством кислоты, генерированной из фотогенератора кислоты в процессе темновой реакции при хранении.
В качестве аминосоединения предпочтительно аминосоединение, содержащее один или более атомов азота в различном химическом окружении без особенных ограничений к этому. В частности, соединение, содержащее, по меньшей мере, одну замещенную или незамещенную аминогруппу и, по меньшей мере, одну кольцевую структуру, содержащую атом азота, является предпочтительным и дополнительно предпочтительным является соединение, содержащее, по меньшей мере, одну алкиламиногруппу.
Примеры аминосоединения включают гуанидин, пиридин, пирролидин, индазол, имидазол, пиразол, пиразин, пиримидин, пурин, имидазолин, пиразолин, пиперидин, пиперидин, морфолин, и аналогичные. Эти соединения могут быть замещенными. Примеры замещенных групп включают аминогруппу, аминоалкильную группу, алкиламиногруппу, аминоарильную группу, ариламиногруппу, алкильную группу, алкоксигруппу, ацильную группу, аллилокси группу, арильную группу, арилокси-группу, нитро-группу, гидроксильную группу, циано-группу и аналогичные.
Другие примеры аминосоединения включают третичные амины, например, трифениламин, триэтаноламин, триизопропиламин, триизопропаноламин, N,N-диэтил-3-аминофенол, N-этилдиэтаноламин, и 2-диэтиламиноэтанол; вторичные амины, например, этаноламин, диизопропаноламин, и N-метилбензиламин; первичные амины, например, монометиловый; диамины, например, этилендиамин, соединения пиримидина и его производные, например, аминпиримидин, 2-аминопиримидин, 4-аминопиримидин и 5-аминопиримидин, соединения пиридина и его производные, например, пиридин, метилпиридин, 2,6-диметилпиридин; и аминофенолы и его производные, например, 2-аминофенол и 3-аминофенол.
Конкретные примеры предпочтительных аминосоединений включают гуанидин, пиридин, 1,1-диметилгуанидин, 1,1,3,3- тетраметилгуанидин, 2-аминопиридин, 3-аминопиридин, 4-аминопиридин, 2-диметиламинопиридин, 4-диметиламинопиридин, 2-диэтиламинопиридин, 2-(аминометил)пиридин, 2-амино-3-метилпиридин, 2-амино-4-метилпиридин, 2-амино-5-метилпиридин, 2-амино-6-метилпиридин, 3-аминоэтилпиридин, 4-аминоэтилпиридин, 3-аминопирролидин, 2-аминопирролидин, пиперазин, N-(2-аминоэтил)пиперазин, N-(2-аминоэтил)пиперидин, 4-амино-2,2,6,6-тетраметилпиперидин, 4-пиперидинопиперидин, 2-иминопиперидин, 1-(2-аминоэтил)пирролидин, пиразол, 3-амино-5-метилпиразол, 5-амино-3-метил-1-п-толилпиразол, пиразин, 2-(аминометил)-5-метилпиразин, пиримидин, 2,4-диаминопиримидин, 4,6-дигидроксипиримидин, 2-пиразолин, 3-пиразолин, N-аминоморфолин и N- (2-аминоэтил)морфолин.
Описанные выше аминосоединения могут быть использованы по отдельности или в сочетании из двух или более. Содержание аминосоединений обычно может составлять от 0,001 до 10 масс.%, предпочтительно от 0,005 до 5 масс.%, более предпочтительно от 0,01 до 4 масс.% в общем содержании сухого вещества.
<Фоточувствительное вещество>
Фоточувствительное вещество может быть использовано для получения высокой фоточувствительности. Если источник света экспонирования излучает i-линию, то предпочтительно использовать фоточувствительное вещество, образованное из производной нафталина или антрацена или его производного, каждый из которых способен улучшить фоточувствительность фотогенератора кислоты соли сульфония и фотогенератора кислоты соли йодония (iodonium). Однако поскольку фоточувствительное вещество может влиять на точность формовки, которая зависит от содержания и типа соединения, предпочтительно выбрать соответственно тип и количество.
<Растворитель>
Растворитель, который использован в настоящем изобретении, особым образом неограничен и могут быть использованы традиционные известные растворители. Примеры растворителей включают гамма-бутиролактон, этиллактат, пропиленкарбонат, ацетат пропиленгликольмонометилового эфира, метилизобутилкетон, бутилацетат, метиламилкетон, 2-гептанон, этилацетат, метилэтилкетон, диглим, ксилен, циклогексанон и аналогичные.
Растворитель может быть включен в количестве от 5 до 99 частей по массе, предпочтительно от 10 до 95 частей по массе на 100 частей по массе соединения, способного к полимеризации по кислотному типу.
<Способ получения>
Фиг.2 представляет перспективный вид, схематично иллюстрирующий пример головки для выбрасывания жидкости, сформированной с помощью использования негативной фоточувствительной полимерной композиции в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения. Примером головки для выбрасывания жидкости, показанной на Фиг.2, является струйная пишущая головка без особых ограничений этого. В струйной пишущей головке, показанной на Фиг.2, слой 4 формирования канала подачи краски, сформирован на подложке 1, обладающей множеством элементов 2 генерирования энергии, а выпускные каналы 5 краски и канал подачи краски 3с, который сообщается с выпускными каналами 5 краски, и удерживает краску, образованы на слое 4 формирования канала подачи краски. Дополнительно на подложке 1 предоставлено входное отверстие 6 краски, которое подает краску в канал подачи краски 3с.
Далее в данном документе будет описан способ получения головки выбрасывания жидкости в соответствии с примерным вариантом воплощения настоящего изобретения.
Ссылаясь на Фиг.3, множество элементов 2 генерирования энергии расположены на подложке 1 с предварительно установленным шагом. На Фиг. 4А-4F показаны стадии получения на видах в разрезе, взятых по линии А-В Фиг.2 или 3.
Далее в данном документе каждая стадия процесса будет описана со ссылкой на Фиг. 4А-4F. Управляющий входной сигнальный электрод (не показан) соединен с генерирующими энергию элементами 2, чтобы управлять элементами 2.
Ссылаясь на Фиг.4А, подготовлена подложка 1, обладающая генерирующими энергию элементами 2. Подложка 1 предпочтительно может быть Si подложкой. В частности, подложка 1 может быть предпочтительно монокристаллической кремниевой подложкой, а в случае выполнения перфорации сквозных отверстий в подложке 1 путем анизотропного травления, подложка 1 может быть предпочтительно монокристаллической кремниевой подложкой, имеющей кристаллическую ориентацию 100. В случае выполнения перфорации сквозных отверстий в подложке 1 с помощью сухого травления, пескоструйной обработки или используя лазер, может быть использована монокристаллическая кремниевая подложка, имеющая кристаллическую ориентацию 110 или аналогичная.
Элемент 2 генерирования энергии не ограничен особым образом, поскольку элемент 2 генерирования энергии способен передавать энергию выброса краске для выбрасывания капель краски и для выбрасывания капель краски из канала выбрасывания краски. Если, например, термостойкий элемент использован в качестве элемента 2 генерирования энергии, то энергию выброса генерируют, вызывая изменение состояния краски нагревом краски с помощью термостойкого элемента вблизи термостойкого элемента.
Ссылаясь на Фиг.4В, растворимая полимерная композиция нанесена на подложку 1, для формирования слоя 3а паттерна канала подачи краски. В качестве способа формирования слоя 3а паттерна канала подачи краски позитивный фоточувствительный полимер, например, растворен надлежащим образом в растворителе и затем нанесен на подложку 1 методом центрифугирования или аналогичным. После этого выполнено нагревание, чтобы сформировать слой 3а паттерна канала подачи краски. Толщина слоя 3а паттерна канала подачи краски может быть равна высоте требуемого канала подачи краски, и не ограничена особым образом. Например, толщина может быть предпочтительно от 2 до 50 мкм (микрометров).
Ссылаясь на Фиг.4С, паттерн 3b канала подачи краски сформирован облучением слоя 3а паттерна канала подачи краски с помощью источника излучения с последующим проявлением.
Далее слой 4 формирования канала подачи краски, образованный из негативной фоточувствительной полимерной композиции настоящего изобретения, сформирован на слое 3b паттерна канала подачи краски и подложке 1. Толщина слоя 4 формирования канала подачи краски может быть предпочтительно 2 мкм или больше, также как и толщина слоя 3b паттерна канала подачи краски. Дополнительно толщина слоя 4 формирования канала подачи краски может быть предпочтительно 100 мкм или меньше, также как и толщина паттерна 3b канала подачи краски, несмотря на то, что толщина не ограничена особым образом, поскольку толщина находится в пределах интервала, который не ухудшает способность к проявлению элемента выпускного канала краски.
Ссылаясь на Фиг.4D, слой 4 формирования канала подачи краски подвергнут воздействию облучения с последующим проявлением с использованием метилизобутилкетона (MIBK) или аналогичного. Дополнительно отверстия 5 выбрасывания краски сформированы выполнением технологической обработки промывкой изопропиловым спиртом (IPA).
Ссылаясь на Фиг.4E, входной канал краски 6 сформирован с помощью использования соответствующего способа, например, обработка травлением.
Как показано на Фиг.4F, паттерн 3b канала подачи краски удален растворением его в соответствующем растворителе. Соответствующим растворителем, используемым в этом документе, может быть раствор щелочи или органический растворитель. Дополнительно может быть выполнена термическая обработка при 200°C в течение одного часа с использованием печи для отверждения слоя 4 формирования канала подачи краски.
После этого подложка 1 разрезана и разделена с использованием станка для резки тонких дисков или аналогичного для получения чипов, и выполнено электрическое соединение для приведения в действие элементов 2 генерирования энергии. Дополнительно присоединен элемент резервуара чипа для подачи краски для получения струйной пишущей головки.
Описанный выше способ не ограничен способом получения струйной пишущей головки и является эффективным в качестве способа формирования паттерна для формирования глубокого (рельефного) изображения.
Дополнительно, несмотря на то, что струйная пишущая головка использована в виде примера, к которому обращено настоящее изобретение в дальнейшем описании, применяемый интервал настоящего изобретения не ограничен струйной пишущей головкой и настоящее изобретение применимо к изготовлению биочипа (биокристалла) и получению головки выбрасывания жидкости для электронных печатных схем. Примеры головки выбрасывания жидкости включают головку для получения цветного фильтра в добавление к струйной пишущей головке.
Далее в данном документе будут описаны примеры настоящего изобретения, но изобретение не ограничено этими примерами.
<Примеры с 1 по 9, Сравнительные примеры с 1 по 3>
В соответствии с составами (единицей измерения является масс.%), показанными в Таблицах 1-4 полифункциональные эпоксидные смолы в качестве компонента (а), фотогенераторы кислоты в качестве компонента (b), компоненты (с), растворитель, фоточувствительное вещество, по требованию, и компонент (d) смешивают для получения негативных фоточувствительных полимерных композиций. В Таблицах 1-4 единица измерения масс.% является содержанием сухого вещества (100% как общее содержание сухого вещества), а в качестве растворителя было добавлено 70 частей по массе смешанного растворителя, имеющего отношение ацетата пропиленгликольмонометилового эфира/пропиленкарбонату=20:1.
После нанесения посредством центрифугирования каждой из негативных фоточувствительных композиций на вспомогательный объект, выполненное из кремниевой пластины, было выполнено предварительное отверждение просушиванием при 90°C в течение 5 минут, тем самым получая слой негативной фоточувствительной полимерной композиции, имеющий толщину пленки 20 мкм. После предварительного отверждения было выполнено экспонирование паттерна через фотошаблон, на котором требуемый паттерн прорисован с использованием PPA-300 i5+ (повторителем i-линии, изготовленным Canon Inc.), и было проведено отверждение после экспонирования с использованием нагревательной плиты при 90°C в течение 4 минут. После этого было выполнено проявление с использованием CDS-630+ (изготовленного Canon Inc.). Затем резистивный паттерн после проявления было подвергнут последующему отверждению при 140°C в течение одного часа и при 300°C в течение 20 минут с использованием печи, тем самым получая резистивный паттерн, отвержденный на вспомогательном объекте.
<Анализ, оценка>
Будет описан способ оценки сил кислоты, полученной путем преобразования анионной части фотогенератора кислоты (b) и анионной части агента солевого обмена (с) в кислоты с использованием фактических значений.
Негативная фоточувствительная полимерная композиция была приготовлена смешиванием 65 масс.% EHPE в качестве соединения (а), 2 масс.% фотогенератора кислоты, показанной в Таблице 5 как компонент (b), 35 масс.% смешанного растворителя, имеющего отношение ацетата пропиленгликольмонометилового эфира/пропиленкарбонату=20:1 в качестве растворителя, 1 масс.% 9,10-диэтоксиантрацена в качестве фоточувствительного вещества и 0,02 масс.% триэтаноламина в качестве компонента (d), а резистивный паттерн был получен описанным выше способом. В процессе экспонирования было выполнено ступенчатое экспонирование i-линией в интервале 500 Дж/м2-40000 Дж/м2, и была измерена величина экспозиции, требуемая для формирования круглого паттерна, имеющего диаметр 16 мкм, для сопла с круглым выпускным отверстием, имеющим в качестве расчетного размера на фотошаблоне внутренний диаметр 16 мкм. Определенная величина экспозиции проиллюстрирована в единицах величины экспозиции в Таблице 5. Величины экспозиции были перечислены в возрастающем порядке, чтобы показать порядок ранжирования. Порядок ранжирования показан в Таблице 5 в порядке ранжирования силы кислоты. Это означает, что чем меньше величина экспозиции, т.е. чем выше чувствительность, тем выше сила кислоты, образованной из фотогенератора кислоты (b). В результате сравнения сил кислот, основанного на полученных результатах, определенных преобразованием анионных частей в кислоты, было показано, что существует соотношение (b-1)>(b-12)>(b-23)>(b-27)>PF6>CH3COO. Это соотношение применимо также для оценки анионных частей агентов солевого обмена (с), как и для оценки анионных частей веществ фотокислоты (b).
Для оценки точности формовки в просверленном отверстии овального выпускного отверстия сопла, имеющего главную ось 20 мкм и малую ось 16 мкм в качестве расчетных размеров, образец для сравнения, который был соединен линией изображения (с), имеющей ширину 3 мкм вдоль малой оси, был преобразован для формирования негативного резистивного паттерна (см. Фиг.1). Ту часть, в которой овал (эллипс) и линии перемычки изображения пересекают друг друга наблюдали с использованием сканирующего электронного микроскопа (SEM) для измерения разрешающей способности. Как показано на Фиг.1, если концевая часть элемента серповидной формы, в случае формирования резистивного паттерна точно совпадающего с паттерном фотошаблона составляет “a”, то расстояние (b) от “a” до той части, у которой линия перемычки паттерна и действительный разрешенный паттерн пересекают друг друга, является точностью формовки (единицами является микрометр). Соответственно точность формовки составляет 0 мкм, т.е. паттерн идентичен чертежному размеру фотошаблона, когда действительный паттерн различается до концевой части (a) элемента серповидной формы. Однако если точность формовки нарушена, негативное вещество остается у концевой части элемента серповидной формы. Значение точности формовки определяется степенью распространения негативного вещества.
Для оценки термостойкости последующее отверждение было выполнено при 140°C в течение одного часа, а затем при 300°C в течение 20 минут в печи, а окрашивание подтверждали визуальной оценкой резистивного паттерна, отвержденного на вспомогательном объекте. Если окрашивания обнаружено не было, то было определено, что достигнута хорошая термостойкость. Случай коричневого, темно-коричневого или черного окрашивания был определен как ухудшающий термостойкость. В Таблицах 1-4 хорошая термостойкость указана круглым знаком
, а ухудшение термостойкости указано знаком x.
(а-1): Epiclon N-865 (изготовленный DIC Corporation,
фирменное название)
(а-2): JER157S70 (изготовленный Japan Ероху Resin Co., Ltd., фирменное название)
(а-3):ЕРНЕ 3150 (изготовленный Daicel Chemical Industries., Ltd, фирменное название)
TPS1: соединение, выраженное формулой (Е1)
[Хим. формула 10]
TPS2: соединение, выраженное формулой (Е2)
[Хим. формула 11]
(с-80)
[Хим. формула 12]
(d-1): Триэтаноламин
Фоточувствительное вещество: 9,10-диэтоксиантрацен
Таблица 5 | |||
Номер | (b) Фотогенератор кислоты | Величина экспозиции | Порядок ранжирования силы кислоты |
1 | TPS1/(b-l) | 1000 | 1 |
2 | TPS1/(b-12) | 2000 | 2 |
3 | TPS1/(b-23) | 3500 | 3 |
4 | TPS1/(b-27) | 10000 | 4 |
5 | TPS1/PFg | 30000 | 5 |
6 | TPS1/CH3COO-) | >40000 | 6 |
TPS1:Трифенилсульфоний (соединение, выраженное следующей формулой)
[Хим. формула 13]
Примеры 1-9 были способны создать сформированные по паттерну отвержденные материалы, обладающие хорошей термостойкостью. Точность формовки был 1,5 мкм или меньше, которая была бесконечно малой.
В противоположность как показано в Сравнительном Примере 1, было невозможно достичь и термостойкости у и бесконечно малой точности формовки, если компонент (b) и компонент (с) не удовлетворяют соотношению Формулы (1).
Дополнительно, как показано в Сравнительном Примере 2, наблюдали ухудшение термостойкости, если не был введен компонент (с).
Дополнительно таким же образом были проведены оценки при добавлении вместо агента солевого обмена (с) трехокиси сурьмы, красного фосфора и окиси олова, которые известны в качестве огнезащитного состава. Однако поскольку эти неорганические соединения не растворили в растворителе и растворе фоточувствительной полимерной композиции, фактическая оценка не была доведена до конца.
Дополнительно для проведения анализа был приготовлен состав таким же образом, как и в Примере 1 за исключением добавления в таком же количестве вместо агента солевого обмена (с) триметилгидроксида аммония, который известен в качестве соединения аммония. Однако никакого паттерна не было сформировано. Это означает, что сильная основность триметилгидроксида аммония ингибирует формирование изображения.
Как описано в вышеизложенном, негативная фоточувствительная полимерная композиция в соответствии с примерными вариантами воплощения изобретения делает возможным формирование паттерна, обладающего высокой термостойкостью и отличной точностью формовки. В результате негативная фоточувствительная полимерная композиция в соответствии с примерными вариантами воплощения может быть соответствующим образом использована для различных устройств, на которых выполнена микрообработка для MEMS, и аналогичного.
Несмотря на то что настоящее изобретение описано со ссылкой на показательные варианты воплощения, следует понимать, что изобретение не ограничено раскрытыми примерными вариантами воплощения. Объем следующей формулы изобретения должен быть согласован с самым широким ее толкованием с тем, чтобы охватить все модификации, эквивалентные структуры и действия (функции).
Настоящая Заявка испрашивает преимущество раскрытия Японской Заявки на патент JP 2010-024682, поданной 5 февраля 2010 г., которая полностью включена в описание в виде ссылки.
Claims (13)
1. Фоточувствительная композиция смолы, включающая:
катионно-полимеризуемое соединение, представляющее собой эпоксидную смолу;
фотогенератор кислоты, имеющий анионную часть и катионную часть, содержащий по меньшей мере одно соединение сульфоновой кислоты и другие производные сульфоновой кислоты, диазометановое соединение, соединение соли сульфония, соединение соли йодония, сульфонимидное соединение, дисульфоновое соединение, нитробензольное соединение, бензоинтозилатное соединение, ареновый комплекс железа, галогенсодержащее соединение триадина, производное соединение ацетофена, и содержащий цианогруппу сульфатоксим; и
соль, имеющую катионную часть, обладающую любой одной из четвертичной структуры аммония или четвертичной структуры фосфония, и анионную часть,
где анионная часть соли замещается анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты, для формирования второй кислоты, обладающей силой кислоты, меньшей, чем сила кислоты первой кислоты.
катионно-полимеризуемое соединение, представляющее собой эпоксидную смолу;
фотогенератор кислоты, имеющий анионную часть и катионную часть, содержащий по меньшей мере одно соединение сульфоновой кислоты и другие производные сульфоновой кислоты, диазометановое соединение, соединение соли сульфония, соединение соли йодония, сульфонимидное соединение, дисульфоновое соединение, нитробензольное соединение, бензоинтозилатное соединение, ареновый комплекс железа, галогенсодержащее соединение триадина, производное соединение ацетофена, и содержащий цианогруппу сульфатоксим; и
соль, имеющую катионную часть, обладающую любой одной из четвертичной структуры аммония или четвертичной структуры фосфония, и анионную часть,
где анионная часть соли замещается анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты, для формирования второй кислоты, обладающей силой кислоты, меньшей, чем сила кислоты первой кислоты.
2. Фоточувствительная полимерная композиция по п.1, где вторая кислота, созданная солью, является содержащей атом фтора сурьмяной кислотой, содержащей атом фтора фосфорной кислотой, содержащей атом фтора борной кислоты, содержащей атом фтора сульфоновой кислоты или карбоновой кислоты.
3. Фоточувствительная полимерная композиция по п.1, где фотогенератор кислоты включает множество видов соединений, а число молей соли в 1/4 раз больше, чем число молей фотогенератора кислоты, имеющего наивысшую силу кислоты из множества видов соединений.
4. Фоточувствительная полимерная композиция по п.1, где фотогенератор кислоты включает множество видов соединений, а число молей соли в 1/2 раз больше, чем число молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, имеющую наивысшую силу кислоты из множества видов соединений.
5. Фоточувствительная полимерная композиция по п.1, где фотогенератор кислоты включает множество видов соединений, а число молей соли больше, чем число молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, имеющую наивысшую силу кислоты из множества видов соединений.
6. Фоточувствительная полимерная композиция по п.1, дополнительно включающая аминосоединение.
7. Фоточувствительная полимерная композиция по п.1, где вторая кислота является содержащей атом фтора сурьмяной кислотой, содержащей атом фтора фосфорной кислоты или содержащей атом фтора борной кислоты.
8. Способ формирования паттерна, включающий:
подготовку подложки, на которой предоставлена фоточувствительная полимерная композиция, которая включает катионно-полимеризуемое соединение, представляющее собой эпоксидную смолу; фотогенератор кислоты, обладающий анионной частью и катионной частью, содержащий по меньшей мере одно соединение сульфоновой кислоты и другие производные сульфоновой кислоты, диазометановое соединение, соединение соли сульфония, соединение соли йодония, сульфонимидное соединение, дисульфоновое соединение, нитробензольное соединение, бензоинтозилатное соединение, ареновый комплекс железа, галогенсодержащее соединение триадина, производное соединение ацетофена и содержащий цианогруппу сульфатоксим; и соль, имеющую катионную часть, обладающую любой одной из четвертичной структуры аммония или четвертичной структуры фосфония, и анионную часть, где анионная часть соли замещается анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты для формирования второй кислоты, обладающей силой кислоты, которая меньше, чем сила кислоты первой кислоты;
экспонирование участка фоточувствительной полимерной композиции светом для отверждения экспонированной части и
нагревание отвержденной части, полученной отверждением.
подготовку подложки, на которой предоставлена фоточувствительная полимерная композиция, которая включает катионно-полимеризуемое соединение, представляющее собой эпоксидную смолу; фотогенератор кислоты, обладающий анионной частью и катионной частью, содержащий по меньшей мере одно соединение сульфоновой кислоты и другие производные сульфоновой кислоты, диазометановое соединение, соединение соли сульфония, соединение соли йодония, сульфонимидное соединение, дисульфоновое соединение, нитробензольное соединение, бензоинтозилатное соединение, ареновый комплекс железа, галогенсодержащее соединение триадина, производное соединение ацетофена и содержащий цианогруппу сульфатоксим; и соль, имеющую катионную часть, обладающую любой одной из четвертичной структуры аммония или четвертичной структуры фосфония, и анионную часть, где анионная часть соли замещается анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты для формирования второй кислоты, обладающей силой кислоты, которая меньше, чем сила кислоты первой кислоты;
экспонирование участка фоточувствительной полимерной композиции светом для отверждения экспонированной части и
нагревание отвержденной части, полученной отверждением.
9. Способ формирования паттерна по п.8, где вторая кислота, сформированная солью, является содержащей атом фтора сурьмяной кислоты, содержащей атом фтора фосфорной кислоты, содержащей атом фтора борной кислоты, содержащей атом фтора сульфоновой кислоты или карбоновой кислоты.
10. Способ формирования паттерна по п.8, где фотогенератор кислоты включает множество видов соединений, а число молей соли в 1/4 раз больше, чем число молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, обладающую наивысшей силой кислоты из множества видов соединений.
11. Головка для выбрасывания жидкости, включающая:
часть с выпускным каналом, снабженную выпускным каналом для выбрасывания жидкости,
где часть с выпускным каналом сформирована из отвержденного материала полимерной композиции, включающей катионно-полимеризуемое соединение, представляющее собой эпоксидную смолу; фотогенератор кислоты, обладающий анионной частью и катионной частью, содержащий по меньшей мере одно соединение сульфоновой кислоты и другие производные сульфоновой кислоты, диазометановое соединение, соединение соли сульфония, соединение соли йодония, сульфонимидное соединение, дисульфоновое соединение, нитробензольное соединение, бензоинтозилатное соединение, ареновый комплекс железа, галогенсодержащее соединение триадина, производное соединение ацетофена и содержащий цианогруппу сульфатоксим; и соль, имеющую катионную часть, обладающую любой одной из четвертичной структуры аммония или четвертичной структуры фосфония, и анионную часть, где анионная часть соли замещается анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты, для формирования второй кислоты, обладающей силой кислоты, которая меньше, чем сила кислоты первой кислоты.
часть с выпускным каналом, снабженную выпускным каналом для выбрасывания жидкости,
где часть с выпускным каналом сформирована из отвержденного материала полимерной композиции, включающей катионно-полимеризуемое соединение, представляющее собой эпоксидную смолу; фотогенератор кислоты, обладающий анионной частью и катионной частью, содержащий по меньшей мере одно соединение сульфоновой кислоты и другие производные сульфоновой кислоты, диазометановое соединение, соединение соли сульфония, соединение соли йодония, сульфонимидное соединение, дисульфоновое соединение, нитробензольное соединение, бензоинтозилатное соединение, ареновый комплекс железа, галогенсодержащее соединение триадина, производное соединение ацетофена и содержащий цианогруппу сульфатоксим; и соль, имеющую катионную часть, обладающую любой одной из четвертичной структуры аммония или четвертичной структуры фосфония, и анионную часть, где анионная часть соли замещается анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты, для формирования второй кислоты, обладающей силой кислоты, которая меньше, чем сила кислоты первой кислоты.
12. Головка для выбрасывания жидкости по п.11, где второй кислотой, образованной солью, является содержащая атом фтора сурьмяная кислота, содержащая атом фтора фосфорная кислота, содержащая атом фтора борная кислотой, содержащая атом фтора сульфоновая кислота или карбоновая кислота.
13. Головка для выбрасывания жидкости по п.12, в которой фотогенератор кислоты включает множество видов соединений, а число молей соли в 1/4 раз больше, чем число молей фотогенератора кислоты, образующего кислоту, обладающую наивысшей силой кислоты из множества видов соединений.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010024682 | 2010-02-05 | ||
JP2010-024682 | 2010-02-05 | ||
PCT/JP2011/052204 WO2011096458A1 (en) | 2010-02-05 | 2011-01-27 | Negative photosensitive resin composition, pattern formation method, and liquid discharge head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2495468C1 true RU2495468C1 (ru) | 2013-10-10 |
Family
ID=44355451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012137723/04A RU2495468C1 (ru) | 2010-02-05 | 2011-01-27 | Негативная фоточувствительная полимерная композиция, способ формирования паттерна и головка для выбрасывания жидкости |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9061499B2 (ru) |
EP (1) | EP2531891B1 (ru) |
JP (1) | JP5709561B2 (ru) |
CN (1) | CN102741749B (ru) |
RU (1) | RU2495468C1 (ru) |
WO (1) | WO2011096458A1 (ru) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5787720B2 (ja) * | 2010-12-16 | 2015-09-30 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物 |
JP6120574B2 (ja) * | 2012-01-31 | 2017-04-26 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物、微細構造体、微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッド |
US10527934B2 (en) * | 2012-10-31 | 2020-01-07 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoresists comprising ionic compound |
JP6071718B2 (ja) * | 2013-04-10 | 2017-02-01 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物 |
US9834791B2 (en) | 2013-11-07 | 2017-12-05 | Editas Medicine, Inc. | CRISPR-related methods and compositions with governing gRNAS |
WO2017094584A1 (ja) * | 2015-12-02 | 2017-06-08 | 株式会社スリーボンド | カチオン硬化性樹脂組成物 |
EP4081862A1 (en) * | 2019-12-23 | 2022-11-02 | Illumina, Inc. | Resin composition and flow cells incorporating the same |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2180669C2 (ru) * | 1996-07-12 | 2002-03-20 | Циба Спешиалти Кемикалз Холдинг Инк. | Способ отверждения составов с помощью катионной фотополимеризации |
JP2007034153A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感エネルギー線重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 |
JP2008173971A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-31 | Canon Inc | 光カチオン重合性エポキシ樹脂組成物、液体吐出ヘッド、およびその製造方法 |
JP2009258506A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Fujifilm Corp | ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
RU2373067C1 (ru) * | 2007-09-06 | 2009-11-20 | Кэнон Кабусики Кайся | Головка для выброса жидкости и способ изготовления подложки головки для выброса жидкости |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1526923A (en) | 1974-09-18 | 1978-10-04 | Ici Ltd | Photopolymerisable compositions |
IE42085B1 (en) | 1974-09-18 | 1980-06-04 | Ici Ltd | Photopolymerisable compositions |
JPH0412859A (ja) | 1990-04-28 | 1992-01-17 | Canon Inc | 液体噴射方法、該方法を用いた記録ヘッド及び該方法を用いた記録装置 |
EP0454155B1 (en) | 1990-04-27 | 1995-07-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Recording method and apparatus |
US5639802A (en) | 1991-05-20 | 1997-06-17 | Spectra Group Limited, Inc. | Cationic polymerization |
JPH07145346A (ja) | 1993-11-22 | 1995-06-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | ソルダーレジストインキ用樹脂組成物 |
JPH08157510A (ja) | 1994-12-09 | 1996-06-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
JPH0925393A (ja) | 1995-05-09 | 1997-01-28 | Toray Ind Inc | 繊維強化複合材料用エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよび繊維強化複合材料 |
JPH0912615A (ja) | 1995-06-29 | 1997-01-14 | Nippon Kayaku Co Ltd | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
CN1195356A (zh) | 1996-06-12 | 1998-10-07 | 日本化药株式会社 | 光聚合引发剂和包含它的可能量射线固化的组合物 |
JPH107680A (ja) | 1996-06-18 | 1998-01-13 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
JPH10152554A (ja) | 1996-11-21 | 1998-06-09 | Nippon Kayaku Co Ltd | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
JPH10212286A (ja) | 1997-01-30 | 1998-08-11 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
JPH11322900A (ja) | 1998-03-19 | 1999-11-26 | Nippon Soda Co Ltd | 光硬化性組成物および硬化方法 |
JP4385437B2 (ja) | 1999-05-10 | 2009-12-16 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびそれを用いたカラーフィルタ |
EP1295180B1 (en) | 2000-06-15 | 2013-05-22 | 3M Innovative Properties Company | Process for producing microfluidic articles |
JP3880912B2 (ja) | 2002-10-10 | 2007-02-14 | ジャパンエポキシレジン株式会社 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
KR101197539B1 (ko) | 2003-11-04 | 2012-11-12 | 헨켈 아게 운트 코. 카게아아 | 술포늄염 광개시제 및 그의 용도 |
JP4569759B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2010-10-27 | 日産化学工業株式会社 | 染料含有レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター |
JP4593309B2 (ja) * | 2005-01-21 | 2010-12-08 | 東京応化工業株式会社 | 精密微細空間の天板部形成方法 |
JP2006241384A (ja) | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版及びその製造方法 |
KR100753542B1 (ko) * | 2006-04-19 | 2007-08-30 | 삼성전자주식회사 | 수지 조성물, 이를 이용한 패턴 형성 방법 및 커패시터형성 방법 |
JP4355725B2 (ja) * | 2006-12-25 | 2009-11-04 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4564977B2 (ja) | 2007-04-05 | 2010-10-20 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、積層体、及びデバイス |
JP5039442B2 (ja) | 2007-06-15 | 2012-10-03 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びパターン形成方法 |
JP4998112B2 (ja) | 2007-06-27 | 2012-08-15 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型ポジ型レジスト組成物 |
JP2010276623A (ja) | 2008-03-26 | 2010-12-09 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 立体基板上に透明樹脂構造体を形成させる方法 |
JP2009244779A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 |
JP5208573B2 (ja) | 2008-05-06 | 2013-06-12 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物及びこの硬化体 |
JP5247396B2 (ja) * | 2008-07-02 | 2013-07-24 | 日本化薬株式会社 | Mems用感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
KR101475573B1 (ko) | 2009-06-08 | 2014-12-22 | 산요가세이고교 가부시키가이샤 | 감광성 조성물 |
-
2011
- 2011-01-27 RU RU2012137723/04A patent/RU2495468C1/ru active
- 2011-01-27 CN CN201180008290.9A patent/CN102741749B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-01-27 WO PCT/JP2011/052204 patent/WO2011096458A1/en active Application Filing
- 2011-01-27 US US13/576,906 patent/US9061499B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-01-27 EP EP11739806.5A patent/EP2531891B1/en active Active
- 2011-02-03 JP JP2011021766A patent/JP5709561B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2180669C2 (ru) * | 1996-07-12 | 2002-03-20 | Циба Спешиалти Кемикалз Холдинг Инк. | Способ отверждения составов с помощью катионной фотополимеризации |
JP2007034153A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感エネルギー線重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 |
JP2008173971A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-31 | Canon Inc | 光カチオン重合性エポキシ樹脂組成物、液体吐出ヘッド、およびその製造方法 |
RU2373067C1 (ru) * | 2007-09-06 | 2009-11-20 | Кэнон Кабусики Кайся | Головка для выброса жидкости и способ изготовления подложки головки для выброса жидкости |
JP2009258506A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Fujifilm Corp | ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011180585A (ja) | 2011-09-15 |
EP2531891B1 (en) | 2020-04-15 |
WO2011096458A1 (en) | 2011-08-11 |
US20120306961A1 (en) | 2012-12-06 |
CN102741749A (zh) | 2012-10-17 |
US9061499B2 (en) | 2015-06-23 |
CN102741749B (zh) | 2014-10-08 |
EP2531891A4 (en) | 2013-10-23 |
EP2531891A1 (en) | 2012-12-12 |
JP5709561B2 (ja) | 2015-04-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2495468C1 (ru) | Негативная фоточувствительная полимерная композиция, способ формирования паттерна и головка для выбрасывания жидкости | |
JP5822477B2 (ja) | 液体吐出装置、及びその製造方法 | |
US8944580B2 (en) | Photosensitive resin composition, method for manufacturing structural body, and liquid discharge head | |
JP5247138B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP4593309B2 (ja) | 精密微細空間の天板部形成方法 | |
US8109608B2 (en) | Micro-fluid ejection head and stress relieved orifice plate therefor | |
JP5787720B2 (ja) | 感光性ネガ型樹脂組成物 | |
KR20070030298A (ko) | 잉크 제트 헤드 제조 방법 그리고 이 제조 방법에 의해제조된 잉크 제트 헤드 | |
US9707757B2 (en) | Photosensitive negative resin composition | |
US9268222B2 (en) | Photosensitive negative resin composition, fine structure, production process of fine structure and liquid ejection head | |
US20080213596A1 (en) | Photosensitive Laminate Film for Forming Top Plate Portion of Precision Fine Space and Method of Forming Precision Fine Space | |
US20200209742A1 (en) | Method of producing microstructure and method of producing liquid ejection head | |
JP2007196436A (ja) | インクジェット記録ヘッド |