JP2008539594A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 基板の縁部を洗浄する装置であって、
   基板をサポートおよび回転させるように適合された基板サポートと、
   前記基板サポートによってサポートされる基板の縁部に接触して、かつ前記基板サポートが前記基板を１つ以上のローラに対して回転させると前記基板の前記縁部を洗浄するように位置決めされた１つ以上のローラと、
   を備える装置。
2. 前記基板サポートが、前記基板を保持するように適合された真空チャックまたは静電チャックを備える、請求項１に記載の装置。
3. 前記１つ以上のローラが同一直径を有する、請求項１に記載の装置。
4. 前記基板サポートおよび前記１つ以上のローラが同一方向に回転するように適合されている、請求項１に記載の装置。
5. 前記基板サポートおよび前記１つ以上のローラが反対方向に回転するように適合されている、請求項１に記載の装置。
6. 前記ローラのうちの少なくとも１つが、前記基板の上部ベベルおよび底部ベベルを洗浄するために移動するように適合されている、請求項１に記載の装置。
7. 前記ローラのうちの少なくとも１つが前記基板の主要表面に対して角度付けされている、請求項１に記載の装置。
8. 請求項１に記載の前記縁部洗浄装置と、
   基板リンス装置と、
   前記縁部洗浄装置と前記基板リンス装置の間に基板を移送するように適合された基板移送デバイスと、
   を有するハウジングを備える集積基板洗浄システム。
9. 基板の縁部を洗浄する装置であって、
   基板の縁部に接触して、かつ前記基板を回転させるように適合された第１の直径の１つ以上のローラと、
   前記基板の前記縁部に接触して、かつ前記基板の前記縁部を洗浄するように適合された前記第１の直径よりも大きな第２の直径の１つ以上のローラと、
   を備える装置。
10. 前記第１の直径の前記１つ以上のローラおよび前記第２の直径の前記１つ以上のローラが、実質的に同一スピードで回転するように適合されている、請求項９に記載の装置。
11. 前記第１の直径の前記１つ以上のローラおよび前記第２の直径の前記１つ以上のローラが反対方向に回転するように適合されている、請求項９に記載の装置。
12. 請求項９に記載の前記縁部洗浄装置と、
    基板リンス装置と、
    前記縁部洗浄装置と前記基板リンス装置の間に基板を移送するように適合された基板移送デバイスと、
    を有するハウジングを備える集積基板洗浄システム。
13. 基板の縁部を洗浄するための方法であって、
    回転可能な基板サポート上に基板をサポートするステップと、
    前記基板の縁部を１つ以上のローラに接触させるステップと、
    前記基板を回転させるために前記基板サポートを回転させるステップと、
    前記基板の前記縁部を洗浄するために前記１つ以上のローラを回転させるステップと、
    を備える方法。
14. 基板の縁部を洗浄するための方法であって、
    基板を回転させるために第１の直径の１つ以上のローラを用いるステップと、
    前記基板の縁部を、前記第１の直径よりも大きな第２の直径の１つ以上のローラに接触させるステップと、
    前記第２の直径の前記１つ以上のローラを使用して前記基板の前記縁部を洗浄するステップと、
    を備える方法。
15. 前記第１の直径の前記１つ以上のローラおよび前記第２の直径の前記１つ以上のローラを実質的に同一スピードで回転させるステップをさらに備える、請求項１４に記載の方法。