JP2008525801A - 2面測定用の重複する共通光路干渉計 - Google Patents
2面測定用の重複する共通光路干渉計 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008525801A JP2008525801A JP2007548326A JP2007548326A JP2008525801A JP 2008525801 A JP2008525801 A JP 2008525801A JP 2007548326 A JP2007548326 A JP 2007548326A JP 2007548326 A JP2007548326 A JP 2007548326A JP 2008525801 A JP2008525801 A JP 2008525801A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reference surface
- test
- measurement
- interferometer
- optical path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/2441—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures using interferometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
- G01B11/306—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces for measuring evenness
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02017—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations
- G01B9/02021—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations contacting different faces of object, e.g. opposite faces
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02027—Two or more interferometric channels or interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02027—Two or more interferometric channels or interferometers
- G01B9/02028—Two or more reference or object arms in one interferometer
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/45—Multiple detectors for detecting interferometer signals
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
Claims (15)
- 第1及び第2の側面を有するテスト部品を測定するための干渉計システムであって、
第1の参照面と、前記テスト部品の前記第1の側面と前記第1の参照面との間の光路長差を測定するための第1の測定ビームを搬送する第1の光学経路とを有する第1の干渉計と、
第2の参照面と、前記テスト部品の前記第2の側面と前記第2の参照面との間の光路長差を測定するための第2の測定ビームを搬送する第2の光学経路とを有する第2の干渉計と、
前記テスト部品の前記第1及び第2の側面の間の距離を測定するために、前記テスト部品の前記第1及び第2の側面と前記第1及び第2の参照面との間の前記光路長差の測定値を、前記第1の参照面と前記第2の参照面との間の光路長差の測定値と結合するプロセッサと、
を備え、
前記第1及び第2の参照面の間の前記光路長差を測定するために、前記第1の干渉計の前記第1の光学経路が前記テスト部品の前記第1の側面を越えて前記第2の干渉計の前記第2の参照面へと延びることを特徴とする干渉計システム。 - 前記第1の光学経路が、前記テスト部品の前記第2の側面と前記第2の参照面との間の長さ分だけ前記第2の光学経路と重複することを特徴とする請求項1記載のシステム。
- (a)前記第1の参照面が、前記第1の測定ビームを、前記第1の参照面から反射する第1の参照ビームと前記第1の参照面を透過する第1のテストビームとに分割し、
(b)前記第1のテストビームが、前記テスト部品の前記第1の側面から反射する一次横断方向領域と、前記第2の参照面から反射する二次横断方向領域とを含み、
(c)前記第1のテストビームの前記一次及び二次横断方向領域が、ほぼ垂直な入射角で前記テスト部品の前記第1の側面及び前記第2の参照面に遭遇する
ことを特徴とする請求項1記載のシステム。 - 前記プロセッサが、(a)前記テスト部品の前記第1の側面と前記第1の参照面との間の第1の平行度測定値、(b)前記テスト部品の前記第2の側面と前記第2の参照面との間の第2の平行度測定値、及び(c)前記2つの参照面の間の第3の平行度測定値を導出し、前記3つの平行度の測定値を結合して前記テスト部品の前記第1の側面と前記第2の側面との間の第4の平行度測定値を算出するよう構成されることを特徴とする請求項1記載のシステム。
- 前記テスト部品のための取り付け具を更に備え、前記第1及び第2の参照面が前記第1の光学経路に沿って該取り付け具の両側に位置することを特徴とする請求項1記載のシステム。
- (a)前記第1の参照面と前記第2の参照面との間の光路長差を測定するために、前記第2の干渉計の前記第2の光学経路が前記テスト部品の前記第2の側面を越えて前記第1の干渉計の前記第1の参照面まで延び、
(b)前記第2の光学経路が、前記テスト部品の前記第1の側面と前記第1の参照面との間の長さ分だけ前記第1の光学経路と重複し、
(c)前記プロセッサが、前記第1の干渉計と前記第2の干渉計との間の差を測定するために、前記第1の干渉計による前記第1の参照面と前記第2の参照面との間の光路長差の測定値を、前記第2の干渉計による前記第1の参照面と前記第2の参照面との間の光路長差の測定値と比較するよう構成される
ことを特徴とする請求項1記載のシステム。 - (a)前記第1及び第2の干渉計が、前記第1及び第2の測定ビームを発生するための少なくとも1つの光源と、前記第1及び第2の測定ビームを用いて前記テスト部品の前記両側面を撮像するための撮像サブシステムとを有し、
(b)前記第1の参照面と前記テスト部品の前記第1の側面との間の光路長差及び前記第1の参照面と前記第2の干渉計の前記第2の参照面との間の光路長差を測定するために、前記第1の干渉計の前記第1の参照面が、前記第1の測定ビームを第1の参照ビームと第1のテストビームとに分割し、
(c)前記第2の参照面と前記テスト部品の前記第2の側面との間の光路長差を測定するために、前記第2の干渉計の前記第2の参照面が、前記第2の測定ビームを第2の参照ビームと第2のテストビームとに分割し、
(d)前記第1のテストビームが、前記テスト部品の前記第1の側面から反射する一次横断方向領域と、前記第2の干渉計の前記第2の参照面から反射する二次横断方向領域とを有し、
(e)前記第2のテストビームが、前記テスト部品の前記第2の側面から反射する横断方向領域を有し、
(f)前記第1及び第2の参照面に関する前記テスト部品の前記第1及び第2の側面の位置をつきとめるために、前記撮像サブシステムが、(i)前記第1の測定ビームによって前記第1の参照面と前記テスト部品の前記第1の側面との間に形成される干渉縞、(ii)前記第2の測定ビームによって前記第2の参照面と前記テスト部品の前記第2の側面との間に形成される干渉縞、及び(iii)前記第1の測定ビームによって前記第1の参照面と前記第2の参照面との間に形成される干渉縞を撮像するよう構成される
ことを特徴とする請求項1記載のシステム。 - 前記撮像サブシステムが、
前記第1の参照面と前記テスト部品の前記第1の側面との間に形成された前記干渉縞の画像、及び前記第1の参照面と前記第2の参照面との間に形成された前記干渉縞の画像を同時に記録する第1のカメラと、
前記第2の参照面と前記テスト部品の前記第2の側面との間に形成された前記干渉縞の画像を記録する第2のカメラと、
前記第1の測定ビームを前記第1の参照面、前記テスト部品の前記第1の側面及び前記第2の参照面に向かわせると共に、前記第1の参照面、前記テスト部品の前記第1の側面及び前記第2の参照面からの前記第1の測定ビームを前記第1のカメラに向けて方向転換する第1のビームスプリッタと、
前記第2の測定ビームを前記第2の参照面及び前記テスト部品の前記第2の側面に向かわせると共に、前記第2の参照面及び前記テスト部品の前記第2の側面からの前記第2の測定ビームを前記第2のカメラに向けて方向転換する第2のビームスプリッタと
を含むことを特徴とする請求項7記載のシステム。 - 前記第1及び第2のビームスプリッタが偏光ビームスプリッタであり、
前記反射された第1の測定ビームを前記第1のカメラに向けて方向転換するための、前記第1のビームスプリッタと前記第1の参照面との間に配置された第1の偏光修正要素と、
前記反射された第2の測定ビームを前記第2のカメラに向けて方向転換するための、前記第2のビームスプリッタと前記第2の参照面との間に配置された第2の偏光修正要素と
を更に備えることを特徴とする請求項8記載のシステム。 - 前記光源を前記第1及び第2の測定ビームに分割し、前記反射された第1及び第2の測定ビームを前記撮像サブシステムに向けて方向転換するビームスプリッタと、
前記反射された第1の測定ビームを前記撮像サブシステムに向けて方向転換するための、前記ビームスプリッタと前記第1の参照面との間に配置された第1の偏光修正要素と、
前記反射された第2の測定ビームを前記撮像サブシステムに向けて方向転換するための、前記ビームスプリッタと前記第2の参照面との間に配置された第2の偏光修正要素と
を更に備えることを特徴とする請求項6記載のシステム。 - 前記第1及び第2の測定ビームの反射された部分を前記撮像サブシステムに向かわせるため、及び両方の前記参照面を透過した前記第1及び第2の測定ビームの通過した部分が前記撮像サブシステムに到達するのを防止するために、前記偏光修正要素が累積的偏光回転を提供することを特徴とする請求項10記載のシステム。
- 前記ビームスプリッタが第1のビームスプリッタであり、
前記第1の参照面と前記テスト部品の前記第1の側面との間に形成された前記干渉縞の画像、及び前記第1の参照面と前記第2の参照面との間に形成された前記干渉縞の画像を同時に記録する第1のカメラと、
前記第2の参照面と前記テスト部品の前記第2の側面との間に形成された前記干渉縞の画像を記録する第2のカメラと、
前記反射された第1の測定ビームを前記第1のカメラに向かわせ、前記反射された第2の測定ビームを前記第2のカメラに向かわせる第2のビームスプリッタと
を更に備えることを特徴とする請求項29記載のシステム。 - テスト部品の両側面を測定し、前記テスト部品の両側面の互いに関する位置をつきとめる方法であって、
前記テスト部品を第1の干渉計の第1の参照面と第2の干渉計の第2の参照面との間に取り付ける工程と、
第1の測定ビームを前記第1の干渉計を通るよう伝搬させる工程と、
第2の測定ビームを前記第2の干渉計を通るよう伝搬させる工程と、
前記第1の測定ビームの第1の参照ビーム部分を前記第1の参照面から反射させる工程と、
前記第1の測定ビームの第1のテストビーム部分を前記第1の参照面を通して通過させる工程と、
前記第1のテストビームの一次横断方向領域を前記テスト部品の第1の側面から反射させる工程と、
前記第1のテストビームの二次横断方向領域を前記第2の参照面から反射させる工程と、
前記第1の測定ビームによって前記第1の参照面と前記テスト部品の前記第1の側面との間に形成された干渉縞、及び前記第1の参照面と前記第2の参照面との間に形成された干渉縞を同時に撮像する工程と、
前記第2の測定ビームの第2の参照ビーム部分を前記第2の参照面から反射させる工程と、
前記第2の測定ビームの第2のテストビーム部分を前記第2の参照面を通して通過させる工程と、
前記第2のテストビームの横断方向領域を前記テスト部品の第2の側面から反射させる工程と、
前記第2の測定ビームによって前記第2の参照面と前記テスト部品の前記第2の側面との間に形成された干渉縞を撮像する工程と、
前記テスト部品の前記第1及び第2の側面を測定するため、及び前記テスト部品の前記第1及び第2の側面の互いに関する位置をつきとめるために、前記第1の測定ビームによって形成された2つの前記干渉縞及び前記第2の測定ビームによって形成された前記干渉縞を処理する工程と、
を備えることを特徴とする方法。 - (a)前記第2のテストビームの前記横断方向領域を反射させる前記工程が、前記第2のテストビームの一次横断方向領域を前記テスト部品の第2の側面から反射させることを含むと共に、前記第2のテストビームの二次横断方向領域を前記第1の参照面から反射させる工程を更に含み、
(b)前記撮像する工程が、前記第2の測定ビームによって前記第2の参照面と前記テスト部品の前記第2の側面との間に形成された前記干渉縞を、前記第2の測定ビームによって前記第1の参照面と前記第2の参照面との間に形成された干渉と同時に撮像することを含み、
(c)前記処理する工程が、前記第1及び第2の参照面のそれぞれに関する前記テスト部品の前記第1及び第2の側面の位置を個別につきとめるために、前記第2の測定ビームによって前記第1の参照面と第2の参照面との間に形成された前記干渉縞を処理することも含む
ことを特徴とする請求項13記載の方法。 - 前記第2の測定ビームの波長を複数の異なる波長にわたってシフトする工程を更に備え、前記第2の測定ビームによって形成された前記干渉縞を撮像する前記工程が、前記第2の測定ビームによって前記複数の異なる波長の各波長で形成された干渉縞を撮像することを含むよう拡張されることを特徴とする請求項13記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/023,018 US7268887B2 (en) | 2004-12-23 | 2004-12-23 | Overlapping common-path interferometers for two-sided measurement |
PCT/US2005/045617 WO2006071569A2 (en) | 2004-12-23 | 2005-12-14 | Overlapping common-path interferometers for two-sided measurement |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013161155A Division JP2013257336A (ja) | 2004-12-23 | 2013-08-02 | 2面測定用の重複する共通光路干渉計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008525801A true JP2008525801A (ja) | 2008-07-17 |
JP2008525801A5 JP2008525801A5 (ja) | 2009-01-29 |
Family
ID=36611088
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007548326A Pending JP2008525801A (ja) | 2004-12-23 | 2005-12-14 | 2面測定用の重複する共通光路干渉計 |
JP2013161155A Pending JP2013257336A (ja) | 2004-12-23 | 2013-08-02 | 2面測定用の重複する共通光路干渉計 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013161155A Pending JP2013257336A (ja) | 2004-12-23 | 2013-08-02 | 2面測定用の重複する共通光路干渉計 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7268887B2 (ja) |
EP (1) | EP1831639A4 (ja) |
JP (2) | JP2008525801A (ja) |
KR (1) | KR20070090033A (ja) |
CN (1) | CN101087990A (ja) |
TW (1) | TWI282405B (ja) |
WO (1) | WO2006071569A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014515498A (ja) * | 2011-05-27 | 2014-06-30 | コーニング インコーポレイテッド | 一体化光学キャビティを備えた複合二重共通光路干渉計 |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7417743B2 (en) * | 2004-03-15 | 2008-08-26 | Zygo Corporation | Interferometry systems and methods |
US7492469B2 (en) | 2004-03-15 | 2009-02-17 | Zygo Corporation | Interferometry systems and methods using spatial carrier fringes |
JP4556169B2 (ja) * | 2004-10-29 | 2010-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 保持歪み測定方法および装置 |
JP2006292539A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Konica Minolta Sensing Inc | 光学特性測定のための支援装置およびコンピュータプログラム |
JP4729423B2 (ja) * | 2006-03-28 | 2011-07-20 | 株式会社ミツトヨ | 光学干渉計 |
JP4878904B2 (ja) * | 2006-04-14 | 2012-02-15 | 株式会社ミツトヨ | 寸法差測定方法、及びその装置 |
DE102008001482A1 (de) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | Robert Bosch Gmbh | Interferometrische Anordnung sowie Verfahren zum Einstellen eines Gangunterschieds |
DE102008001473B3 (de) * | 2008-04-30 | 2009-12-31 | Robert Bosch Gmbh | Optische Anordnung zur Beleuchtung eines Messobjektes, interferometrische Anordnung zur Vermessung von Flächen eines Messobjektes |
GB0910736D0 (en) * | 2009-06-22 | 2009-08-05 | Pilkington Group Ltd | Improved film thickness measurement |
EP2384692B1 (de) * | 2010-05-07 | 2020-09-09 | Rowiak GmbH | Anordnung und Verfahren zur Interferometrie |
JP2012002608A (ja) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | Fujifilm Corp | 面ずれ面倒れ測定装置 |
JP5882674B2 (ja) | 2011-10-24 | 2016-03-09 | キヤノン株式会社 | 多波長干渉計、計測装置および計測方法 |
DE102012203315B4 (de) * | 2011-11-30 | 2014-10-16 | Micro-Epsilon Messtechnik Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung und ein Verfahren zur Abstands- oder Dickenmessung eines Objekts |
US9163928B2 (en) * | 2013-04-17 | 2015-10-20 | Kla-Tencor Corporation | Reducing registration error of front and back wafer surfaces utilizing a see-through calibration wafer |
KR101464698B1 (ko) * | 2013-04-25 | 2014-11-27 | (주)프로옵틱스 | 이미지 포인트 정렬이 용이한 피조우 간섭계 |
KR101539946B1 (ko) * | 2013-08-22 | 2015-07-29 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 통합형 형상 측정장치 |
ITBO20130617A1 (it) * | 2013-11-12 | 2015-05-13 | Marposs Spa | Sistema e metodo per il controllo della posizione mutua di componenti di un pezzo meccanico e apparecchiatura che utilizza tali sistema e metodo |
US9651359B2 (en) * | 2014-11-21 | 2017-05-16 | Kla-Tencor Corporation | Dual wavelength dual interferometer with combiner-splitter |
US9683831B2 (en) * | 2015-03-23 | 2017-06-20 | The Boeing Company | Ring laser measurement apparatus and method |
JP6271493B2 (ja) * | 2015-05-25 | 2018-01-31 | Ckd株式会社 | 三次元計測装置 |
JP6815336B2 (ja) | 2015-06-30 | 2021-01-20 | コーニング インコーポレイテッド | 静的縞パターンを使用した干渉ロールオフ測定 |
US9892334B2 (en) * | 2015-11-01 | 2018-02-13 | Joshua Noel Hogan | Optical coherence tomography array based subdermal imaging device |
US10236222B2 (en) * | 2017-02-08 | 2019-03-19 | Kla-Tencor Corporation | System and method for measuring substrate and film thickness distribution |
CN109855530B (zh) * | 2017-11-30 | 2021-03-09 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 干涉仪系统及其使用方法 |
CN110542393B (zh) * | 2018-05-28 | 2021-09-03 | 阳程科技股份有限公司 | 板材的倾角测量装置及测量方法 |
US10782120B2 (en) * | 2018-07-03 | 2020-09-22 | Kla Corporation | Dual-interferometry wafer thickness gauge |
US11262191B1 (en) * | 2018-07-12 | 2022-03-01 | Onto Innovation Inc. | On-axis dynamic interferometer and optical imaging systems employing the same |
US10563975B1 (en) * | 2018-07-25 | 2020-02-18 | Applejack 199 L.P. | Dual-sensor arrangment for inspecting slab of material |
US11143503B2 (en) * | 2018-08-07 | 2021-10-12 | Kimball Electronics Indiana, Inc. | Interferometric waviness detection systems |
CN108955549A (zh) * | 2018-09-11 | 2018-12-07 | 深圳立仪科技有限公司 | 一种透光材料双面测厚装置 |
US10948356B1 (en) * | 2020-06-22 | 2021-03-16 | Quantum Valley Ideas Laboratories | Measuring wavelength of light |
CN112082492B (zh) * | 2020-09-04 | 2021-12-21 | 哈尔滨工程大学 | 具有角度监测的薄膜厚度与折射率同时测量的装置及方法 |
TWI781446B (zh) * | 2020-09-22 | 2022-10-21 | 萬潤科技股份有限公司 | 物件厚度量測裝置 |
TWI775152B (zh) * | 2020-09-22 | 2022-08-21 | 萬潤科技股份有限公司 | 物件厚度量測方法及裝置 |
US11435234B1 (en) | 2021-02-10 | 2022-09-06 | Quantum Valley Ideas Laboratories | Increasing the measurement precision of optical instrumentation using Kalman-type filters |
CN113340212A (zh) * | 2021-05-14 | 2021-09-03 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置 |
CN113251897B (zh) * | 2021-05-17 | 2022-11-11 | 东北大学秦皇岛分校 | 一种基于白光干涉的量块测量装置及方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62106310A (ja) * | 1985-11-02 | 1987-05-16 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 平行平面板の平行度測定装置 |
JPH11260873A (ja) * | 1998-03-09 | 1999-09-24 | Super Silicon Kenkyusho:Kk | ウェーハの光学式形状測定器 |
JP2001241923A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-07 | Kobe Steel Ltd | 形状測定装置 |
JP2002005640A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-01-09 | Kobe Steel Ltd | 光学式形状測定装置 |
JP2003194523A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 測長装置 |
JP2003269923A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 絶対厚み測定装置 |
JP2004037104A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Mitsutoyo Corp | 寸法測定装置 |
JP2004294432A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-21 | Phase Shift Technology Inc | 研磨された不透明なプレートの形状と厚さ変化を測定する方法と装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH112512A (ja) * | 1997-06-11 | 1999-01-06 | Super Silicon Kenkyusho:Kk | ウェーハの光学式形状測定器 |
AU2001260975A1 (en) * | 2000-01-25 | 2001-08-20 | Zygo Corporation | Optical systems for measuring form and geometric dimensions of precision engineered parts |
US6882432B2 (en) | 2000-08-08 | 2005-04-19 | Zygo Corporation | Frequency transform phase shifting interferometry |
US6924898B2 (en) | 2000-08-08 | 2005-08-02 | Zygo Corporation | Phase-shifting interferometry method and system |
US6690690B2 (en) | 2002-05-29 | 2004-02-10 | Lightgage, Inc. | Tunable laser system having an adjustable external cavity |
US7130059B2 (en) * | 2002-06-24 | 2006-10-31 | Light Gage, Inc | Common-path frequency-scanning interferometer |
AU2003258951A1 (en) | 2002-06-24 | 2004-01-06 | Lightgage, Inc. | Multi-stage data processing for frequency-scanning interferometer |
US6977730B2 (en) * | 2003-08-18 | 2005-12-20 | Zygo Corporation | Method and apparatus for alignment of a precision optical assembly |
-
2004
- 2004-12-23 US US11/023,018 patent/US7268887B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-12-14 KR KR1020077016726A patent/KR20070090033A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-12-14 EP EP05854356A patent/EP1831639A4/en not_active Withdrawn
- 2005-12-14 JP JP2007548326A patent/JP2008525801A/ja active Pending
- 2005-12-14 WO PCT/US2005/045617 patent/WO2006071569A2/en active Application Filing
- 2005-12-14 CN CNA2005800446204A patent/CN101087990A/zh active Pending
- 2005-12-22 TW TW094146069A patent/TWI282405B/zh not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-08-02 JP JP2013161155A patent/JP2013257336A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62106310A (ja) * | 1985-11-02 | 1987-05-16 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 平行平面板の平行度測定装置 |
JPH11260873A (ja) * | 1998-03-09 | 1999-09-24 | Super Silicon Kenkyusho:Kk | ウェーハの光学式形状測定器 |
JP2001241923A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-07 | Kobe Steel Ltd | 形状測定装置 |
JP2002005640A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-01-09 | Kobe Steel Ltd | 光学式形状測定装置 |
JP2003194523A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 測長装置 |
JP2003269923A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 絶対厚み測定装置 |
JP2004037104A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Mitsutoyo Corp | 寸法測定装置 |
JP2004294432A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-21 | Phase Shift Technology Inc | 研磨された不透明なプレートの形状と厚さ変化を測定する方法と装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014515498A (ja) * | 2011-05-27 | 2014-06-30 | コーニング インコーポレイテッド | 一体化光学キャビティを備えた複合二重共通光路干渉計 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1831639A2 (en) | 2007-09-12 |
KR20070090033A (ko) | 2007-09-04 |
EP1831639A4 (en) | 2009-05-27 |
CN101087990A (zh) | 2007-12-12 |
TW200639370A (en) | 2006-11-16 |
US20060139656A1 (en) | 2006-06-29 |
JP2013257336A (ja) | 2013-12-26 |
WO2006071569A3 (en) | 2007-02-08 |
WO2006071569A2 (en) | 2006-07-06 |
TWI282405B (en) | 2007-06-11 |
US7268887B2 (en) | 2007-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008525801A (ja) | 2面測定用の重複する共通光路干渉計 | |
TWI618915B (zh) | 用於檢測物件的三維結構的設備 | |
US6822745B2 (en) | Optical systems for measuring form and geometric dimensions of precision engineered parts | |
JP4729423B2 (ja) | 光学干渉計 | |
JP6553967B2 (ja) | 瞬時位相シフト干渉計 | |
JP2008525801A5 (ja) | ||
US20080062428A1 (en) | Synchronous frequency-shift mechanism in Fizeau interferometer | |
JPH0666537A (ja) | システムエラー測定方法及びそれを用いた形状測定装置 | |
CN111207844B (zh) | 双侧多重平面倾斜波面干涉仪及其检测方法 | |
JP2013050448A (ja) | 干渉計方式により間隔測定するための機構 | |
TW202214996A (zh) | 用於測量光學元件的界面的裝置和方法 | |
Wyant | Advances in interferometric metrology | |
TW201413217A (zh) | 多軸微分干涉儀 | |
JP2003294418A (ja) | 微小周期構造評価装置及び微小周期構造評価方法 | |
JP2002286409A (ja) | 干渉計装置 | |
JP2006349382A (ja) | 位相シフト干渉計 | |
JP3410802B2 (ja) | 干渉計装置 | |
JPH11337321A (ja) | 位相シフト干渉縞の同時計測方法及び装置 | |
JP3907518B2 (ja) | 形状測定装置 | |
JP5414083B2 (ja) | 測距方法及びレーザ測距装置 | |
JP2009103592A (ja) | コリメーション検査装置 | |
JP2006284303A (ja) | 傾斜測定干渉計装置 | |
JP2002286410A (ja) | 干渉計装置 | |
JPS62106310A (ja) | 平行平面板の平行度測定装置 | |
JPH0719842A (ja) | 表面形状の光学的測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081204 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081204 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101116 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110216 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110223 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110316 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110324 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111101 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120201 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120222 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120301 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130402 |