JP2014515498A - 一体化光学キャビティを備えた複合二重共通光路干渉計 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 151
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 29
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 title description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 291
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 54
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 9
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 7
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000010438 granite Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Images
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/16—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. optical strain gauge
- G01B11/161—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. optical strain gauge by interferometric means
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0675—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating using interferometry
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/2441—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures using interferometry
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02017—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations
- G01B9/02021—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations contacting different faces of object, e.g. opposite faces
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02027—Two or more interferometric channels or interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02056—Passive reduction of errors
- G01B9/02057—Passive reduction of errors by using common path configuration, i.e. reference and object path almost entirely overlapping
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02056—Passive reduction of errors
- G01B9/02058—Passive reduction of errors by particular optical compensation or alignment elements, e.g. dispersion compensation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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Abstract
Description
12 上方共通光路干渉計
14 下方共通光路干渉計
16 第1側面
18 第2側面
20 試験部品
42 第1測定アーム
44 第2測定アーム
46 第1測定ビーム
48 第2測定ビーム
51、53 ハウジング
54 第1参照光学素子
56 第2参照光学素子
58 第1参照面
60 第2参照面
62、64 参照ビーム
66、68 試験物体ビーム
70、72 試験参照ビーム
82、84 検出面
102、104 支柱
110、170 一体化測定キャビティ
120、128、134、138、154、156 フランジ
122、126、136、158 カラー
124、132、152 土台
160 肩部
174 フィゾースペーサ装置
176 予荷重位置決め装置
198、200、202 スペーサピン
Claims (10)
- 複合共通光路干渉計であって、
第1測定アームを備えている第1干渉計、
第2測定アームを備えている第2干渉計、
前記第1測定アームと前記第2測定アームとを支持するための土台、
夫々が参照光学素子を含んでいる前記各第1測定アームおよび前記第2測定アームであって、試験物体からの試験ビームと前記各参照光学素子からの参照ビームとの両方を送るための光学経路を夫々含んでいる、前記第1測定アームおよび前記第2測定アーム、
前記第1測定アームの前記参照光学素子であって、前記第1測定アームの前記参照光学素子と前記第1測定アームの残部との間での障害の伝達を制限するように、前記第1測定アームの前記残部から絶縁されている、前記第1測定アームの前記参照光学素子、
前記第1測定アームの前記参照光学素子と前記第2測定アームの前記参照光学素子との間の連結部材であって、前記参照光学素子と合わさって、該参照光学素子の参照面を固定間隔および固定配向で維持する一体化測定キャビティを形成する、連結部材、および、
前記第1測定アームの前記残部とは無関係に前記土台に接続されている、前記一体化測定キャビティ、
を備えていることを特徴とする複合共通光路干渉計。 - 前記第2測定アームの前記参照光学素子が、前記第2測定アームの残部から、前記第2測定アームの前記参照光学素子と前記第2測定アームの前記残部との間での障害の伝達を制限するように絶縁されており、さらに、前記一体化測定キャビティが、前記第1測定アームの前記残部および前記第2測定アームの前記残部とは無関係に、前記土台に接続されていることを特徴とする請求項1記載の複合共通光路干渉計。
- 前記第1測定アームの前記残部とは無関係に、前記2つの参照光学素子と前記試験物体とが単体として障害を受容するように前記試験物体を据え付けるための支持体を、前記一体化測定キャビティが該一体化測定キャビティ内に含んでいることを特徴とする請求項1記載の複合共通光路干渉計。
- 前記第1測定アームの前記参照光学素子と前記第2測定アームの前記参照光学素子との間の前記連結部材が、前記第1測定アームの前記参照光学素子と前記第2測定アームの前記参照光学素子との間の熱的に安定したスペーサを含むことを特徴とする請求項1記載の複合共通光路干渉計。
- 前記第1測定アームの前記参照光学素子が、前記第1測定アームの前記残部に接続されていないことを特徴とする請求項1記載の複合共通光路干渉計。
- 前記第2測定アームの前記参照光学素子が前記第2測定アームの前記残部に接続されていないものであり、かつ前記一体化測定キャビティが、前記第1測定アームの前記残部および前記第2測定アームの前記残部とは無関係に、前記土台に接続されていることを特徴とする請求項5記載の複合共通光路干渉計。
- 試験物体を測定するための第1測定アームと第2測定アームとを備えている複合共通光路干渉計用の、支持系であって、
前記第1測定アームの参照光学素子と前記第2測定アームの参照光学素子との間の連結部材であって、前記参照光学素子と合わさって、前記参照光学素子の参照面を固定間隔および固定配向で維持する一体化測定キャビティを形成する、連結部材、
前記第1測定アームの前記参照光学素子であって、前記第1測定アームの前記参照光学素子と前記第1測定アームの残部との間での障害の伝達を制限するように、前記第1測定アームの前記残部から絶縁されている、前記第1測定アームの前記参照光学素子、
前記第1測定アームの前記残部とは無関係に前記一体化測定キャビティを支持するための、第1支持体、および、
前記第1測定アームの前記残部を支持するための、第2支持体、
を備えていることを特徴とする支持系。 - 前記第2測定アームの前記参照光学素子が前記第2測定アームの残部に接続され、かつ前記第1支持体が前記一体化測定キャビティを、前記第2測定アームの前記残部を介して支持していることを特徴とする請求項7記載の支持系。
- 前記第2測定アームの前記参照光学素子が、前記第2測定アームの残部から、前記第2測定アームの前記参照光学素子と前記第2測定アームの前記残部との間での障害の伝達を制限するように絶縁されており、さらに、前記第1支持体が、前記第1測定アームの前記残部および前記第2測定アームの前記残部とは無関係に、前記一体化測定キャビティを支持していることを特徴とする請求項7記載の支持系。
- 前記第1測定アームの前記残部および前記第2測定アームの前記残部が相互に接続されており、かつ前記第2支持体が、前記第1測定アームの前記残部と前記第2測定アームの前記残部とを支持していることを特徴とする請求項7記載の支持系。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/117,291 US8379219B2 (en) | 2011-05-27 | 2011-05-27 | Compound interferometer with monolithic measurement cavity |
US13/117,291 | 2011-05-27 | ||
PCT/US2012/038942 WO2012166427A1 (en) | 2011-05-27 | 2012-05-22 | Compound double common - path interferometer with monolithic optical cavity |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014515498A true JP2014515498A (ja) | 2014-06-30 |
JP6149296B2 JP6149296B2 (ja) | 2017-06-21 |
Family
ID=46168654
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014513558A Active JP6149296B2 (ja) | 2011-05-27 | 2012-05-22 | 一体化光学キャビティを備えた複合二重共通光路干渉計 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8379219B2 (ja) |
EP (1) | EP2715276B1 (ja) |
JP (1) | JP6149296B2 (ja) |
WO (1) | WO2012166427A1 (ja) |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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A601 | Written request for extension of time |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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