JP2008510677A5 - - Google Patents
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|---|---|---|---|---|
| DE102005058819B4 (de) * | 2005-10-13 | 2009-04-30 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Beschichtung eines Bauteils aus hochkieselsäurehaltigem Glas, mit einer SiO2-haltigen, glasigen Schicht versehenes Bauteil, sowie Verwendung des Bauteils |
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| DE102007049930B4 (de) * | 2007-10-18 | 2011-04-28 | Universität Hamburg | Oberflächenmodifizierte Hohlraumstrukturen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
| US20090308315A1 (en) * | 2008-06-13 | 2009-12-17 | Asm International N.V. | Semiconductor processing apparatus with improved thermal characteristics and method for providing the same |
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| DE102009049032B3 (de) * | 2009-10-10 | 2011-03-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Bauteils aus Quarzglas |
| DE102009059015B4 (de) | 2009-12-17 | 2014-02-13 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Quarzglasbauteil mit opaker Innenzone sowie Verfahren zur Herstellung desselben |
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| DE102012025142A1 (de) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarotstrahler mit hoher Strahlungsleistung |
| DE202013000527U1 (de) * | 2013-01-21 | 2013-08-27 | Kay-Michael Bauer | Infrarotstrahler in U-Form mit Keramik-Reflektorbeschichtung |
| CN105210173A (zh) * | 2013-05-23 | 2015-12-30 | 应用材料公司 | 用于半导体处理腔室的经涂布的衬里组件 |
| EP2878584B1 (de) | 2013-11-28 | 2017-01-04 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Bauteils aus Quarzglas oder Quarzgut |
| EP3023162A1 (de) | 2014-11-24 | 2016-05-25 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung eines mit einer Funktionsschicht versehenen Bauteils aus Glas sowie Vorrichtung zur Herstellung einer derartigen Schicht |
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| US10676388B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-06-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glass fibers and pre-forms made of homogeneous quartz glass |
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| US11053152B2 (en) | 2015-12-18 | 2021-07-06 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass |
| WO2017103160A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Herstellung von quarzglaskörpern aus siliziumdioxidgranulat |
| EP3185057A1 (de) * | 2015-12-22 | 2017-06-28 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Faseroptische streueinrichtung und herstellungsverfahren dafür |
| DE102016111234B4 (de) | 2016-06-20 | 2018-01-25 | Heraeus Noblelight Gmbh | Vorrichtung für die thermische Behandlung eines Substrats sowie Trägerhorde und Substrat-Trägerelement dafür |
| DE102016113815A1 (de) | 2016-07-27 | 2018-02-01 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarotflächenstrahler und Verfahren zur Herstellung des Infrarotflächenstrahlers |
| EP3428132B1 (de) * | 2017-07-10 | 2023-08-30 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Quarzglasbauteil mit hoher thermischer stabilität, halbzeug dafür und verfahren zur herstellung desselben |
| PL3546431T3 (pl) * | 2018-03-28 | 2024-09-16 | Ovivo Inc. | Urządzenie i sposób do dostarczania ultraczystej wody |
| DE102020128337A1 (de) | 2020-10-28 | 2022-04-28 | Heraeus Noblelight Gmbh | Strahlerbauteil mit einer Reflektorschicht sowie Verfahren für seine Herstellung |
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Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE587715C (de) * | 1932-10-14 | 1933-11-07 | Patra Patent Treuhand | Elektrische Gluehlampe oder Leuchtroehre mit einem fuer sichtbare und auch ultraviolette Strahlen durchlaessigen Glasgefaess |
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| WO1991002102A1 (fr) * | 1989-08-01 | 1991-02-21 | Asahi Glass Company Ltd. | Film base sur du dioxide de silicium et sa production |
| US5045751A (en) * | 1988-10-25 | 1991-09-03 | Asahi Glass Company Ltd. | Cathode ray tube of improved breakdown voltage characteristic |
| KR900007740A (ko) * | 1988-11-04 | 1990-06-01 | 후루모또 지로 | 유리보강법과 그에 사용되는 필름 형성 합성물 및 그 강화 유리제품 |
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| DE4338807C1 (de) * | 1993-11-12 | 1995-01-26 | Heraeus Quarzglas | Formkörper mit hohem Gehalt an Siliziumdioxid und Verfahren zur Herstellung solcher Formkörper |
| DE4417405A1 (de) * | 1994-05-18 | 1995-11-23 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung von strukturierten anorganischen Schichten |
| JPH08315965A (ja) * | 1994-09-29 | 1996-11-29 | Tokyo Electron Ltd | 加熱装置及びその製造方法、並びに処理装置 |
| JP4185194B2 (ja) * | 1997-07-31 | 2008-11-26 | コバレントマテリアル株式会社 | カーボンヒータ |
| GB9722020D0 (en) * | 1997-10-17 | 1997-12-17 | Tsl Group Plc | Production of quartz glass articles having high surface purity |
| DE19822829A1 (de) * | 1998-05-20 | 1999-11-25 | Heraeus Noblelight Gmbh | Kurzwelliger Infrarot-Flächenstrahler |
| DE19962451C1 (de) * | 1999-12-22 | 2001-08-30 | Heraeus Quarzglas | Verfahren für die Herstellung von opakem Quarzglas und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Si0¶2¶-Granulat |
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| DE10211249B4 (de) * | 2002-03-13 | 2004-06-17 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verwendung eines Glanzedelmetallpräparats |
| DE10243954B3 (de) * | 2002-09-20 | 2004-07-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren für die Herstellung eines opaken Quarzglas-Kompositwerkstoffs sowie Verwendung desselben |
| JP4444559B2 (ja) * | 2002-10-09 | 2010-03-31 | ジャパンスーパークォーツ株式会社 | 石英ガラスルツボの強化方法とシリコン単結晶の引き上げ方法 |
| DE10253582B3 (de) * | 2002-11-15 | 2004-07-15 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarotstrahler, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
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