ES2306204T3 - Componente con una capa reflectora y procedimiento para su produccion. - Google Patents
Componente con una capa reflectora y procedimiento para su produccion. Download PDFInfo
- Publication number
- ES2306204T3 ES2306204T3 ES05777540T ES05777540T ES2306204T3 ES 2306204 T3 ES2306204 T3 ES 2306204T3 ES 05777540 T ES05777540 T ES 05777540T ES 05777540 T ES05777540 T ES 05777540T ES 2306204 T3 ES2306204 T3 ES 2306204T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- sio2
- layer
- slip
- covering layer
- component according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82B—NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
- B82B3/00—Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/003—General methods for coating; Devices therefor for hollow ware, e.g. containers
- C03C17/004—Coating the inside
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/003—General methods for coating; Devices therefor for hollow ware, e.g. containers
- C03C17/005—Coating the outside
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V7/00—Reflectors for light sources
- F21V7/22—Reflectors for light sources characterised by materials, surface treatments or coatings, e.g. dichroic reflectors
- F21V7/24—Reflectors for light sources characterised by materials, surface treatments or coatings, e.g. dichroic reflectors characterised by the material
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V7/00—Reflectors for light sources
- F21V7/22—Reflectors for light sources characterised by materials, surface treatments or coatings, e.g. dichroic reflectors
- F21V7/28—Reflectors for light sources characterised by materials, surface treatments or coatings, e.g. dichroic reflectors characterised by coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
- G02B5/0242—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element by means of dispersed particles
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0268—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the fabrication or manufacturing method
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
- G02B5/0284—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in reflection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K1/00—Details
- H01K1/28—Envelopes; Vessels
- H01K1/32—Envelopes; Vessels provided with coatings on the walls; Vessels or coatings thereon characterised by the material thereof
- H01K1/325—Reflecting coating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K1/00—Details
- H01K1/28—Envelopes; Vessels
- H01K1/34—Double wall vessels
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/0033—Heating devices using lamps
- H05B3/009—Heating devices using lamps heating devices not specially adapted for a particular application
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/45—Inorganic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
- C03C2217/478—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/112—Deposition methods from solutions or suspensions by spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/032—Heaters specially adapted for heating by radiation heating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B20/00—Energy efficient lighting technologies, e.g. halogen lamps or gas discharge lamps
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Aerials With Secondary Devices (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Componente con una capa reflectora que constituye un reflector para un radiador óptico o una parte de un radiador óptico y que incluye un cuerpo de base de cristal de cuarzo cuya superficie está revestida como mínimo parcialmente con una capa reflectora, caracterizado porque está prevista una capa cubriente de SiO2 como mínimo parcialmente opaco (7a; 9) que actúa como reflector difusor, y la capa cubriente de SiO2 (7a; 9) consiste en un material del mismo tipo que el material del cuerpo de base (1; 8), diferenciándose los contenidos de SiO 2 de la capa cubriente y del cuerpo de base como máximo en un 3% en peso.
Description
Componente con una capa reflectora y
procedimiento para su producción.
La invención se refiere a un componente con una
capa reflectora, que incluye un cuerpo de base de cristal de cuarzo
cuya superficie está revestida como mínimo parcialmente con una capa
reflectora.
La invención se refiere además a un
procedimiento para producir un componente con capa reflectora de
este tipo revistiendo la superficie de un cuerpo de base de cristal
de cuarzo como mínimo parcialmente con una capa reflectora.
El cristal de cuarzo se caracteriza por un
coeficiente de dilatación bajo, una transparencia óptica en una
región espectral amplia y una alta resistencia química y térmica.
Los componentes de cristal de cuarzo se utilizan para numerosas
aplicaciones, como por ejemplo en la fabricación de lámparas como
vainas tubulares, ampollas, placas de cubierta o soportes de
reflector para lámparas y dispositivos de irradiación en la región
espectral ultravioleta, infrarroja y visible. El cristal de cuarzo
se dopa con otras sustancias para producir propiedades
especiales.
Con frecuencia, la estabilidad temporal y el
rendimiento de la radiación de trabajo emitida desempeñan un papel
importante en la fabricación de lámparas. Para reducir al mínimo las
pérdidas de radiación, los radiadores ópticos se proveen de un
reflector. El reflector está unido de forma fija con el radiador o
se trata de un componente reflector dispuesto separado del
radiador. Las superficies de los reflectores de alta calidad, que
se pueden utilizar en un entorno químicamente agresivo sin que se
produzcan deterioros en el material reflector y sin que el factor
de reflexión disminuya de forma apreciable, son de oro.
El documento DE 40 22 100 C1 da a conocer un
componente de este tipo en forma de un radiador infrarrojo equipado
con un reflector de oro. El radiador infrarrojo sirve como panel
radiador y está formado por varios tubos de lámpara de cristal de
cuarzo que están montados sobre una placa de soporte común de
cristal de cuarzo y dentro de los cuales se extiende en cada caso
una espiral de calefacción. La cara superior de esta disposición de
tubos de lámpara constituye la superficie de radiación del panel
radiador infrarrojo. La cara inferior libre de la placa de soporte
de cristal de cuarzo dispuesta enfrente de la cara superior está
provista de una capa reflectora de oro.
En el documento DE 198 22 829 A1 se describe un
radiador infrarrojo de onda corta en el que el tubo de lámpara está
realizado en forma de un, así llamado, tubo gemelo. Una vaina
tubular de cristal de cuarzo está dividida por un alma longitudinal
en dos cámaras parciales paralelas entre sí, y dentro de una o de
las dos cámaras parciales se extiende una espiral de calefacción.
El lado del tubo gemelo opuesto a la dirección principal de la
radiación de IR está revestido con una capa de oro que sirve como
reflector.
Sin embargo, las capas reflectoras de oro son
caras y sólo presentan una resistencia limitada a la temperatura y
los cambios de temperatura.
También se conoce el procedimiento para reducir
la transmisión o para modificar el espectro de ondas luminosas
transmitido consistente en matear ampollas de lámpara, por ejemplo
mediante ataque con ácido o mediante el revestimiento del interior
de la ampolla con un polvo difusor de la luz en forma de partículas,
como por ejemplo una mezcla de arcilla y dióxido de silicio.
El documento
US-A-5766680 describe un
procedimiento para producir una capa estructurada de un material
inorgánico (vítreo, cerámico o vitrocerámico) sobre superficies de
substrato mediante una técnica de sol-gel en la que
se utilizan silanos hidrolizables y policondensables. Opcionalmente,
la capa estructurada puede tener otra función, que se produce
mediante adición de material de carga en partículas finas.
Por consiguiente, la invención tiene por
objetivo poner a disposición un componente, en particular para ser
utilizado en la fabricación de lámparas y reflectores, provisto de
una capa reflectora eficaz, química y térmicamente resistente y no
obstante económica.
La invención también tiene por objetivo indicar
un procedimiento para producir un componente de este tipo.
En lo que respecta al componente, este objetivo
se resuelve según la invención partiendo del componente de cristal
de cuarzo descrito en la introducción y previendo una capa cubriente
de SiO_{2} de un cristal de cuarzo como mínimo parcialmente opaco
que actúa como reflector difusor.
La capa reflectora del componente de cristal de
cuarzo según la invención consiste en un cristal de cuarzo como
mínimo parcialmente opaco. La capa cubriente de SiO_{2} cubre
total o parcialmente el cuerpo de base y actúa como un reflector
óptico difusor. Está hecha totalmente o en su mayor parte de
SiO_{2} dopado o no dopado.
El componente de cristal de cuarzo se utiliza
preferentemente en la fabricación de lámparas y reflectores, donde
se encuentra en forma de un tubo, ampolla, cámara, semiconcha,
segmento esférico o elipsoidal, placa, escudo térmico o similar. El
componente de cristal de cuarzo bien forma parte de un radiador
óptico con reflector integrado, estando formado éste por la capa
cubriente de SiO_{2}, bien constituye un reflector independiente
que se utiliza junto con un radiador óptico.
El cuerpo de base consiste en un cuerpo de
cristal de cuarzo producido con materias primas sintéticas o
naturales. Por regla general, el cuerpo de base es
transparente.
Se ha comprobado que una capa cubriente de un
cristal de cuarzo como mínimo parcialmente opaco presenta un factor
de reflexión que es suficiente para la mayoría de las aplicaciones.
La capa cubriente de SiO_{2} se caracteriza por una excelente
resistencia química y térmica y estabilidad mecánica. Es
especialmente destacable la alta resistencia a los cambios de
temperatura de la capa cubriente de SiO_{2} sobre el cuerpo de
base de cristal de cuarzo.
Además, la capa cubriente de SiO_{2} se puede
producir de forma económica. Más abajo se describe más
detalladamente un método adecuado. Sobre la superficie del cuerpo
de base prevista como reflector se aplica una capa de una barbotina
que contiene partículas de SiO_{2}, a partir de la cual, mediante
secado y vitrificación subsiguiente, se obtiene la capa cubriente
de SiO_{2}. Durante la vitrificación se ha de prestar atención
para que la capa cubriente de SiO_{2} se mantenga como mínimo
parcialmente opaca con el fin de conservar un factor de reflexión
suficiente.
Se ha comprobado que resulta ventajoso que la
capa cubriente de SiO_{2} consista en un material del mismo tipo
que el material del cuerpo de base.
En este contexto, por un "material del mismo
tipo" se entiende que los contenidos de SiO_{2} de la capa
cubriente y el cuerpo de base difieren entre sí como máximo en un
10% en peso, preferentemente como máximo en un 3% en peso. De este
modo se logra una adherencia especialmente buena de la capa
cubriente sobre el cuerpo de base y, en particular, una alta
resistencia a los cambios de temperatura de este conjunto.
En una forma de realización preferente del
componente de cristal de cuarzo según la invención, el cuerpo de
base está configurado como un cuerpo envolvente de cristal de cuarzo
para el alojamiento de un emisor de radiación. El cuerpo envolvente
de cristal de cuarzo rodea un emisor de radiación, como por ejemplo
una espiral de calefacción, una banda de carbono o una carga de gas
emisor de radiación, y al mismo tiempo una parte del cuerpo
envolvente está provista de la capa cubriente de SiO_{2} que
actúa como reflector.
En una primera variante de realización
preferente del componente según la invención, la capa cubriente de
SiO_{2} está prevista en la cara exterior del cuerpo envolvente
orientada en sentido opuesto al emisor de radiación.
De este modo se evitan perjuicios en el emisor
de radiación o en la atmósfera dentro del cuerpo envolvente.
En una segunda variante de realización del
componente según la invención, igualmente preferente, la capa
cubriente de SiO_{2} está prevista en la cara interior del cuerpo
envolvente orientada hacia el emisor de radiación.
La capa reflectora prevista en la cara interior
está en una posición directamente adyacente al emisor de radiación,
con lo que se evitan pérdidas por absorción a través del material
del cuerpo envolvente. Con frecuencia es más fácil aplicar la capa
cubriente sobre la cara interior del cuerpo envolvente que sobre la
cara exterior y, sobre todo, el cuerpo envolvente la protege contra
daños mecánicos.
Las siguientes explicaciones se refieren a una
forma de realización especialmente preferente del componente según
la invención, en la que el SiO_{2} como mínimo parcialmente opaco
contiene un material de dopado que provoca una absorción óptica en
la región espectral ultravioleta, visible o infrarroja y, en
consecuencia, produce una reflexión selectiva de la capa
reflectora.
La capa cubriente de SiO_{2} contiene uno o
más materiales de dopado que provocan una reflexión selectiva de la
capa reflectora. Para ello se utiliza un material de dopado que
provoca en el cristal de cuarzo una o más líneas de absorción en la
región espectral ultravioleta, visible y/o infrarroja. De este modo,
el espectro de ondas luminosas reflejado por la capa reflectora ya
no contiene una parte de la radiación absorbida. En este sentido,
la capa reflectora también actúa como filtro y puede sustituir o
complementar una medida de filtrado por lo demás necesaria, como un
dopado del cristal de cuarzo del cuerpo de base o un revestimiento
con un material de filtro.
La capa cubriente de SiO_{2} reflectora de
forma selectiva en el sentido de la invención se puede producir de
forma económica mediante el procedimiento descrito más a bajo a
través de un proceso de barbotina. Para producir un reflector con
efecto de selección de longitudes de onda, a la barbotina o la capa
cubriente de SiO_{2} porosa se le añaden (antes de la
vitrificación) uno o más materiales de dopado o un producto primario
a partir del cual se forma el material de dopado en el curso del
procesamiento posterior.
Una forma de realización preferente del
componente según la invención con capa reflectora de efecto
selectivo se caracteriza porque la capa cubriente de SiO_{2}
presenta un coeficiente de reflexión de como mínimo 0,3 en la
región espectral de 200 a 300 nm, y porque el material de dopado
produce una línea de absorción óptica en la región espectral por
encima de 300 nm.
Esta forma de realización es especialmente
adecuada para aquellas aplicaciones en las que la radiación de
trabajo reflejada de la región espectral ultravioleta ha de estar
total o parcialmente libre de partes de la región espectral visible
o infrarroja, por ejemplo para reducir el calentamiento por
radiación IR de un artículo irradiado con radiación UV.
Por el coeficiente de reflexión se entiende la
relación de intensidad entre la radiación que incide
perpendicularmente sobre el reflector y la radiación reflejada.
Para la medición de la radiación reflejada difusa es adecuada una
bola de Ulbricht.
En una variante alternativa, pero igualmente
preferente, del componente con capa reflectora de efecto selectivo
está previsto que la capa cubriente de SiO_{2} presente un
coeficiente de reflexión de como mínimo 0,3 en la región espectral
de 400 nm a 800 nm, y que el material de dopado produzca una línea
de absorción óptica en la región espectral infrarroja por encima de
1000 nm.
Esta forma de realización del componente óptico
según la invención con capa reflectora de efecto selectivo es
particularmente adecuada para aquellas aplicaciones en las que la
radiación de trabajo reflejada de la región espectral visible ha de
estar total o parcialmente libre de partes de la región espectral
infrarroja, por ejemplo, para reducir el calentamiento de lámparas
o partes de las mismas, como electrodos y similares, por la
radiación IR.
El material de dopado que produce una absorción
en el cristal de cuarzo en la región espectral infrarroja incluye
preferentemente una o más de las siguientes sustancias: grupos
hidroxilo, V, Yb, Eu, Nd.
Para absorber una mayor proporción de intensidad
y longitudes de onda de la radiación IR en el material reflector,
la capa cubriente de SiO_{2} contiene ventajosamente varios
materiales de dopado del grupo arriba mencionado.
En otra variante preferente del componente está
previsto que la capa cubriente de SiO_{2} presente un coeficiente
de reflexión de como mínimo 0,3 en la región espectral de 1000 nm a
2000 nm, y que el material de dopado produzca una línea de
absorción óptica en la región espectral ultravioleta entre 150 y 400
nm.
Esta forma de realización del componente óptico
según la invención con capa reflectora de efecto selectivo es
particularmente adecuada para aquellas aplicaciones en las que la
radiación de trabajo en la región IR a causa de la reflexión en la
capa reflectora selectiva ha de estar total o parcialmente libre de
partes de la región espectral ultravioleta, por ejemplo para
reducir una proporción de UV eventualmente perjudicial del espectro
luminoso IR en los radiadores de infrarrojos utilizados en el campo
médico, privado o industrial.
En otra variante preferente del componente según
la invención con capa reflectora de efecto selectivo, la capa
cubriente de SiO_{2} presenta un coeficiente de reflexión de como
mínimo 0,3 en la región espectral de 400 nm a 800 nm, y el material
de dopado produce una línea de absorción óptica en la región
espectral ultravioleta entre 150 y 400 nm.
Esta forma de realización está prevista en
particular para aquellas aplicaciones en las que la radiación de
trabajo reflejada de la región espectral visible ha de estar total o
parcialmente libre de partes de la región espectral ultravioleta,
por ejemplo en caso de medios de iluminación como los radiadores
halógenos, en los que se ha de eliminar del espectro luminoso
visible una parte de UV eventualmente nociva para la salud.
El material de dopado que absorbe radiación UV
en el cristal de cuarzo de la capa cubriente de SiO_{2} se
selecciona preferentemente entre el siguiente grupo: Ti, Fe, Ce.
Para absorber una mayor proporción de intensidad
o longitudes de onda de la radiación UV en el material reflector,
la capa cubriente de SiO_{2} contiene ventajosamente varios
materiales de dopado del grupo arriba mencionado.
En otra variante preferente del componente según
la invención con capa reflectora de efecto selectivo, la capa
cubriente de SiO_{2} presenta un coeficiente de reflexión de como
mínimo 0,3 en la región espectral de 600 nm a 800 nm, produciendo
el material de dopado una línea de absorción óptica en la región
espectral visible entre 300 nm y 600 nm.
Esta forma de realización está particularmente
adaptada para aquellas aplicaciones en las que la radiación de
trabajo reflejada de una primera región del espectro visible, que
incluye longitudes de onda más largas, ha de estar total o
parcialmente libre de partes de una segunda región del espectro
visible, que incluye longitudes de onda más cortas. En esta forma
de realización, la capa cubriente de SiO_{2} tiene color debido al
filtrado de partes del espectro luminoso visible por reflexión
selectiva. Esto permite diseñar el componente de cristal de cuarzo
con color. Por ejemplo, el cristal de cuarzo se ve rojo si se
reflejan sólo o preponderantemente componentes rojas del espectro
luminoso incidente y las partes con longitudes de onda más cortas de
la luz visible son absorbidas total o parcialmente por el material
reflector.
Un material de dopado adecuado para la absorción
en la región de onda corta de la región espectral visible es por
ejemplo el Cu o el Sm.
Por el contrario, para otras aplicaciones
ópticas resulta ventajoso que la radiación de trabajo reflejada de
una región del espectro visible que incluye longitudes de onda más
cortas, como por ejemplo de 300 a 400 nm, esté total o parcialmente
libre de partes de una región espectral visible con longitudes de
onda más largas, por ejemplo por encima de 400 nm. Esto se puede
lograr mediante el componente según la invención por ejemplo
dopando el material reflector con Nd.
En una forma de realización especialmente
preferente del componente según la invención con capa reflectora de
efecto selectivo, la capa cubriente de SiO_{2} contiene partículas
cristalinas nanométricas.
A causa de su tamaño y composición, las
partículas cristalinas nanométricas generan efectos ópticos
especiales, como por ejemplo dispersión, polarización o absorción.
Se añaden a la barbotina durante la producción de la capa cubriente
de SiO_{2} y no se funden durante la sinterización o vitrificación
de la capa de barbotina.
Preferentemente, las partículas cristalinas
nanométricas consisten en diamante o nanotubos de carbono.
Éstos consisten en modificaciones de carbono de
alto punto de fusión que se comportan de forma químicamente inerte
en el cristal de cuarzo. Los nanotubos de carbono son pequeñas
formaciones tubulares microscópicas, también conocidas como
"carbon nanotubes".
Los efectos ópticos de las partículas
cristalinas nanométricas resaltan más si la capa cubriente de
SiO_{2} presenta áreas transparentes. En este caso, la opacidad
remanente de la capa cubriente de SiO_{2} se basa total o
parcialmente en las partículas cristalinas nanométricas
añadidas.
Cuanto más gruesa es la capa cubriente de
SiO_{2}, más completa es la reflexión de la radiación. Sin
embargo, los espesores de capa de más de 3 mm son difíciles de
producir y el efecto adicional del mayor espesor de capa apenas es
perceptible. En caso de espesores de capa de SiO_{2} con espesores
de menos de 0,1 mm se requieren altas concentraciones del material
de dopado, lo que puede modificar de forma desventajosa las
propiedades físicas y químicas del cristal de cuarzo y la capa
cubriente.
Mediante la aplicación de capas sucesivas con
propiedades ópticas diferentes se pueden lograr efectos ópticos
especiales, por ejemplo supresión de reflejos o creación de
diferentes desarrollos de absorción dentro de la capa cubriente de
SiO_{2}.
En lo que respecta al procedimiento, el objetivo
arriba indicado se resuelve según la invención partiendo del
procedimiento mencionado en la introducción de la siguiente manera:
se produce una barbotina que contiene partículas de SiO_{2}
amorfas y se aplica sobre la superficie del cuerpo de base formando
una capa de barbotina, la capa de barbotina se seca y a
continuación se vitrifica formando la capa cubriente de
SiO_{2}.
En el procedimiento según la invención, el
cuerpo de base de cristal de cuarzo se provee de una capa cubriente
de SiO_{2} mediante un procedimiento de colado de barbotina. Un
desafío técnico particular consiste en evitar el resquebrajamiento
de la capa de barbotina durante el secado o la vitrificación, a
pesar de que el volumen de la capa disminuye sin que el cristal de
cuarzo del cuerpo de base pueda ceder correspondientemente.
Para ello, en primer lugar se produce una
barbotina fácil de colar que contiene partículas de SiO_{2}
amorfas. La barbotina se aplica sobre el cuerpo de base como
"capa de barbotina" y a continuación se seca y se vitrifica.
Debido a las interacciones entre sí, las partículas de SiO_{2}
amorfas ya estabilizan la capa de barbotina en estado pastoso y
seco y favorecen la actividad de sinterización, lo que posibilita la
sinterización de la capa de barbotina seca a una temperatura
relativamente baja formando una capa cubriente de SiO_{2} densa y
sin fisuras. Las partículas de SiO_{2} consisten en SiO_{2}
producido sintéticamente o en una materia prima natural purificada,
tal como se describe por ejemplo en el documento DE 44 40 104
C2.
Además de las partículas de SiO_{2} amorfas,
la barbotina también puede contener componentes precursores para la
formación de partículas de SiO_{2}. Se trata de compuestos de
silicio hidrolizables como los utilizados en procedimientos de
sol-gel para la producción de SiO_{2}. Los
componentes precursores de este tipo forman a través de su
hidrólisis compuestos moleculares en la capa de barbotina, producen
una solidificación y facilitan de este modo la sinterización. Sin
embargo, en altas concentraciones también conducen a una alta
contracción de secado y pueden contribuir a la formación de
fisuras, lo que limita la proporción de componentes precursores de
este tipo en la bar-
botina.
botina.
El tamaño y la distribución de las partículas de
SiO_{2} influyen en la contracción de secado de la capa de
barbotina. Por ejemplo, utilizando partículas de SiO_{2} más
gruesas se puede reducir la contracción de secado.
El secado de la capa de barbotina tiene lugar
mediante eliminación de humedad a temperatura ambiente, mediante
calentamiento o mediante liofilización. Después del secado, la capa
de barbotina se vitrifica calentándola a una temperatura elevada
que conduce a una sinterización de las partículas de SiO_{2} y a
la formación de una capa cubriente, densa y sin fisuras, de cristal
de cuarzo opaco o parcialmente opaco que cubre toda la superficie
del cuerpo de base o una parte de ella.
Mediante el procedimiento según la invención se
pueden producir capas cubrientes de SiO_{2} de alta densidad, por
lo que este procedimiento ofrece una posibilidad preferente para la
producción de la capa reflectora de SiO_{2} como mínimo
parcialmente opaca.
Preferentemente, para la formación de la capa
cubriente se utilizan partículas de SiO_{2} que presentan tamaños
hasta como máximo 500 \mum, preferentemente como máximo 100
\mum, estando formada la mayor parte del volumen por partículas
de SiO_{2} con tamaños entre 1 \mum y 50 \mum.
Las partículas de SiO_{2} de esta gama de
tamaños presentan un comportamiento de sinterización ventajoso y
una contracción de secado relativamente baja. Se ha comprobado que,
con una barbotina de este tipo, la capa de barbotina se puede secar
y vitrificar de forma especialmente sencilla sin formación de
fisuras. Esto se puede deber a una contracción de secado
suficientemente baja y a las interacciones de las partículas de
SiO_{2} entre sí, que puede llegar a conducir a la formación de
enlaces de SiO_{2} moleculares y facilitan el secado y la
sinterización.
A ello contribuyen la naturaleza polar de la
fase acuosa de la barbotina y un procedimiento en el que las
partículas de SiO_{2} se producen mediante molienda en húmedo de
los granos de SiO_{2} iniciales.
La distribución granulométrica deseada se ajusta
mediante el proceso de homogeneización de la barbotina, reduciéndose
el tamaño de las partículas de SiO_{2} durante la homogeneización
en función de su grado de solidificación partiendo de granos
relativamente gruesos, por ejemplo con diámetros entre 200 \mum y
5000 \mum. Durante la molienda en húmedo, dentro de la barbotina
acuosa se forman partículas de SiO_{2} de todos los tamaños,
también partículas que debido a las interacciones entre sí ya forman
en la barbotina los enlaces arriba descritos, lo que mejora la
estabilidad de la capa de barbotina.
La proporción de cristobalita en la capa de
barbotina de SiO_{2} seca debería ser como máximo del 1% en peso,
ya que, de lo contrario, durante la vitrificación de la capa de
barbotina se puede producir una cristalización que puede hacer que
el componente tenga que ser desechado. En este contexto es esencial
la utilización de partículas de SiO_{2} amorfas desde un
principio.
Para la aplicación de la capa de barbotina son
adecuados los procedimientos conocidos, como por ejemplo
pulverización, pulverización con apoyo electrostático, riego,
inmersión o extensión. No obstante, la capa de barbotina se produce
preferentemente mediante inmersión.
Una rugosificación previa de la superficie del
cuerpo de base puede mejorar la adherencia tanto de la capa de
barbotina como de la capa cubriente de SiO_{2} densa producida por
vitrificación de ésta.
El riesgo de formación de fisuras durante la
vitrificación también se puede reducir mediante un control adecuado
de la temperatura. Preferentemente, la vitrificación de la capa de
barbotina seca tiene lugar a una temperatura máxima relativamente
baja, entre 1000ºC y 1600ºC, preferentemente entre 1100ºC y 1400ºC.
En una variante de procedimiento especialmente preferente, la
vitrificación de la capa de barbotina seca tiene lugar en una
atmósfera de hidrógeno.
Debido a su alta tasa de difusión en el cristal
de cuarzo, el hidrógeno es especialmente adecuado para una
transferencia térmica. Mediante un buen transporte del calor se
logra que entre la alta temperatura de la superficie y la baja
temperatura del interior de la capa cubriente de SiO_{2} o del
área todavía no vitrificada de la capa de barbotina seca porosa se
forme un gradiente de temperatura lo más plano posible. De este modo
se asegura un avance del frente de fusión desde afuera hacia
adentro y, con ello, que la vitrificación también tenga lugar en
las zonas interiores de la capa de barbotina, incluso en caso de
temperaturas de vitrificación bajas. Para ello es suficiente un
contenido de hidrógeno de como mínimo el 70%. Además de hidrógeno,
la atmósfera para la vitrificación también puede contener por
ejemplo nitrógeno y preferentemente helio. Si la acción del calor
durante la vitrificación ha de ser corta y estar limitada
esencialmente a las zonas cubiertas por una capa de barbotina de
SiO_{2} a vitrificar, para la vitrificación también se puede
utilizar una llama de soplete o un láser. De este modo se evitan en
gran medida las deformaciones plásticas del componente.
El espesor de la capa cubriente de SiO_{2} se
puede aumentar sucesivamente realizando varias veces el
procedimiento según la invención.
También ha dado buen resultado añadir a la
barbotina materiales de dopado en forma de compuestos con contenido
de aluminio, nitrógeno o carbono.
En esta variante de procedimiento, en la capa
cubriente de SiO_{2} se incorporan uno o más materiales de dopado
que otorgan al cristal de cuarzo una propiedad específica, como por
ejemplo una reducción de la absorción y, en consecuencia, una
mejora de la reflexión.
Por ejemplo, una adición de aluminio produce
Al_{2}O_{3} en el cristal de cuarzo de la capa cubriente, que
refuerza la estructura de cristal y con ello la resistencia térmica
de la capa cubriente y además modifica el índice de refracción. Las
sustancias de partida adecuadas se distribuyen de forma
especialmente homogénea en la barbotina, de lo que resulta un
dopado homogéneo del cristal de cuarzo de la capa cubriente.
La capa cubriente de SiO_{2} producida de este
modo se caracteriza por una alta fuerza de adherencia sobre cristal
de cuarzo y sus propiedades se pueden modificar fácilmente y adaptar
a numerosas aplicaciones concretas mediante cambios sencillos en el
procedimiento, por ejemplo en la temperatura de vitrificación o en
la adición de materiales de dopado.
Para producir una capa reflectora de efecto
selectivo (como se ha descrito más arriba en relación con el
componente según la invención), en la barbotina se introduce
preferentemente un material de dopado que provoca en el cristal de
cuarzo una absorción óptica en la región espectral ultravioleta,
visible o infrarroja, logrando de este modo una reflexión selectiva
de la capa reflectora.
El material de dopado se distribuye
uniformemente en la barbotina, lo que al fin y al cabo conduce a un
dopado especialmente homogéneo del cristal de cuarzo de la capa
cubriente. No obstante también es posible incorporar el material de
dopado en la capa de barbotina líquida, seca o presinterizada,
siempre que ésta no sea porosa.
La invención se explica más detalladamente a
continuación con referencia a ejemplos de realización y a dibujos.
Los dibujos muestran en particular:
la figura 1 una representación esquemática de
una placa reflectora de cristal de cuarzo con una capa reflectora
en forma de una capa cubriente de SiO_{2} en sección
transversal;
la figura 2 una representación esquemática de un
radiador infrarrojo en forma de un radiador de tubo gemelo, con una
vaina tubular cuya cara superior está cubierta parcialmente con una
capa de barbotina o con una capa reflectora;
la figura 3 un perfil de calentamiento para la
vitrificación de una capa de barbotina sobre un cuerpo de base de
cristal de cuarzo;
la figura 4 una curva de reflexión de una capa
cubriente de SiO_{2} dopada con aluminato de
cerio-praseodimio; y
la figura 5 un diagrama con varias curvas de
reflexión para comparar.
Se preparara una barbotina básica. Para una
carga de 10 kg de barbotina básica (barbotina de
SiO_{2}-agua), en un molino de tambor revestido
con cristal de cuarzo con una capacidad volumétrica de
aproximadamente 20 litros se mezclan 8,2 kg de granos de cristal de
cuarzo amorfo de origen natural con tamaños de grano entre 250
\mum y 650 \mum y 1,8 kg de agua desionizada con una
conductividad inferior a 3 \muS. Esta mezcla se muele durante 3
días mediante bolas de molienda de cristal de cuarzo sobre un
soporte de rodillos a 23 r.p.m. hasta que se forma una barbotina
básica homogénea con un contenido de sólidos del 79%. Durante la
molienda se produce una bajada del valor pH a aproximadamente 4
debido a la disolución del SiO_{2}.
La barbotina básica homogénea y estable así
obtenida se mezcla con otros granos de SiO_{2} amorfos en forma
de partículas esféricas con un tamaño de alrededor de 5 \mum,
hasta alcanzar un contenido de sólidos del 84% en peso. La mezcla
se homogeneiza durante 12 horas en un molino de tambor a una
velocidad de 25 r.p.m. La barbotina así obtenida tiene un contenido
de sólidos del 84% y una densidad de aproximadamente 2,0 g/cm^{3}.
Las partículas de SiO_{2} obtenidas en la barbotina 14 después de
la molienda de los granos de cristal de cuarzo presentan una
distribución granulométrica caracterizada por un valor D_{50} de
aproximadamente 8 \mum y un valor D_{90} de aproximadamente 40
\mum. Esta barbotina es dilatante. La propiedad reológica de la
barbotina designada como "dilatancia" se demuestra por el hecho
de que su viscosidad aumenta en función de la velocidad de
cizallamiento. A causa de ello, la viscosidad aumenta cuando ya no
hay fuerzas de cizallamiento (después de aplicar la barbotina como
capa de barbotina sobre el componente de cristal de cuarzo), lo que
facilita la formación de una capa de barbotina uniforme.
En la barbotina se sumerge durante unos segundos
una placa de cristal de cuarzo con la que se ha de producir una
placa reflectora para un radiador IR. La superficie de la placa de
cristal de cuarzo se había limpiado previamente con alcohol y
ajustado a una rugosidad media R_{a} de 2 \mum mediante ataque
químico (congelación). De este modo, sobre la placa de cristal de
cuarzo se forma una capa cerrada y uniforme de barbotina con un
espesor de aproximadamente 2,5 mm. Esta capa de barbotina se seca al
aire primero durante aproximadamente 5 horas a temperatura ambiente
y a continuación mediante un radiador IR. La capa de barbotina seca
está libre de fisuras y presenta un espesor medio de algo menos de
2,2 mm.
A continuación, la capa de barbotina seca así
producida se vitrifica bajo atmósfera de aire en un horno de
sinterización. El perfil de calentamiento incluye una rampa de
calentamiento inicialmente muy inclinada, durante la cual la capa
de barbotina se calienta desde la temperatura ambiente a una
temperatura de calentamiento inferior de 1000ºC en un plazo de una
hora. La capa de barbotina se mantiene a la temperatura de
calentamiento inferior durante una hora y después, a través de una
segunda rampa de calentamiento poco inclinada, se calienta a una
temperatura de calentamiento superior de 1350ºC en un plazo de
cuatro horas. En el ejemplo de realización, la temperatura de
calentamiento superior se mantiene durante dos horas. Después, la
capa de barbotina está completamente sinterizada, es opaca y, según
se puede observar a simple vista, está libre de burbujas.
El enfriamiento subsiguiente se lleva a cabo en
el horno bajo atmósfera de aire hasta una temperatura de 500ºC con
un índice de enfriamiento regulado de 15ºC/min, y después por
enfriamiento libre manteniendo el horno cerrado.
La placa reflectora así obtenida está
representada esquemáticamente en la figura 1. Consiste en la placa
de cristal de cuarzo 8 con unas dimensiones de 300 mm x 300 mm x 2
mm, cuyas caras planas están completamente cubiertas por una capa
cubriente de SiO_{2} que consiste en cristal de cuarzo opaco y
presenta un espesor de capa medio de alrededor de 2 mm, y que se
caracteriza por la ausencia de fisuras y por una alta densidad de
aproximadamente 2,15 g/cm^{3}. La capa cubriente de SiO_{2} está
dibujada con un espesor exagerado en la figura 1 para facilitar su
representación.
Esta placa reflectora es térmicamente resistente
hasta temperaturas de más de 1100ºC y se puede utilizar por ejemplo
en sustitución de las placas reflectoras de molibdeno empleadas
normalmente para aplicaciones de alta temperatura de este tipo.
En lugar de producir una capa cubriente de
SiO_{2} opaca por ambos lados de la placa de cristal de cuarzo,
ésta también puede estar provista de una capa de este tipo por un
solo lado. En este caso, la aplicación de la capa de barbotina
tiene lugar preferentemente mediante pulverización en lugar del
procedimiento de inmersión arriba descrito.
La capa cubriente de SiO_{2} 9 produce una
reflexión difusa omnidireccional en límites de fase. Mediante una
geometría curvada o convexa del componente, como es habitual en los
reflectores, se puede establecer una porción direccional en la
reflexión difusa.
Se prepara una barbotina básica tal como se
describe en el ejemplo 1, que se utiliza para producir una capa
reflectora sobre una vaina tubular para un radiador infrarrojo en
forma de un, así llamado, "tubo gemelo" de cristal de
cuarzo.
En la figura 2 está representado
esquemáticamente un tubo gemelo de este tipo. Éste consiste en una
vaina tubular 1 de cristal de cuarzo con sección transversal en
forma de 8, que está dividida por una alma central 2 en dos cámaras
parciales 3, 4. Las cámaras parciales 3, 4 sirven para alojar en
cada caso una espiral de calefacción, y las conexiones eléctricas
salen de la vaina tubular 1 a través de aplastamientos del extremo
de ésta (no representados en la figura 2). En el ejemplo de
realización, la dirección de radiación principal del tubo gemelo 9
está orientada hacia abajo y está simbolizada por la flecha 5.
En la cara superior 6 del tubo gemelo 9
orientada en sentido opuesto a la dirección de radiación principal
5 se ha de formar un reflector. Para ello, la superficie del tubo
gemelo 9 se limpia con alcohol y a continuación con ácido
fluorhídrico al 30% para eliminar otras impurezas superficiales, en
particular compuestos alcalinos y alcalinotérreos.
Después se aplica la barbotina básica sobre la
cara superior 6 de la vaina tubular 1. Para ello, la vaina tubular
1 se monta sobre un dispositivo de soporte y sobre la cara superior
se pulveriza la barbotina muy fluida mediante una boquilla
pulverizadora. El proceso de pulverización finaliza cuando se ha
alcanzado un recubrimiento uniforme. La barbotina se seca muy
rápidamente al aire. El espesor de la capa de barbotina 7 así
producida es de aproximadamente 1 mm.
A continuación, la capa de barbotina 7 se seca
lentamente al aire a lo largo de 6 horas. el secado completo se
lleva a cabo al aire utilizando un radiador IR. La capa de barbotina
7 seca está libre de fisuras y tiene un espesor máximo de
aproximadamente 0,9 mm.
A continuación, la capa de barbotina 7 seca se
vitrifica en un horno de sinterización bajo atmósfera de aire. El
perfil de calentamiento para la vitrificación de la capa de
barbotina 7 está representado en la figura 3. Incluye una rampa de
calentamiento, durante la cual la capa de barbotina 7 se calienta
desde la temperatura ambiente a una temperatura de calentamiento
inferior de 1000ºC en un plazo de una hora. El componente se
mantiene a esta temperatura de calentamiento durante una hora. A
continuación tiene lugar un calentamiento lento durante 4 horas
hasta alcanzar una temperatura final de 1400ºC, que se mantiene
durante dos horas. El enfriamiento se lleva a cabo con una rampa de
enfriamiento de 15ºC/min hasta una temperatura de horno de 500ºC y
después de forma no regulada y manteniendo el horno cerrado.
La capa de barbotina ser sinteriza y solidifica
por completo mediante este tratamiento térmico, y la capa cubriente
de SiO_{2} 7a resultante presenta una alta densidad,
aproximadamente 2,15 g/cm^{3}, pero sigue siendo esencialmente
opaca. La opacidad se demuestra por el hecho de que la transmisión
espectral directa en la región espectral entre 190 nm y 2650 nm es
inferior al 10%. En consecuencia resulta un factor de reflexión
elevado, de alrededor de un 80%, en la región espectral
infrarroja.
El tubo gemelo 9 se utiliza para producir un
radiador infrarrojo, y la capa cubriente de SiO_{2} 7a producida
sobre él es adecuada como capa reflectora también para altas
temperaturas (superiores a 1000ºC).
Las posibilidades de utilización de componentes
de cristal de cuarzo provistos de un reflector difuso de este tipo
en forma de una capa cubriente de SiO_{2} no se limitan a la
fabricación de lámparas. Los reflectores de este tipo también se
utilizan como componentes independientes, por ejemplo para
radiadores en sistemas de análisis o para instalaciones de
calefacción en la fabricación de células solares.
\newpage
Se produce una barbotina de SiO_{2} homogénea
tal como se describe en el ejemplo 1. A esta barbotina se le añade
un 1,25% en peso de aluminato de cerio-praseodimio
(Ce_{0,4}Pr_{0,6}AlO_{3}). La proporción de cerio se elige de
tal modo que en la posterior capa cubriente de SiO_{2} represente
aproximadamente un 0,32% en peso y la proporción de praseodimino
sea de aproximadamente el 0,49% en peso.
Esta mezcla se procesa tal como se describe en
el ejemplo 1, incluyendo la adición y mezcla de granos de SiO_{2}
esféricos amorfos con un tamaño de 5 \mum y la homogeneización
subsiguiente en un molino de tambor.
La barbotina así obtenida tiene un contenido de
sólidos de un 84% y una densidad de aproximadamente 2,0 g/cm^{3}.
Las partículas de SiO_{2} obtenidas en la barbotina 14 después de
la molienda de los granos de cristal de cuarzo presentan una
distribución granulométrica caracterizada por un valor D_{50} de
aproximadamente 8 \mum y un valor D_{90} de aproximadamente 40
\mum. Se utiliza para revestir una placa de cristal de cuarzo con
la que se ha de producir una placa reflectora para un radiador IR.
Para ello, la barbotina se aplica sobre la placa de cristal de
cuarzo previamente limpiada con alcohol y ajustada a una rugosidad
media R_{a} de 2 \mum mediante ataque químico (congelación),
con lo que se forma una capa cerrada y uniforme de barbotina con un
espesor de aproximadamente 2,5 mm. Esta capa de barbotina se seca al
aire primero durante aproximadamente 5 horas a temperatura ambiente
y a continuación mediante un radiador IR. La capa de barbotina seca
está libre de fisuras y presenta un espesor medio de
aproximadamente de 2,2 mm. A continuación, la capa de barbotina así
producida y secada se vitrifica en un horno de sinterización bajo
atmósfera de aire, tal como se describe en el ejemplo 1.
Después, la capa de barbotina está completamente
sinterizada, es opaca y, según se puede observar a simple vista,
está libre de burbujas.
El enfriamiento subsiguiente se lleva a cabo en
el horno bajo atmósfera de aire hasta una temperatura de 500ºC con
un índice de enfriamiento regulado de 15ºC/min, y después por
enfriamiento libre manteniendo el horno cerrado.
Se obtiene una placa reflectora cuyas caras
planas están completamente cubiertas por una capa cubriente de
SiO_{2} que consiste en cristal de cuarzo opaco y presenta un
espesor de capa medio de alrededor de 2 mm, y que se caracteriza
por la ausencia de fisuras y por una alta densidad de
aproximadamente 2,15 g/cm^{3}, y cuya curva de reflexión en la
región espectral entre 200 y 800 nm está representada en la figura
4. En el eje "y" está representado el factor de reflexión
"R" en%, que se refiere a la relación de intensidad entre la
radiación reflejada y la radiación que incide sobre la capa
cubriente de SiO_{2}, y en el eje "x" su longitud de onda
\lambda en nm. La muestra presenta una reflexión superior a un 90%
en la región espectral infrarroja (no mostrada) y en la región
espectral visible hasta aproximadamente 350 nm. En la región
espectral ultravioleta por debajo de 350 nm, la reflexión disminuye
hasta un porcentaje bajo debido a la absorción provocada por el
material de dopado añadido. Únicamente queda una reflexión residual
algo mayor, con un máximo de aproximadamente un 10%, en la región
espectral entre 250 y 270 nm.
Por consiguiente, si la placa reflectora se
utiliza para reflejar radiación de trabajo infrarroja, la mayor
parte de la radiación UV es absorbida por la capa cubriente de
SiO_{2} y en consecuencia queda eliminada del espectro de
longitudes de onda reflejado.
La capa cubriente de SiO_{2} provoca una
reflexión difusa, omnidireccional y selectiva en cuanto a las
longitudes de onda. Mediante una geometría curvada o convexa del
componente, como es habitual en los reflectores, se puede
establecer una porción direccional en la reflexión difusa.
Se produce una barbotina tal como se describe en
el ejemplo 4, pero en lugar del material de dopado aluminato de
cerio-praseodimio (Ce_{0,4}Pr_{0,6}AlO_{3}) se
añade una mezcla de polvo de Al_{2}O_{3} y Fe_{2}O_{3},
cuya cantidad se elige de tal modo que en la posterior capa
cubriente de SiO_{2} la proporción de aluminio sea de
aproximadamente el 3% en peso y la proporción de Fe sea de
aproximadamente 10 ppm en peso.
La barbotina se aplica, seca y vitrifica sobre
una cara plana de una placa de cristal de cuarzo, tal como se
describe más arriba en el ejemplo 4. Se obtiene una placa reflectora
que presenta en una de sus caras planas un revestimiento de capa
cubriente de SiO_{2}, que consiste en un cristal de cuarzo opaco y
presenta un espesor de capa medio de alrededor de 2 mm, y que se
caracteriza por la ausencia de fisuras y por una alta densidad de
aproximadamente 2,15 g/cm^{3}.
Después de la vitrificación de la capa de
barbotina seca en el horno de sinterización bajo atmósfera de aire
se obtiene una capa cubriente de SiO_{2} opaca que presenta una
alta absorción y una reflexión reducida prácticamente en toda la
región espectral entre 200 nm y 3000 nm. Únicamente en la región
espectral alrededor de 700 nm se mide un factor de reflexión bajo
inferior al 60%.
Se produce una capa cubriente de SiO_{2} sobre
una placa de cristal de cuarzo tal como se describe en el ejemplo
5. Sin embargo, la vitrificación de la capa de barbotina no se lleva
a cabo bajo atmósfera de aire, sino mediante calentamiento a una
temperatura de calentamiento superior de 1300ºC a lo largo de cuatro
horas bajo atmósfera reductora en presencia de hidrógeno.
Este tratamiento modifica claramente el
comportamiento de reflexión de la capa cubriente de SiO_{2} con
respecto al ejemplo 5. En la región espectral de 400 nm a 700 nm se
observa un factor de reflexión suficientemente alto: alrededor del
75%. Sin embargo, la absorción en la región UV por debajo de 300 nm
y en la región IR por encima de 1000 nm no varía de forma
notable.
Por consiguiente, el reflector es adecuado para
la reflexión de radiación de trabajo en la región espectral
visible, y la mayor parte de la radiación UV y de la radiación IR es
absorbida por la capa cubriente de SiO_{2} y, en consecuencia,
eliminada del espectro de longitudes de onda reflejado. De este modo
se evita el calentamiento del objeto iluminado. Para la disipación
del calor formado en el reflector se pueden prever las medidas de
refrigeración conocidas.
Se produce una barbotina tal como se describe en
el ejemplo 5, pero en lugar de una mezcla de materiales de dopado
de Al_{2}O_{3} y Fe_{2}O_{3} sólo se añade un polvo de
Fe_{2}O_{3}, cuya cantidad se elige de tal modo que la
proporción de Fe en la posterior capa cubriente de SiO_{2} sea de
aproximadamente 8 ppm en peso.
La barbotina se procesa para producir una capa
cubriente de SiO_{2} vitrificada de 2 mm de espesor sobre una
placa de cristal de cuarzo, tal como se describe en el ejemplo 5. El
comportamiento de reflexión de la capa cubriente de SiO_{2}
dopada con hierro en la región espectral de 240 a 850 nm está
representado en la figura 5 mediante la curva 52. El diagrama de la
figura 5 muestra curvas de reflexión de dos capas cubrientes de
SiO_{2} diferentes de acuerdo con la presente invención en
comparación con la curva de reflexión de una capa de oro en la
región espectral entre 240 nm y 850 nm. En el eje "y" está
representado el factor de reflexión "R" en unidades relativas
(con respecto a la reflectividad del revestimiento de teflón de la
bola de Ulbricht), y en el eje "x" la longitud de onda
\lambda de la radiación de trabajo
en nm.
en nm.
La curva 51 muestra el desarrollo de la
reflexión en el caso de una capa de oro aplicada por metalización
al vacío; la curva 52 muestra el desarrollo de la reflexión en el
caso de una capa cubriente de SiO_{2} de 2 mm de espesor
producida según el ejemplo 7, en la que, por consiguiente, el
cristal de cuarzo está dopado con o ppm en peso de Fe, habiendo
tenido lugar la vitrificación bajo atmósfera de aire; y la curva 53
muestra el desarrollo de la reflexión en caso de una capa cubriente
de SiO_{2} de 2 mm de espesor producida según el ejemplo 1 con
SiO_{2} no dopado.
Se puede observar que la capa cubriente de
SiO_{2} no dopado (curva 53) presenta un factor de reflexión R
más o menos uniforme de alrededor del 80% en la región espectral
entre 250 y 850 nm. En esta región espectral, el factor de
reflexión R es mayor que el factor de reflexión R del revestimiento
de oro (curva 51). La capa cubriente de SiO_{2} dopada con hierro
(curva 52) muestra un claro descenso de la reflexión en la región
espectral ultravioleta (con longitudes de onda por debajo de 350
nm). Por consiguiente, la capa cubriente de SiO_{2} dopada con
hierro es adecuada para la eliminación selectiva de la porción de UV
de la radiación reflejada de una lámpara.
Claims (21)
1. Componente con una capa reflectora que
constituye un reflector para un radiador óptico o una parte de un
radiador óptico y que incluye un cuerpo de base de cristal de cuarzo
cuya superficie está revestida como mínimo parcialmente con una
capa reflectora, caracterizado porque está prevista una capa
cubriente de SiO_{2} como mínimo parcialmente opaco (7a; 9) que
actúa como reflector difusor, y la capa cubriente de SiO_{2} (7a;
9) consiste en un material del mismo tipo que el material del cuerpo
de base (1; 8), diferenciándose los contenidos de SiO_{2} de la
capa cubriente y del cuerpo de base como máximo en un 3% en
peso.
2. Componente según la reivindicación 1,
caracterizado porque el cuerpo de base está configurado como
un cuerpo envolvente de cristal de cuarzo (1) para el alojamiento
de un emisor de radiación.
3. Componente según la reivindicación 2,
caracterizado porque la capa cubriente de SiO_{2} (7a) está
prevista sobre la cara exterior (6) del cuerpo envolvente de
cristal de cuarzo (1) orientada en sentido opuesto al emisor de
radiación.
4. Componente según la reivindicación 2,
caracterizado porque la capa cubriente de SiO_{2} (7a) está
prevista sobre la cara interior (6) del cuerpo envolvente de
cristal de cuarzo (1) orientada hacia el emisor de radiación.
5. Componente según una de las reivindicaciones
anteriores, caracterizado porque el SiO_{2} como mínimo
parcialmente opaco contiene un material de dopado que provoca una
absorción óptica en la región espectral ultravioleta, visible o
infrarroja, produciendo de este modo una reflexión selectiva de la
capa reflectora.
6. Componente según la reivindicación 5,
caracterizado porque la capa cubriente de SiO_{2} presenta
un coeficiente de reflexión de como mínimo 0,3 en la región
espectral de 200 a 300 nm, y porque el material de dopado produce
una línea de absorción óptica en la región espectral por encima de
300 nm.
7. Componente según la reivindicación 5,
caracterizado porque la capa cubriente de SiO_{2} presenta
un coeficiente de reflexión de como mínimo 0,3 en la región
espectral de 400 nm a 800 nm, y porque el material de dopado
produce una línea de absorción óptica en la región espectral
infrarroja por encima de 1000 nm.
8. Componente según una de las reivindicaciones
5 a 7, caracterizado porque el material de dopado incluye
una o más de las siguientes sustancias: grupos hidroxilo, V, Yb, Eu
y Nd.
9. Componente según la reivindicación 5,
caracterizado porque la capa cubriente de SiO_{2} presenta
un coeficiente de reflexión de como mínimo 0,3 en la región
espectral de 1000 nm a 2000 nm, y porque el material de dopado
produce una línea de absorción óptica en la región espectral
ultravioleta entre 150 y 400 nm.
10. Componente según la reivindicación 5 o la
reivindicación 7, caracterizado porque la capa cubriente de
SiO_{2} presenta un coeficiente de reflexión de como mínimo 0,3 en
la región espectral de 400 nm a 800 nm, y porque el material de
dopado produce una línea de absorción óptica en la región espectral
ultravioleta entre 150 y 400 nm.
11. Componente según una de las reivindicaciones
5, 9 ó 10, caracterizado porque el material de dopado incluye
una o más de las siguientes sustancias: Ti, Fe y Ce.
12. Componente según la reivindicación 5 o la
reivindicación 10, caracterizado porque la capa cubriente de
SiO_{2} presenta un coeficiente de reflexión de como mínimo 0,3 en
la región espectral de 600 nm a 800 nm, y porque el material de
dopado produce una línea de absorción óptica en la región espectral
visible entre 300 y 600 nm.
13. Componente según la reivindicación 5 ó 12,
caracterizado porque el material de dopado incluye una o más
de las siguientes sustancias: Cu, Sm y Nd.
14. Componente según una de las reivindicaciones
anteriores, caracterizado porque la capa cubriente de
SiO_{2} contiene partículas cristalinas nanométricas.
15. Componente según la reivindicación 14,
caracterizado porque las partículas cristalinas nanométricas
consisten en diamante o nanotubos de carbono.
16. Componente según una de las reivindicaciones
anteriores, caracterizado porque la capa cubriente de
SiO_{2} contiene aluminio, nitrógeno o carbono.
17. Procedimiento para producir un componente de
cristal de cuarzo con capa reflectora que constituye un reflector
para un radiador óptico o una parte de un radiador óptico, en el que
la superficie de un cuerpo de base (1; 8) de cristal de cuarzo se
reviste como mínimo parcialmente con una capa reflectora (7a; 9),
caracterizado porque se produce una barbotina acuosa que
contiene partículas de SiO_{2} amorfas y se aplica sobre la
superficie del cuerpo de base (1; 8) formando una capa de barbotina
(7), la capa de barbotina (7) se seca y a continuación se vitrifica
formando la capa cubriente de SiO_{2} (7a, 9), que consiste en un
material del mismo tipo que el material del cuerpo de base (1; 8),
diferenciándose los contenidos de SiO_{2} de la capa cubriente y
del cuerpo de base como máximo en un 3% en peso, y produciéndose las
partículas de SiO_{2} mediante molienda en húmedo de granos de
SiO_{2} de partida.
18. Procedimiento según la reivindicación 17,
caracterizado porque las partículas de SiO_{2} presentan
tamaños hasta como máximo 500 \mum, preferentemente como máximo
100 \mum, estando formada la mayor parte del volumen por
partículas de SiO_{2} con tamaños entre 1 \mum y 50 \mum.
19. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 17 ó 18, caracterizado porque la
vitrificación de la capa de barbotina seca (7a) tiene lugar en una
atmósfera de hidrógeno.
20. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 17 a 19, caracterizado porque a la barbotina
se le añaden materiales de dopado en forma de compuestos con
contenido de aluminio, nitrógeno o carbono.
21. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 17 a 20, caracterizado porque en la
barbotina se incorpora como mínimo un material de dopado que
provoca una absorción óptica en la región espectral ultravioleta,
visible o infrarroja, produciendo de este modo una reflexión
selectiva de la capa reflectora.
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004040833 | 2004-08-23 | ||
DE102004040833 | 2004-08-23 | ||
DE102004051846A DE102004051846B4 (de) | 2004-08-23 | 2004-10-26 | Bauteil mit einer Reflektorschicht sowie Verfahren für seine Herstellung |
DE102004051846 | 2004-10-26 | ||
DE102005016732 | 2005-04-11 | ||
DE102005016732A DE102005016732A1 (de) | 2004-10-26 | 2005-04-11 | Bauteil mit einer Reflektorschicht |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2306204T3 true ES2306204T3 (es) | 2008-11-01 |
Family
ID=35395734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES05777540T Active ES2306204T3 (es) | 2004-08-23 | 2005-08-23 | Componente con una capa reflectora y procedimiento para su produccion. |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1784368B1 (es) |
JP (1) | JP5008198B2 (es) |
KR (1) | KR101113777B1 (es) |
AT (1) | ATE396155T1 (es) |
CA (1) | CA2575799C (es) |
DE (2) | DE102004051846B4 (es) |
ES (1) | ES2306204T3 (es) |
PL (1) | PL1784368T3 (es) |
WO (1) | WO2006021416A1 (es) |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005058819B4 (de) * | 2005-10-13 | 2009-04-30 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Beschichtung eines Bauteils aus hochkieselsäurehaltigem Glas, mit einer SiO2-haltigen, glasigen Schicht versehenes Bauteil, sowie Verwendung des Bauteils |
DE102006046619A1 (de) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Streichfähiger SiO2-Schlicker für die Herstellung von Quarzglas, Verfahren zur Herstellung von Quarzglas unter Einsatz des Schlickers |
DE102006055397B3 (de) * | 2006-11-22 | 2008-05-15 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtung für die Herstellung eines zylinderförmigen Profilelements aus Quarzglas sowie Verwendung desselben |
DE102006062166B4 (de) | 2006-12-22 | 2009-05-14 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Quarzglas-Bauteil mit Reflektorschicht sowie Verfahren zur Herstellung desselben |
DE102007040466A1 (de) * | 2007-02-15 | 2008-08-21 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Quarzglas-Bauteil als Leitungseinheit für ein UV-Entkeimungsgerät |
DE102007008696B3 (de) * | 2007-02-20 | 2008-10-02 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarotstrahler mit opakem Reflektor und seine Herstellung |
DE102007030698B4 (de) * | 2007-06-30 | 2009-06-10 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Verbundkörpers aus einem Basiskörper aus opakem Quarzglas und einer dichten Versiegelungsschicht sowie Verwendung des Verbundkörpers |
DE102007048564A1 (de) * | 2007-10-09 | 2009-04-23 | Heraeus Noblelight Gmbh | Vorrichtung für eine Bestrahlungseinheit |
DE102007049930B4 (de) * | 2007-10-18 | 2011-04-28 | Universität Hamburg | Oberflächenmodifizierte Hohlraumstrukturen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
US20090308315A1 (en) * | 2008-06-13 | 2009-12-17 | Asm International N.V. | Semiconductor processing apparatus with improved thermal characteristics and method for providing the same |
DE102008028233A1 (de) * | 2008-06-16 | 2009-12-17 | Heraeus Noblelight Gmbh | Kompaktes UV-Bestrahlungsmodul |
DE102008063677B4 (de) | 2008-12-19 | 2012-10-04 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarotstrahler und Verwendung des Infrarotstrahlers in einer Prozesskammer |
JP5441243B2 (ja) * | 2009-02-24 | 2014-03-12 | 信越石英株式会社 | 赤外線透過性部材の熱処理用石英ガラス治具 |
GB2474032B (en) | 2009-10-01 | 2016-07-27 | Heraeus Noblelight Gmbh | Flash lamp or gas discharge lamp with integrated reflector |
DE102009049032B3 (de) | 2009-10-10 | 2011-03-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Bauteils aus Quarzglas |
DE102009059015B4 (de) | 2009-12-17 | 2014-02-13 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Quarzglasbauteil mit opaker Innenzone sowie Verfahren zur Herstellung desselben |
DE102011012363A1 (de) | 2011-02-24 | 2012-08-30 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarot-Flächenstrahler mit hoher Strahlungsleistung und Verfahren für seine Herstellung |
DE102012025142A1 (de) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarotstrahler mit hoher Strahlungsleistung |
DE202013000527U1 (de) * | 2013-01-21 | 2013-08-27 | Kay-Michael Bauer | Infrarotstrahler in U-Form mit Keramik-Reflektorbeschichtung |
SG10201709699RA (en) * | 2013-05-23 | 2017-12-28 | Applied Materials Inc | A coated liner assembly for a semiconductor processing chamber |
EP2878584B1 (de) | 2013-11-28 | 2017-01-04 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Bauteils aus Quarzglas oder Quarzgut |
EP3023162A1 (de) | 2014-11-24 | 2016-05-25 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung eines mit einer Funktionsschicht versehenen Bauteils aus Glas sowie Vorrichtung zur Herstellung einer derartigen Schicht |
DE102015104932B3 (de) * | 2015-03-31 | 2016-06-02 | Heraeus Noblelight Gmbh | Vorrichtung zur Wärmebehandlung |
DE102015119763A1 (de) | 2015-11-16 | 2017-05-18 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Infrarotstrahler |
KR20180095622A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-27 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 내화성 금속으로 제조된 용융 도가니에서 실리카 유리 제품의 제조 |
US11952303B2 (en) | 2015-12-18 | 2024-04-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Increase in silicon content in the preparation of quartz glass |
EP3390304B1 (de) | 2015-12-18 | 2023-09-13 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Sprühgranulieren von siliziumdioxid bei der herstellung von quarzglas |
JP6881776B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-06-02 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 不透明石英ガラス体の調製 |
US10676388B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-06-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glass fibers and pre-forms made of homogeneous quartz glass |
KR20180094087A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-22 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 실리카 과립으로부터 실리카 유리 제품의 제조 |
KR20180095616A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-27 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 용융 가열로에서 이슬점 조절을 이용한 실리카 유리체의 제조 |
JP6881777B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-06-02 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 合成石英ガラス粒の調製 |
TW201731782A (zh) | 2015-12-18 | 2017-09-16 | 何瑞斯廓格拉斯公司 | 在多腔式爐中製備石英玻璃體 |
JP7044454B2 (ja) | 2015-12-18 | 2022-03-30 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製 |
EP3185057A1 (de) * | 2015-12-22 | 2017-06-28 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Faseroptische streueinrichtung und herstellungsverfahren dafür |
DE102016111234B4 (de) | 2016-06-20 | 2018-01-25 | Heraeus Noblelight Gmbh | Vorrichtung für die thermische Behandlung eines Substrats sowie Trägerhorde und Substrat-Trägerelement dafür |
DE102016113815A1 (de) | 2016-07-27 | 2018-02-01 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarotflächenstrahler und Verfahren zur Herstellung des Infrarotflächenstrahlers |
EP3428132B1 (de) * | 2017-07-10 | 2023-08-30 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Quarzglasbauteil mit hoher thermischer stabilität, halbzeug dafür und verfahren zur herstellung desselben |
DE102020128337A1 (de) | 2020-10-28 | 2022-04-28 | Heraeus Noblelight Gmbh | Strahlerbauteil mit einer Reflektorschicht sowie Verfahren für seine Herstellung |
DE102020131324A1 (de) | 2020-11-26 | 2022-06-02 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarotstrahler und Infrarotstrahlung emittierendes Bauelement |
DE102022111985A1 (de) | 2022-05-12 | 2023-11-16 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarot-Strahler mit einer auf eine Reflektorschicht aus Metall aufgebrachten emissiven Schicht und Verwendung der emissiven Schicht |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE587715C (de) * | 1932-10-14 | 1933-11-07 | Patra Patent Treuhand | Elektrische Gluehlampe oder Leuchtroehre mit einem fuer sichtbare und auch ultraviolette Strahlen durchlaessigen Glasgefaess |
JPS56158090U (es) * | 1980-04-25 | 1981-11-25 | ||
JPS6268101U (es) * | 1985-10-17 | 1987-04-28 | ||
US5045751A (en) * | 1988-10-25 | 1991-09-03 | Asahi Glass Company Ltd. | Cathode ray tube of improved breakdown voltage characteristic |
KR900007740A (ko) * | 1988-11-04 | 1990-06-01 | 후루모또 지로 | 유리보강법과 그에 사용되는 필름 형성 합성물 및 그 강화 유리제품 |
DE69027590T2 (de) * | 1989-08-01 | 1996-12-05 | Asahi Glass Co Ltd | Verfahren zur Herstellung von Schichten auf basis von Siliziumdioxyd mittels DC Sputtern und Target dafür |
DE4022100C1 (es) * | 1990-07-11 | 1991-10-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh, 6450 Hanau, De | |
DE4338807C1 (de) * | 1993-11-12 | 1995-01-26 | Heraeus Quarzglas | Formkörper mit hohem Gehalt an Siliziumdioxid und Verfahren zur Herstellung solcher Formkörper |
DE4417405A1 (de) * | 1994-05-18 | 1995-11-23 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung von strukturierten anorganischen Schichten |
JPH08315965A (ja) * | 1994-09-29 | 1996-11-29 | Tokyo Electron Ltd | 加熱装置及びその製造方法、並びに処理装置 |
JP4185194B2 (ja) * | 1997-07-31 | 2008-11-26 | コバレントマテリアル株式会社 | カーボンヒータ |
GB9722020D0 (en) * | 1997-10-17 | 1997-12-17 | Tsl Group Plc | Production of quartz glass articles having high surface purity |
DE19822829A1 (de) * | 1998-05-20 | 1999-11-25 | Heraeus Noblelight Gmbh | Kurzwelliger Infrarot-Flächenstrahler |
DE19962451C1 (de) * | 1999-12-22 | 2001-08-30 | Heraeus Quarzglas | Verfahren für die Herstellung von opakem Quarzglas und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Si0¶2¶-Granulat |
GB0011964D0 (en) * | 2000-05-18 | 2000-07-05 | Suyal N | Thick glass films with controlled refractive indices and their applications |
DE10211249B4 (de) * | 2002-03-13 | 2004-06-17 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verwendung eines Glanzedelmetallpräparats |
DE10243954B3 (de) * | 2002-09-20 | 2004-07-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren für die Herstellung eines opaken Quarzglas-Kompositwerkstoffs sowie Verwendung desselben |
JP4444559B2 (ja) * | 2002-10-09 | 2010-03-31 | ジャパンスーパークォーツ株式会社 | 石英ガラスルツボの強化方法とシリコン単結晶の引き上げ方法 |
DE10253582B3 (de) * | 2002-11-15 | 2004-07-15 | Heraeus Noblelight Gmbh | Infrarotstrahler, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
-
2004
- 2004-10-26 DE DE102004051846A patent/DE102004051846B4/de active Active
-
2005
- 2005-08-23 AT AT05777540T patent/ATE396155T1/de not_active IP Right Cessation
- 2005-08-23 EP EP05777540A patent/EP1784368B1/de active Active
- 2005-08-23 ES ES05777540T patent/ES2306204T3/es active Active
- 2005-08-23 KR KR1020077006657A patent/KR101113777B1/ko active IP Right Grant
- 2005-08-23 PL PL05777540T patent/PL1784368T3/pl unknown
- 2005-08-23 DE DE502005004213T patent/DE502005004213D1/de active Active
- 2005-08-23 JP JP2007528726A patent/JP5008198B2/ja active Active
- 2005-08-23 WO PCT/EP2005/009074 patent/WO2006021416A1/de active IP Right Grant
- 2005-08-23 CA CA2575799A patent/CA2575799C/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1784368B1 (de) | 2008-05-21 |
KR20070054686A (ko) | 2007-05-29 |
DE102004051846B4 (de) | 2009-11-05 |
DE502005004213D1 (de) | 2008-07-03 |
JP5008198B2 (ja) | 2012-08-22 |
CA2575799C (en) | 2013-01-08 |
KR101113777B1 (ko) | 2012-02-27 |
ATE396155T1 (de) | 2008-06-15 |
CA2575799A1 (en) | 2006-03-02 |
DE102004051846A1 (de) | 2006-03-02 |
JP2008510677A (ja) | 2008-04-10 |
PL1784368T3 (pl) | 2008-10-31 |
WO2006021416A1 (de) | 2006-03-02 |
EP1784368A1 (de) | 2007-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ES2306204T3 (es) | Componente con una capa reflectora y procedimiento para su produccion. | |
JP2008510677A5 (es) | ||
US7563512B2 (en) | Component with a reflector layer and method for producing the same | |
US8209998B2 (en) | SiO2 slurry for the production of quartz glass as well as the application of the slurry | |
ES2634506T3 (es) | Filtro óptico de conversión descendente conmutado térmicamente | |
CN207611786U (zh) | 波长转换部件和发光器件 | |
CN109311730A (zh) | 屏蔽近红外的透明玻璃陶瓷 | |
KR960705742A (ko) | 석영유리 성형체 및 그 제조방법 | |
US20060046075A1 (en) | Method for bonding components made of material with a high silicic acid content, and assembly composed of such components | |
NO173359B (no) | Laserresonatorhulrom med hoey refleksjonskoeffesient | |
TWI480921B (zh) | 介電質屏蔽放電燈、包含該燈的紫外線照射裝置以及介電質屏蔽放電燈的點燈方法 | |
CN1913097B (zh) | 受激准分子灯及制法 | |
CN109429533A (zh) | 荧光构件及发光模块 | |
Firstov et al. | Luminescent properties of thermoinduced active centers in quartz-like glass activated by bismuth | |
JP4955419B2 (ja) | 白色光励起レーザー装置 | |
Son et al. | Efficient daytime radiative cooling cover sheet with dual‐modal optical properties | |
KR101373943B1 (ko) | 형광 램프 | |
CN106927685B (zh) | 一种具有长余辉发光的微晶玻璃光纤及其制备方法 | |
ES2206681T3 (es) | Material revelador de color, fotosensible y elemento termosensible que emplea dicho material. | |
JP4029548B2 (ja) | 建材用ガラス物品及びその製造方法 | |
Abd-Rahman et al. | Effect of nanofiber/thin-film multilayers on the optical properties of thulium-doped silica-alumina | |
JPH05190142A (ja) | 電球およびその製造方法 | |
JP2008285344A (ja) | 銅含有シリカガラス及びその製造方法、並びにそれを用いたキセノンフラッシュランプ | |
Lin et al. | Cellular Inorganic Ceramic for Highly Efficient Daytime Passive Radiative Cooling | |
FR2990265A1 (fr) | Collecteur solaire a paroi en materiau reflecteur |