JP2008263220A - 複合多層基板およびそれを用いたモジュール - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 複合多層基板20は、金属製材料からなる平板状のコア部材21と、前記コア部材21の少なくとも表面と裏面を覆う表面側樹脂層22および裏面側樹脂層23と、前記コア部材21の表裏を貫通して前記コア部材21に形成された無底穴24または有底穴とを備え、前記無底穴24または有底穴に電子部品25を実装して用いられる。コア部材21の剛性によって複合多層基板20の強度を確保することができ、ガラスクロスを不要にできる。
【選択図】 図1
Description
<第1の公知例〜第4の公知例>
有機系基板を用いた電子部品埋め込み構造としては、コアとなる有機系基板(以下「コア基板」)の表面に電子部品を実装し、それを多層化するときにプリプレグの樹脂により電子部品を封止する構造が知られている(以下「第1の公知例」)。また、有機系基板に溝を形成し、そこに電子部品を埋め込む構造が知られている(以下「第2の公知例」)。
さらに、コア基板の表面に電子部品を実装するとともに、プリプレグに電子部品の大きさに対応した穴を開け、多層化するときにプリプレグの穴に電子部品をはめ込み埋め込む構造(以下「第3の公知例」)や、焼結部品を転写により有機樹脂内に埋め込んだ構造(以下「第4の公知例」)なども知られている。
特許文献1には、小型、薄型で堅固な電子時計の回路を提供するため、プリント基板の片面にパターンを形成するとともに、裏面に金属板を固着し、パターンまたは金属板のいずれか一方もしくは両方に「孔」を設け、その孔に半導体チップを実装することにより、プリント基板と半導体チップとをほぼ同等の厚さとしたものが記載されている。しかし、この公知例では、半導体チップを樹脂封止しており、多層化する場合に、盛り上がった樹脂を研削するなどの作業が必要で、製造コストをアップさせるという欠点がある。さらに、五面電極などの多面電極を有する電子部品の孔内実装については、まったく考慮されていない構造のため、実装可能な電子部品の種類に制限があるという欠点がある。
特許文献2には、電子部品の放熱性を向上させた電子素子用チップキャリアを提供するため、メタルコアベースのプリント配線基板のメタルコア表面に絶縁樹脂を積層し、その絶縁樹脂にメタルコアに到達する「凹部」を形成するとともに、電子部品の裏面をメタルコアに接触させるようにして凹部内に実装することにより、メタルコアを放熱板として使用するようにしたものが記載されている。さらに、この公知例では、メタルコア裏面(電子部品の搭載面の反対面)に積層された絶縁樹脂にもメタルコアに到達するように凹部を形成して放熱性を向上させている。しかし、この公知例では、電子部品の厚さを吸収するような配慮が足りなく、基板の薄型化には不利になるものと思われる。
特許文献3には、より近接した位置から半導体チップの放熱を可能にすることと、放熱用の金属板等との接着不良の発生のない半導体チップ搭載用多層基板を提供するため、金属箔あるいは金属シートに半導体チップ搭載用の「孔」を形成し、プリプレグおよび銅箔を重ねてなる片面あるいは両面銅貼金属基材積層板に、上記の孔を含む配線網を形成したプリント配線板を用いることが記載されている。しかし、この公知例では、半導体チップ搭載用の孔の側壁における金属箔あるいは金属シートの高さと半導体チップの厚さとの関係が明確になっておらず、しかも、半導体チップの放熱を考慮した構成が明確になっていない。そして、半導体チップの厚さと半導体チップ搭載用の孔との深さ関係が明確でないことから、薄型化への考慮が足りないものと考えられ、また、プリント配線板に半導体チップ搭載用の孔を形成する際に、ガラスクロス(後述)も除去しなければならないことから、製造コストのアップが容易に予想される。
特許文献4には、厚みが0.1〜1.0mm、好ましくは0.2〜0.5mmで、熱膨張率が9×10-6cm/cm/℃以下の金属シートを用い、適宣に表面処理をして接着性を改良させることが記載されているが、これも第7の公知例と同様の不具合(薄型化への考慮が足りない、製造コストのアップ)が考えられる。
特許文献5には、大電流を流すことができ、しかも小型高密度実装を可能とする混成集積回路を提供するため、熱可塑性樹脂板に、半導体チップ実装用の「開口部」を形成し、さらに半導体チップと略同一厚さの金属板からなる配線パターンを半導体チップの両サイドに配置するものが記載されている。そして、熱可塑性樹脂板には、配線層が多層に形成されている熱可塑性樹脂板が熱圧着により一体化されており、半導体チップのリード端子は配線層が多層に形成されている可塑性樹脂板に設けられた開口部に挿入され、配線層と電気的に接続するようになっている。しかし、この公知例では、半導体チップの放熱対策が明確になっていないことと、開口部を形成した熱可塑性樹脂板と、配線層が多層に形成されている熱可塑性樹脂板との熱圧着により、半導体チップ周りの樹脂封止が困難であり、熱可塑性樹脂板を溶融する状態で熱圧着した場合に、配線層が多層に形成されている部分の層間厚の変動が予想され、電気的な仕様制御が困難になるものと推定できる。
特許文献6には、以下に詳述する「複合多層基板およびそれを用いたモジュール」が記載されている。
図12(a)は、公報記載の複合多層基板の断面図である。この複合多層基板1は、複数の層を積み重ねた多層構造を有しており、図示の例の場合は、樹脂材料からなる四つの層(以下「樹脂層」)2〜5を有している。これらの樹脂層2〜5は、いずれもその材料にエポキシ等の樹脂素材を用いる点で共通し、一の層(図では最上層)の樹脂層2だけは、図12(b)に示すように、ガラス繊維6をネット状に編み込んだもの(いわゆるガラスクロス7)を内部に含む点で相違する。ガラスクロス7は、複合多層基板1の物理的強度を高めるための補強材であり、以下、便宜的に、ガラスクロス7を“有する”樹脂層2のことを「ガラスクロス層2」と言うとともに、ガラスクロス7を“有さない”樹脂層3〜5のことを「ガラスクロスレス層3〜5」と言うこととする。
(1)ガラス繊維6の表面と樹脂(ガラスクロス層2の主材料)との界面に沿ってイオンマイグレーションが発生することがあり、電解の強度によっては、絶縁を破壊して電気的特性を悪化させるという問題点がある。
(2)また、キャビティのための凹部9を形成するには、樹脂層2の一部を物理的に取り除く必要があるが、その際に、樹脂層2の内部のガラス繊維6を切断しなければならず、かかる切断作業は一般にレーザなどの精密加工機を用いるものの、切断誤差を否めないし、相当の作業時間も必要であり、しかも、凹部9が複数必要な場合は、その数だけ作業時間が倍加し、製造コストのアップを招くという問題点がある。
請求項4記載の発明は、前記コア部材の少なくも側面を除く上下面を樹脂で覆うことを特徴とする請求項1に記載の複合多層基板である。
請求項5記載の発明は、さらに、前記コア部材の側面を覆う側面側樹脂部材を備え、該側面側樹脂部材と前記表面側樹脂層および裏面側樹脂層とにより、前記コア部材の全体を覆うようにしたことを特徴とする請求項1に記載の複合多層基板である。
請求項6に記載の発明は、請求項1乃至請求項5いずれかに記載の複合多層基板を用いて構成されたことを特徴とするモジュールである。
(第一の実施の形態)
図1(a)は、実施の形態における複合多層基板の要部断面図および要部斜視図である。この図において、複合多層基板20は、その断面が“多層構造”を有している。図示の例では、良好な電気伝導性、良好な熱伝導性および高い剛性を兼ね備えた材料からなる平板状のコア部材21と、そのコア部材21の表面(図面に向かって上側の面)を覆う樹脂層(以下「表面側樹脂層」)22と、そのコア部材21の裏面(図面に向かって下側の面)を覆う樹脂層(以下「裏面側樹脂層」)23とからなる三層構造を有している。
図2(a)は、コア部材21の無底穴24に電子部品25を実装したときの状態図である。この図において、コア部材21の上面高さ位置をLaとし、電子部品25の上面高さ位置をLbとしたとき、その高さの差d(d=La−Lb)は0または0以上の値(すなわちLa=LbまたはLa>Lbのいずれかの関係)にすることが望ましい。このようにすると、コア部材21の上面高さ位置Laが電子部品25の上面高さ位置Lbよりも常に高い位置になるから、複合多層基板20の製造時における電子部品25への荷重(表面側樹脂層22などを積層する際に加えられる荷重)をコア部材21で受け止めることができ、電子部品25の破損を回避することができる。
Ha+Hb=Hc+Hd+d ・・・・(1)
の関係を満たせばよく、Ha、HbおよびHbは固定値であるから、たとえば、d=0にするためには、
Ha+Hb=Hc+Hd ・・・・(2)
したがって、高さ寸法調整部材30の高さHdを、
Hd=Ha+Hb−Hc ・・・・(3)
とすればよい。
図4は、コア部材21の他の部分における要部断面図および当該部分の外観斜視図である。これらの図において、コア部材21の任意位置(図では無底穴24に隣接しているが、これに限定されない)に、柱状部33が設けられている。
図5は、以上の実施の形態(第一〜第三の実施の形態)の技術思想を適用して作られたモジュールの断面図である。
(第一の工程:図6(a))
まず、良好な電気伝導性、良好な熱伝導性および高い剛性を兼ね備えた平板状のコア部材41、たとえば、Cu、42アロイまたはインバーなどのコア部材41の下面(上下は図面に正対したときの方向を指す)に樹脂層(裏面側樹脂層43)を張り合わせ、さらに、その裏面側樹脂層43の下面に、良好な導電性と良好な熱伝導性を有する薄膜90を張り合わせる。
次に、コア部材41をパターニングし、無底穴44〜47と柱状部56、57を形成する。無底穴44〜47は、それぞれ、電子部品48〜51を埋め込むためのキャビティとなる。コア部材41のパターニングは、たとえば、サブトラクティブ法によって行うことができる。この場合、塩化第二鉄系や塩化第二銅系エッチャントなどの通常のプリント配線基板で使用しているエッチャントを使用することができる。
次に、発熱が大きい電子部品(電子部品48、51)に対応した無底穴44、47については、その下の裏面側樹脂層43を、無底穴44、47と同一の開口形状で除去(波線部分参照)して薄膜90を露出させる。裏面側樹脂層43の除去は、たとえば、レーザーアブレーションやプラズマエッチングなどによって行うことができる。
次に、左端の無底穴44に高さ寸法調整部材54を入れ込み、その高さ寸法調整部材54の上に熱導電性樹脂104を塗布する。また、左から2番目と3番目の無底穴45、46に接着剤52、53を塗布し、さらに、右端の無底穴47に熱伝導性樹脂55を塗布する。高さ寸法調整部材54は、独立した部材であってもよいし、あるいは、Cuなどのメッキを成長させたものであってもよい。良好な熱伝導性を持ち、且つ、電子部品48の高さ寸法を調整をできるものであればよい。熱導電性樹脂104、55は、その名のとおり、放熱作用の機能を有するとともに、埋め込まれた電子部品48、51を仮固定する機能も有する。接着剤52、53は、もっぱら埋め込まれた電子部品49、50を固定する機能を有していればよい。
次に、各々の無底穴44〜47にそれぞれ対応する電子部品48〜51を実装する。放熱が必要な一の電子部品48については、熱伝導性樹脂104と高さ寸法調整部材54を介してコア部材41と薄膜90にその熱を逃がすことができ、また、放熱が必要な二の電子部品51については、熱伝導性樹脂55を介してコア部材41と薄膜90にその熱を逃がすことができる。
次に、電子部品48〜51を実装した後のコア部材41を樹脂で封止する。この封止により、前記第一〜第三の実施の形態における表面側樹脂層42が形成され、この表面側樹脂層42によって、コア部材41の表面、キャビティ(無底穴44〜47)およびビアポスト(柱状部56、57)の周りの隙間が完全にふさがれる。ここに、コア部材41の側端面(図8(c)の波線包囲部A、B参照)も完全に樹脂で封止することが望ましい。側端面を封止する樹脂としては、表面側樹脂層の一部で兼ねてもよいが、表面側樹脂層とは別体に側面側樹脂層を設けてもよい。そのようにすると、コア部材41のすべての面を環境雰囲気(大気)から遮断し、大気中の酸素や水分などによるコア部材41の酸化を防止でき、また、隣接する実装部品との間の電気的なショート等を防止して、動作不良を回避できるからである。
次に、薄膜90をパターニングする。このパターニングにより、放熱対策を必要とする電子部品48、51のうち熱導電性樹脂55を介して薄膜90に直接熱を逃がすための放熱パターン83を形成する。すなわち、当該放熱パターン83だけを残すように薄膜90をエッチアウトする。
次に、表面側樹脂層42と裏面側樹脂層43のそれぞれに小穴109〜125をあける。たとえば、各層の樹脂をCO2ガスレーザー、UVレーザーまたはエキシマレーザーなどで部分的に除去した後、樹脂の残渣を過マンガン酸やプラズマアッシングなどで除去することにより、小穴109〜125を形成する。
次に、小穴109〜125に銅めっきやエッチングを施し、電子部品48〜49の端子との電気的な層間接続を行うための電極63、64、65、66、67、68、69、73や、コア部材41を介した層間接続を行うための電極58、59、60、61、62、70、71、72、74などを形成する。なお、樹脂とめっき銅との密着性を確保するために、必要に応じて、過マンガン酸等による樹脂表面の粗化を行い、表面積の増大処理を施してもよい。なお、126〜154は、表面側樹脂層42と裏面側樹脂層43の各露出面に形成された電極または配線パターンである。この第十の工程により、図5における中間層Aが作られる。
次に、表面側樹脂層42と裏面側樹脂層43にそれぞれ樹脂を貼り合せ、それらの樹脂の表裏に必要なソルダーレジストパターンを形成することにより、図5における上位層Bと下位層Cが作られる。
(1)良好な電気伝導性、良好な熱伝導性および高い剛性を兼ね備えた材料(Cu、42アロイ、インバー等)からなる平板状のコア部材41をベースとして構成されているので、基板の曲げ応力をコア部材41の剛性で受け止めることができ、好ましくない基板変形を回避し、または抑制することができる。したがって、従来の補強材(ガラスクロス)を敢えて必要としないため、ガラスクロスにまつわる諸々の問題(イオンマイグレーションの問題や、キャビティ形成時のガラスクロス切断加工に伴う製造コストアップの問題)を生じないという格別の効果が得られる。
21 コア部材
22 表面側樹脂層
23 裏面側樹脂層
24 無底穴
25 電子部品
26 有底穴
40 モジュール
41 コア部材
42 表面側樹脂層
43 裏面側樹脂層
44〜47 無底穴
48〜51 電子部品
Claims (6)
- 金属製材料からなる平板状のコア部材と、
前記コア部材の少なくとも表面と裏面を覆う表面側樹脂層および裏面側樹脂層と、
前記コア部材の表裏を貫通して前記コア部材に形成された無底穴または有底穴と、
前記無底穴または有底穴に実装された電子部品と、
前記電子部品の真上または真下に位置すると共に前記コア部材の表裏面の垂直方向に延在して前記表面側樹脂層と前記裏面側樹脂層のいずれか一方または双方に形成された小穴と、
前記小穴の内部に形成された電極とを備え、
前記電子部品に対する電気的接続を前記電極を介して行うようにしたことを特徴とする複合多層基板。 - 前記表面側樹脂層および裏面側樹脂層に垂直電極を形成し、該電極を前記電子部品の上面及び下面に配置して、該電極を介して該電子部品に対する電気的接続を行うようにしたことを特徴とする請求項1に記載の複合多層基板。
- 前記電極は、前記コア部材に前記無底穴を形成する際に同時に形成される柱状部材であることを特徴とする請求項1に記載の複合多層基板。
- 前記コア部材の少なくも側面を除く上下面を樹脂で覆うことを特徴とする請求項1に記載の複合多層基板。
- さらに、前記コア部材の側面を覆う側面側樹脂部材を備え、
該側面側樹脂部材と前記表面側樹脂層および裏面側樹脂層とにより、前記コア部材の全体を覆うようにしたことを特徴とする請求項1に記載の複合多層基板。 - 請求項1乃至請求項5いずれかに記載の複合多層基板を用いて構成されたことを特徴とするモジュール。
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