JP2008257132A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008257132A5
JP2008257132A5 JP2007101985A JP2007101985A JP2008257132A5 JP 2008257132 A5 JP2008257132 A5 JP 2008257132A5 JP 2007101985 A JP2007101985 A JP 2007101985A JP 2007101985 A JP2007101985 A JP 2007101985A JP 2008257132 A5 JP2008257132 A5 JP 2008257132A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
mask blank
flatness
blank
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007101985A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5085966B2 (ja
JP2008257132A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2007101985A priority Critical patent/JP5085966B2/ja
Priority claimed from JP2007101985A external-priority patent/JP5085966B2/ja
Publication of JP2008257132A publication Critical patent/JP2008257132A/ja
Publication of JP2008257132A5 publication Critical patent/JP2008257132A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5085966B2 publication Critical patent/JP5085966B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2007101985A 2007-04-09 2007-04-09 フォトマスクブランクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 Expired - Fee Related JP5085966B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007101985A JP5085966B2 (ja) 2007-04-09 2007-04-09 フォトマスクブランクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007101985A JP5085966B2 (ja) 2007-04-09 2007-04-09 フォトマスクブランクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008257132A JP2008257132A (ja) 2008-10-23
JP2008257132A5 true JP2008257132A5 (enExample) 2011-07-07
JP5085966B2 JP5085966B2 (ja) 2012-11-28

Family

ID=39980737

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007101985A Expired - Fee Related JP5085966B2 (ja) 2007-04-09 2007-04-09 フォトマスクブランクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5085966B2 (enExample)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5410654B2 (ja) * 2007-04-09 2014-02-05 Hoya株式会社 フォトマスクブランクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
CN102246269B (zh) * 2008-12-17 2014-08-06 旭硝子株式会社 反射型掩模用低膨胀玻璃基板及其加工方法
JP4839411B2 (ja) * 2009-02-13 2011-12-21 Hoya株式会社 マスクブランク用基板、マスクブランクおよびフォトマスク
JP2012027176A (ja) * 2010-07-22 2012-02-09 Tosoh Corp フォトマスク用基板
JP6383982B2 (ja) * 2015-01-20 2018-09-05 Agc株式会社 マスクブランク用ガラス基板、および、その製造方法
JP6613856B2 (ja) * 2015-12-04 2019-12-04 Agc株式会社 Euv用マスクブランク用のガラス基板、euv用マスクブランクの製造方法、およびeuv用フォトマスクの製造方法
JP6613858B2 (ja) * 2015-12-08 2019-12-04 Agc株式会社 Euv用マスクブランク用のガラス基板、euv用マスクブランクの製造方法、およびeuv用フォトマスクの製造方法
JP2019008254A (ja) * 2017-06-28 2019-01-17 クアーズテック株式会社 フォトマスク用基板及びその製造方法
JP7253373B2 (ja) * 2018-12-28 2023-04-06 Hoya株式会社 マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、透過型マスクブランク、透過型マスク、及び半導体装置の製造方法
KR20210143748A (ko) * 2019-03-29 2021-11-29 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크용 기판, 다층 반사막 부착 기판, 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크, 투과형 마스크 블랭크, 투과형 마스크, 및 반도체 장치의 제조 방법

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5646227A (en) * 1979-09-21 1981-04-27 Shin Etsu Chem Co Ltd Mask substrate for electronic device
JPH08339502A (ja) * 1995-06-13 1996-12-24 Alps Electric Co Ltd 磁気ヘッド
JP2000347082A (ja) * 1999-06-04 2000-12-15 Oki Electric Ind Co Ltd 光学装置およびその製造方法
JP2006011434A (ja) * 2002-03-29 2006-01-12 Hoya Corp マスクブランク用基板、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法
CN100580549C (zh) * 2002-12-03 2010-01-13 Hoya株式会社 光掩模坯料和光掩膜
JP4784969B2 (ja) * 2004-03-30 2011-10-05 Hoya株式会社 マスクブランク用のガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
JP2005333124A (ja) * 2004-04-22 2005-12-02 Asahi Glass Co Ltd 反射型マスク用低膨張硝子基板および反射型マスク
JP4683416B2 (ja) * 2005-06-10 2011-05-18 Hoya株式会社 マスクブランク用ガラス基板の欠陥検査方法、マスクブランク用ガラス基板、マスクブランク、露光用マスク、マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法
JP4688150B2 (ja) * 2005-08-03 2011-05-25 Hoya株式会社 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び欠陥検査装置
JP2007049003A (ja) * 2005-08-11 2007-02-22 Horon:Kk マスク測定方法およびマスク

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008257132A5 (enExample)
JP5222660B2 (ja) マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法
JP6216835B2 (ja) マスクブランク用基板、マスクブランク、反射型マスクブランク、転写マスク、及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法
JP2006346856A5 (enExample)
JP2008257131A5 (enExample)
JP7321893B2 (ja) スペーサ、基板の積層体、基板の製造方法、及び磁気ディスク用基板の製造方法
JP6948988B2 (ja) フォトマスク用基板およびその製造方法
JP2010040643A5 (enExample)
KR20070008567A (ko) 층상 지지체 및 cmp 패드 적층 방법
JP2015214449A (ja) ガラス基板の製造方法及びガラス基板
JP5640076B2 (ja) ガラス基板の保持用膜体、及びガラス基板の研磨方法
JP2007054944A (ja) マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法
JP5502542B2 (ja) 研磨パッド
US12377514B2 (en) Carrier and method for manufacturing substrate
TWI413573B (zh) 遮罩胚板用基板的製造方法、製造遮罩胚板的方法及製造遮罩的方法
JP5323966B2 (ja) マスクブランク用基板、マスクブランク、フォトマスク及び半導体デバイスの製造方法
JP4435500B2 (ja) 基板の両面研磨方法および両面研磨用ガイドリングならびに基板の両面研磨装置
JP2016002664A (ja) モールド製造用構造体、モールド、モールド製造用構造体の製造方法、およびモールドの製造方法
JP5658331B2 (ja) マスクブランク用基板セットの製造方法、マスクブランクセットの製造方法、フォトマスクセットの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP2017050528A (ja) インプリントモールド用ガラス板の製造方法
JP6476924B2 (ja) 研磨シート、研磨具、及び、研磨方法
JP5674201B2 (ja) 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および修正キャリア
JP2010214576A (ja) 研磨方法、光学素子の製造方法および金型の再加工方法
JP4887073B2 (ja) 角型基板用キャリア及び角型基板用両面研磨装置並びに角型基板の研磨方法
JP6187154B2 (ja) 印刷用ブランケット