JP5085966B2 - フォトマスクブランクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 - Google Patents

フォトマスクブランクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 Download PDF

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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5410654B2 (ja) * 2007-04-09 2014-02-05 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスクブランクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
CN102246269B (zh) * 2008-12-17 2014-08-06 旭硝子株式会社 反射型掩模用低膨胀玻璃基板及其加工方法
JP4839411B2 (ja) * 2009-02-13 2011-12-21 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク用基板、マスクブランクおよびフォトマスク
JP2012027176A (ja) * 2010-07-22 2012-02-09 Tosoh Corp フォトマスク用基板
JP6383982B2 (ja) * 2015-01-20 2018-09-05 Ａｇｃ株式会社 マスクブランク用ガラス基板、および、その製造方法
JP6613856B2 (ja) * 2015-12-04 2019-12-04 Ａｇｃ株式会社 Ｅｕｖ用マスクブランク用のガラス基板、ｅｕｖ用マスクブランクの製造方法、およびｅｕｖ用フォトマスクの製造方法
JP6613858B2 (ja) * 2015-12-08 2019-12-04 Ａｇｃ株式会社 Ｅｕｖ用マスクブランク用のガラス基板、ｅｕｖ用マスクブランクの製造方法、およびｅｕｖ用フォトマスクの製造方法
JP2019008254A (ja) * 2017-06-28 2019-01-17 クアーズテック株式会社 フォトマスク用基板及びその製造方法
JP7253373B2 (ja) * 2018-12-28 2023-04-06 Hoya株式会社 マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、透過型マスクブランク、透過型マスク、及び半導体装置の製造方法
KR20210143748A (ko) * 2019-03-29 2021-11-29 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크용 기판, 다층 반사막 부착 기판, 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크, 투과형 마스크 블랭크, 투과형 마스크, 및 반도체 장치의 제조 방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5646227A (en) * 1979-09-21 1981-04-27 Shin Etsu Chem Co Ltd Mask substrate for electronic device
JPH08339502A (ja) * 1995-06-13 1996-12-24 Alps Electric Co Ltd 磁気ヘッド
JP2000347082A (ja) * 1999-06-04 2000-12-15 Oki Electric Ind Co Ltd 光学装置およびその製造方法
JP2006011434A (ja) * 2002-03-29 2006-01-12 Hoya Corp マスクブランク用基板、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法
CN100580549C (zh) * 2002-12-03 2010-01-13 Hoya株式会社 光掩模坯料和光掩膜
JP4784969B2 (ja) * 2004-03-30 2011-10-05 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク用のガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
JP2005333124A (ja) * 2004-04-22 2005-12-02 Asahi Glass Co Ltd 反射型マスク用低膨張硝子基板および反射型マスク
JP4683416B2 (ja) * 2005-06-10 2011-05-18 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク用ガラス基板の欠陥検査方法、マスクブランク用ガラス基板、マスクブランク、露光用マスク、マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法
JP4688150B2 (ja) * 2005-08-03 2011-05-25 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び欠陥検査装置
JP2007049003A (ja) * 2005-08-11 2007-02-22 Horon:Kk マスク測定方法およびマスク

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