JP2008241877A - 光源装置ならびにこれを用いた露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の放電灯30と、放電灯30のそれぞれに設けられ、放電灯30のそれぞれから出射された光を同じ方向へ向けて反射するリフレクタ31とを有するランプユニット18、ランプユニット18から出射された光の照度を測定する照度計20、および放電灯30を個別に通電し、または通電を遮断する機能を有しており、起動時には少なくとも1つの予備の放電灯30の通電を遮断した状態で他の放電灯30を通電し、かつ、照度計20で測定された実照度と予め設定された適正照度とを比較することによって実照度の過不足を判定するとともに、実照度の過不足を解消するように放電灯30を通電し、あるいは通電を遮断する点灯制御装置22を備えることにより、上記課題を解決した光源装置10を提供することができる。
【選択図】図1
Description
12…露光装置
14…支持台
16…光学系
18…ランプユニット
20…照度計
22…点灯制御装置
24…ランプ装置
26…電力供給装置
28…異常判定手段
30…放電灯
38…積算光量計
40…シーケンサ
42…電算処理装置
50…露光制御用シャッター
52…インテグレータ
54…反射鏡
56…凹面鏡
Claims (3)
- 複数の放電灯と、前記放電灯のそれぞれに設けられ、前記放電灯のそれぞれから出射された光を同じ方向へ向けて反射するリフレクタとを有するランプユニット、
前記ランプユニットから出射された光の照度を測定する照度計、および
前記放電灯を個別に通電し、または通電を遮断する機能を有しており、起動時には少なくとも1つの予備の前記放電灯の通電を遮断した状態で他の前記放電灯を通電し、かつ、前記照度計で測定された実照度と予め設定された適正照度とを比較することによって実照度の過不足を判定するとともに、実照度の過不足を解消するように前記放電灯を通電し、あるいは通電を遮断する点灯制御装置を備えることを特徴とする光源装置。 - 請求項1に記載の光源装置と、
前記光源装置から出射された光によって露光される露光対象物を支持する支持台と、
前記光源装置から出射された光を前記支持台で支持された前記露光対象物へ導く光学系とを備えることを特徴とする露光装置。 - 前記光学系は、前記ランプユニットから出射された光の照度分布を均一化するインテグレータを有しており、
前記照度計は、前記インテグレータによって照度分布が均一化された光を受けてその実照度を測定することを特徴とする、請求項2に記載の露光装置。
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20100112521A (ko) | 2009-04-09 | 2010-10-19 | 닛본 세이고 가부시끼가이샤 | 노광 장치용 광 조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치 및 기판 |
JP2011017770A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光形成方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2011048056A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置およびそれを用いた露光方法並びに表示用パネル基板の製造方法 |
JP2011164590A (ja) * | 2010-01-14 | 2011-08-25 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
WO2011105461A1 (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-01 | Nskテクノロジー株式会社 | 露光装置用光照射装置、露光装置、露光方法、基板の製造方法、マスク、及び被露光基板 |
WO2012011497A1 (ja) * | 2010-07-22 | 2012-01-26 | Nskテクノロジー株式会社 | 露光装置用光照射装置、光照射装置の制御方法、露光装置及び露光方法 |
JP2012042931A (ja) * | 2010-07-22 | 2012-03-01 | Nsk Technology Co Ltd | 露光装置用光照射装置、光照射装置の制御方法、露光装置及び露光方法 |
JPWO2011096365A1 (ja) * | 2010-02-05 | 2013-06-10 | Nskテクノロジー株式会社 | 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法、並びに露光装置、露光方法及び基板 |
WO2014167406A1 (ja) * | 2013-04-09 | 2014-10-16 | 株式会社オーク製作所 | 光源装置および光源装置を備えた露光装置 |
KR101443431B1 (ko) * | 2010-07-22 | 2014-10-30 | 엔에스케이 테쿠노로지 가부시키가이샤 | 노광 장치용 광조사 장치, 광조사 장치의 제어 방법, 노광 장치 및 노광 방법 |
JP2014534613A (ja) * | 2011-09-30 | 2014-12-18 | パインブルック イメージング インコーポレイテッド | 照明システム |
JP7141167B1 (ja) * | 2021-04-16 | 2022-09-22 | フェニックス電機株式会社 | 光照射装置、露光装置、および露光方法 |
WO2022220229A1 (ja) * | 2021-04-16 | 2022-10-20 | フェニックス電機株式会社 | 露光用光源、光照射装置、露光装置、および露光方法 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9041993B2 (en) | 2010-07-26 | 2015-05-26 | Lg Chem, Ltd. | Mask |
TWI463272B (zh) * | 2010-11-30 | 2014-12-01 | Ushio Electric Inc | Light irradiation device |
CN102098839B (zh) * | 2010-12-29 | 2013-09-11 | 东北大学 | 机场航站楼照明节能控制系统 |
KR101260221B1 (ko) * | 2011-12-01 | 2013-05-06 | 주식회사 엘지화학 | 마스크 |
US9140979B2 (en) | 2011-12-01 | 2015-09-22 | Lg Chem, Ltd. | Mask |
CN105045043B (zh) * | 2014-04-28 | 2018-01-05 | 株式会社V技术 | 曝光装置和曝光方法 |
JP5869713B1 (ja) * | 2015-04-13 | 2016-02-24 | フェニックス電機株式会社 | 光源装置及び露光装置とその検査方法 |
JP6503235B2 (ja) * | 2015-06-02 | 2019-04-17 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 光源装置、露光装置及び光源制御方法 |
WO2019039427A1 (ja) * | 2017-08-23 | 2019-02-28 | フェニックス電機株式会社 | 光源装置、露光装置、および光源装置の判定方法 |
KR20200096916A (ko) * | 2017-12-08 | 2020-08-14 | 페닉스덴키가부시키가이샤 | 램프의 점등 방법 |
JP7379036B2 (ja) * | 2019-09-13 | 2023-11-14 | キヤノン株式会社 | シャッタ装置、光量制御方法、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
CN111965946A (zh) * | 2020-08-13 | 2020-11-20 | Tcl华星光电技术有限公司 | 光刻用照光装置及自动调整其照度的方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004056086A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-02-19 | Ushio Inc | ランプ点灯制御装置および光照射装置 |
JP2004361746A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Mejiro Genossen:Kk | 露光用照明装置 |
JP2005227465A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Mejiro Genossen:Kk | 照明光学系の使用方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05127086A (ja) * | 1991-11-01 | 1993-05-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光強度の均一化方法およびそれを用いた露光装置 |
KR100205518B1 (ko) * | 1996-08-31 | 1999-07-01 | 구자홍 | 노광장치 및 노광방법 |
KR20010068399A (ko) * | 2000-01-05 | 2001-07-23 | 김영남 | 노광대 조도 제어장치 |
JP2002174551A (ja) | 2000-12-05 | 2002-06-21 | Oyo Denki Kk | 照度校正システム |
JP4495019B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2010-06-30 | 東レエンジニアリング株式会社 | 周辺露光装置 |
-
2007
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004056086A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-02-19 | Ushio Inc | ランプ点灯制御装置および光照射装置 |
JP2004361746A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Mejiro Genossen:Kk | 露光用照明装置 |
JP2005227465A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Mejiro Genossen:Kk | 照明光学系の使用方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20100112521A (ko) | 2009-04-09 | 2010-10-19 | 닛본 세이고 가부시끼가이샤 | 노광 장치용 광 조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치 및 기판 |
JP2011017770A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光形成方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP2011048056A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置およびそれを用いた露光方法並びに表示用パネル基板の製造方法 |
JP2011164590A (ja) * | 2010-01-14 | 2011-08-25 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
JPWO2011096365A1 (ja) * | 2010-02-05 | 2013-06-10 | Nskテクノロジー株式会社 | 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法、並びに露光装置、露光方法及び基板 |
JP2015172775A (ja) * | 2010-02-05 | 2015-10-01 | 株式会社Vnシステムズ | 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法 |
WO2011105461A1 (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-01 | Nskテクノロジー株式会社 | 露光装置用光照射装置、露光装置、露光方法、基板の製造方法、マスク、及び被露光基板 |
JP2012042931A (ja) * | 2010-07-22 | 2012-03-01 | Nsk Technology Co Ltd | 露光装置用光照射装置、光照射装置の制御方法、露光装置及び露光方法 |
KR101443431B1 (ko) * | 2010-07-22 | 2014-10-30 | 엔에스케이 테쿠노로지 가부시키가이샤 | 노광 장치용 광조사 장치, 광조사 장치의 제어 방법, 노광 장치 및 노광 방법 |
WO2012011497A1 (ja) * | 2010-07-22 | 2012-01-26 | Nskテクノロジー株式会社 | 露光装置用光照射装置、光照射装置の制御方法、露光装置及び露光方法 |
US9907152B2 (en) | 2011-09-30 | 2018-02-27 | Applied Materials, Inc. | Illumination system with monitoring optical output power |
JP2014534613A (ja) * | 2011-09-30 | 2014-12-18 | パインブルック イメージング インコーポレイテッド | 照明システム |
JP2019003202A (ja) * | 2011-09-30 | 2019-01-10 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 照明システム |
JP2016180987A (ja) * | 2011-09-30 | 2016-10-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 照明システム |
WO2014167406A1 (ja) * | 2013-04-09 | 2014-10-16 | 株式会社オーク製作所 | 光源装置および光源装置を備えた露光装置 |
JPWO2014167406A1 (ja) * | 2013-04-09 | 2017-02-16 | 株式会社オーク製作所 | 光源装置および光源装置を備えた露光装置 |
CN105144340A (zh) * | 2013-04-09 | 2015-12-09 | 株式会社Orc制作所 | 光源装置以及具有光源装置的曝光装置 |
JP7141167B1 (ja) * | 2021-04-16 | 2022-09-22 | フェニックス電機株式会社 | 光照射装置、露光装置、および露光方法 |
WO2022220229A1 (ja) * | 2021-04-16 | 2022-10-20 | フェニックス電機株式会社 | 露光用光源、光照射装置、露光装置、および露光方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101314559B1 (ko) | 2013-10-07 |
KR20080087630A (ko) | 2008-10-01 |
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