JP7379036B2 - シャッタ装置、光量制御方法、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 - Google Patents
シャッタ装置、光量制御方法、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7379036B2 JP7379036B2 JP2019167470A JP2019167470A JP7379036B2 JP 7379036 B2 JP7379036 B2 JP 7379036B2 JP 2019167470 A JP2019167470 A JP 2019167470A JP 2019167470 A JP2019167470 A JP 2019167470A JP 7379036 B2 JP7379036 B2 JP 7379036B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- exposure
- light amount
- illuminance
- state
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 238000001459 lithography Methods 0.000 title claims description 4
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 42
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 3
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70558—Dose control, i.e. achievement of a desired dose
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
Description
本発明は、上記の問題に着目してなされたものであり、露光装置等における、シャッタ閉駆動タイミングを早めつつ、照度変動による積算光量制御精度の低下を抑制したシャッタ装置を提供することを目的とする。
光源からの光を遮蔽または通過させるシャッタと、
前記シャッタを通過した光の照度を計測する計測手段と、
前記シャッタが全開状態にあるときに前記計測手段によって計測された照度値Bと、予め設定した設定積算光量Aに基づき、以下の式(1)により計測時間Texpを算出し、
Texp=A/B・・・(1)
前記計測時間Texpにおける積算光量に基づき、前記シャッタの閉駆動を開始してから閉駆動が終了するまでの期間の積算光量Aclsを算出し、設定積算光量Aと前記積算光量Aclsに基づき、前記シャッタの閉駆動を開始する時の積算光量を算出する制御手段と、を有することを特徴とする。
スピードサーボアンプ13は、露光シャッタ3の実際のスピードが2次スピード指令値24と一致するように、実際のスピードに対応したFVC11からの値と2次スピード指令値24の差分に比例する出力を発生する。
開駆動が始まるとホトディテクタ8から入射光量に応じたアナログ電圧が出力される。アナログ電圧はADコンバータ12を介し、照度データに変換される。この照度データを積算していくことで積算露光量(露光量)を計測することができる。そして所望の露光量に達したタイミングで露光シャッタの閉駆動を開始する。
上記の図3のシーケンスを、図6のフローチャートを用いて説明する。
そして、閉駆動時以降は露光量Aclsが得られることが期待できる。従って、予測露光時間(所定の計測時間)Texpは、設定露光量(設定積算光量)Aと状態203時点(シャッタ全開状態にあるとき)に計測される照度値Bと以下の式(1)を用いて予測演算できる。
また、以下の式(2)のように、TexpからTopnを引いた時間を、シャッタ羽根が開状態(全開状態)になったタイミングから計測する可変の露光計測時間Tmeasとする。なお、ここで全開状態とは、シャッタ羽根が、光源からの光束が通過する所望の径の通過領域(例えば図3~5の実線の白丸領域)と重ならない状態をいう。
Tmeas=Texp-Topn (2)
ここで図3における計測時間をTcmd、状態201から状態203までに蓄積した露光量(所定の計測時間における積算光量)をAopn、前記露光計測時間Tmeasにて蓄積した露光量をAmeasとする。その場合、露光量Aclsは、以下の式(3)で表わすことができる。
照度値Bを計測するタイミングは、シャッタ羽根の開駆動を開始するタイミングの状態201から所定時間Topnが経過した時点とする。ここで所定時間Topnは、シャッタ開駆動を開始してから全開状態に達するまでの時間を予め測定またはシミュレーションすることによって決めた固定の時間とする。あるいは、シャッタ開駆動から照度変化を測定し、照度が最大に到達した時点としても良い。あるいは照度が最大となった後に照度変化が所定値以下になった時点としてもよい。いずれの場合も、シャッタ全開状態となった時点とみなすことができる。なお、予測露光時間Texpが、計測時間Tcmdを超える場合は、予測露光時間Texp=計測時間Tcmdとすればよい。即ち、予測露光時間Texpの上限を計測時間Tcmdとすればよい。
まず、コントローラ17は、積算露光量を0にリセットして計測準備を行う(ステップS501)。次にコントローラ17は、シャッタの開駆動を開始し(ステップS502)、露光スタートする。シャッタ開駆動開始後、コントローラ17は、Topnが経過するまで待ち(ステップS503)、経過したらコントローラ17は、その時点の積算露光量カウンタ16のカウント値である積算露光量A1をAopnとして記憶する(ステップS504)。
次にコントローラ17は、ステップS504とステップS507でそれぞれ記憶した積算露光量A1(Aopn)とA2(Ameas)から、式(3)を用いてシャッタが閉状態になるまでの露光量Aclsを計算する(ステップS508)。
Et=A-Acls (4)
そしてコントローラ17は、積算露光量Etが上記式(4)に達するまで待つ。ステップS509でYesになったらコントローラ17は、シャッタの閉駆動を開始する(ステップS510)。
このように構成することによってシャッタ閉駆動の開始タイミングを前記の固定の計測時間Tcmdよりも短い時間に短縮しつつ、露光中の照度変動による露光量(積算光量)制御精度の低下を抑制したシャッタ装置を得ることができる。
シャッタ羽根が開状態となり照度が最大到達する状態303からその後シャッタ羽根が停止した状態304にかけて照度が変動すると、状態303の時点で決定する予測露光時間Texpは、実際の露光時間とかい離が生じる可能性がある。例えば、状態303から状態304までの間に照度が増加した状態で、前記規定時間分、露光量の計測を行うと、シャッタ閉駆動を開始すべきタイミングの露光量を過ぎてしまいかねない。よって、シャッタ羽根が開状態(全開)になった状態303から計測する露光計測時間Tmeasは、下記の式(5)のようにTexpからTopnを引いた時間から、更に所定の時間分のオフセットTofsを引いた時間とする。
Tmeas=Texp-Topn-Tofs (5)
上記式(5)の演算を行うことにより、状態303から状態305の間で照度変動が発生しても、その変動分を考慮したシャッタ閉駆動タイミングの露光量が設定できる。従って、露光量制御精度の低下を抑制しつつ、露光量時間の短縮化や装置の生産性向上が実現できる。
図8は実施例2の動作シーケンスを示すフローチャートである。図7と同じ番号のステップは同じ動作を表す。図7との違いは、ステップS606の露光計測時間Tmeasを得るための計算を式(5)により演算する点であり、オフセットTofsを引く処理が追加となっている。
(物品の製造方法)
また、本実施例における制御の一部または全部を上述した実施例の機能を実現するコンピュータプログラムをネットワーク又は各種記憶媒体を介してシャッタ装置等に供給するようにしてもよい。そしてそのシャッタ装置等におけるコンピュータ(又はCPUやMPU等)がプログラムを読み出して実行するようにしてもよい。その場合、そのプログラム、及び該プログラムを記憶した記憶媒体は本発明を構成することとなる。
2 楕円ミラー
3 露光シャッタ
4 レンズ
5 ハーフミラー
6 露光シャッタ駆動用モータ
7 エンコーダ
8 ホトディテクタ
10 電流ドライバ
11 FVC
12 ADコンバータ
13 スピードサーボアンプ
14 乗算器
15 ポジションカウンタ
16 積算露光量カウンタ
17 コントローラ
20 ゲインコントロールデータ
21 1次スピード指令値
24 2次スピード指令値
50 第2シャッタ
Claims (8)
- 光源からの光を遮蔽または通過させるシャッタと、
前記シャッタを通過した光の照度を計測する計測手段と、
前記シャッタが全開状態にあるときに前記計測手段によって計測された照度値Bと、予め設定した設定積算光量Aに基づき、以下の式(1)により計測時間Texpを算出し、
Texp=A/B・・・(1)
前記計測時間Texpにおける積算光量に基づき、前記シャッタの閉駆動を開始してから閉駆動が終了するまでの期間の積算光量Aclsを算出し、設定積算光量Aと前記積算光量Aclsに基づき、前記シャッタの閉駆動を開始する時の積算光量を算出する制御手段と、を有することを特徴とするシャッタ装置。 - 前記照度値Bは、前記シャッタの開駆動の開始から所定時間が経過した時点で前記計測手段によって計測された照度値であることを特徴とする請求項1に記載のシャッタ装置。
- 前記照度値Bは、前記シャッタの開駆動の開始から前記計測手段によって計測された照度が最大に到達したときの照度値であることを特徴とする請求項1に記載のシャッタ装置。
- 前記計測時間Texpは、前記照度値Bと、前記設定積算光量Aに基づき算出された計測時間に対し、所定の時間だけ短く設定されることを特徴とする請求項1に記載のシャッタ装置。
- 前記計測時間Texpは、前記照度値Bと、前記設定積算光量Aに基づき算出された計測時間に対し、所定の時間だけ短く設定されるとともに、前記所定の時間は照度変動のレンジ、または、予め測定した前記シャッタの駆動タイミングのバラつきから決定することを特徴とする請求項1に記載のシャッタ装置。
- 光源の光を遮蔽または通過させるシャッタと、前記シャッタを通過した光の照度を計測する計測手段と、を用いた露光制御方法であって、
前記シャッタが全開状態にあるときに前記計測手段によって計測された照度値Bと、予め設定した設定積算光量Aに基づき、以下の式(1)により計測時間Texpを算出し、
Texp=A/B・・・(1)
前記計測時間Texpにおける積算光量に基づき、前記シャッタの閉駆動を開始してから閉駆動が終了するまでの期間の積算光量Aclsを算出し、設定積算光量Aと前記積算光量Aclsに基づき、前記シャッタの閉駆動を開始する時の積算光量を算出する制御ステップを有することを特徴とする光量制御方法。 - 原版のパターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記原版を照明する照明光学系を備え、
前記照明光学系は、請求項1~5のいずれか1項に記載の前記シャッタ装置を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項7に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を現像する工程と、を含み
現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019167470A JP7379036B2 (ja) | 2019-09-13 | 2019-09-13 | シャッタ装置、光量制御方法、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
TW109128878A TWI826719B (zh) | 2019-09-13 | 2020-08-25 | 遮蔽器裝置、光量控制方法、光刻裝置及物品之製造方法 |
KR1020200110822A KR20210031823A (ko) | 2019-09-13 | 2020-09-01 | 셔터 장치, 광량 제어방법, 리소그래피 장치 및 물품의 제조방법 |
CN202010953490.2A CN112506007A (zh) | 2019-09-13 | 2020-09-11 | 快门装置、光量控制方法、光刻装置及物品制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019167470A JP7379036B2 (ja) | 2019-09-13 | 2019-09-13 | シャッタ装置、光量制御方法、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021043414A JP2021043414A (ja) | 2021-03-18 |
JP2021043414A5 JP2021043414A5 (ja) | 2022-09-14 |
JP7379036B2 true JP7379036B2 (ja) | 2023-11-14 |
Family
ID=74864045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019167470A Active JP7379036B2 (ja) | 2019-09-13 | 2019-09-13 | シャッタ装置、光量制御方法、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7379036B2 (ja) |
KR (1) | KR20210031823A (ja) |
CN (1) | CN112506007A (ja) |
TW (1) | TWI826719B (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06120103A (ja) * | 1992-10-07 | 1994-04-28 | Canon Inc | 露光装置 |
JP3566022B2 (ja) * | 1997-03-07 | 2004-09-15 | 株式会社リコー | 電子写真感光体の感度測定装置 |
JPH1116821A (ja) * | 1997-06-27 | 1999-01-22 | Toshiba Corp | X線露光装置およびx線露光方法 |
JPH11249312A (ja) * | 1998-03-02 | 1999-09-17 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JPH11251235A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-09-17 | Nikon Corp | 光源出力制御方法、光源装置、露光方法及び露光装置 |
JP4485282B2 (ja) * | 2004-08-06 | 2010-06-16 | シャープ株式会社 | 露光装置、露光量制御方法、露光量制御プログラムとその記録媒体 |
JP4937808B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2012-05-23 | フェニックス電機株式会社 | 光源装置ならびにこれを用いた露光装置 |
KR101443431B1 (ko) * | 2010-07-22 | 2014-10-30 | 엔에스케이 테쿠노로지 가부시키가이샤 | 노광 장치용 광조사 장치, 광조사 장치의 제어 방법, 노광 장치 및 노광 방법 |
WO2013187349A1 (ja) * | 2012-06-13 | 2013-12-19 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 機能転写体、機能層の転写方法、梱包物及び機能転写フィルムロール |
-
2019
- 2019-09-13 JP JP2019167470A patent/JP7379036B2/ja active Active
-
2020
- 2020-08-25 TW TW109128878A patent/TWI826719B/zh active
- 2020-09-01 KR KR1020200110822A patent/KR20210031823A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-09-11 CN CN202010953490.2A patent/CN112506007A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112506007A (zh) | 2021-03-16 |
JP2021043414A (ja) | 2021-03-18 |
TWI826719B (zh) | 2023-12-21 |
KR20210031823A (ko) | 2021-03-23 |
TW202111444A (zh) | 2021-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4202181B2 (ja) | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、性能測定方法、較正方法、およびコンピュータ・プログラム | |
US8717536B2 (en) | Lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product | |
TW201514638A (zh) | 微影系統與用於此微影系統之機器學習控制器 | |
KR101889837B1 (ko) | 노광방법, 노광장치, 및 물품의 제조방법 | |
US6455862B1 (en) | Lithographic projection apparatus | |
TWI564677B (zh) | 微影方法及裝置 | |
JP7379036B2 (ja) | シャッタ装置、光量制御方法、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 | |
KR102300753B1 (ko) | 결정방법, 노광방법, 정보 처리장치, 프로그램 및 물품의 제조방법 | |
TWI675259B (zh) | 微影系統、模擬裝置、及圖案形成方法 | |
JP3833209B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
KR102080119B1 (ko) | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 | |
JPH11150053A (ja) | 露光方法及び装置 | |
TW201445616A (zh) | 用於已曝光基板的自動重工之微影群組、方法及控制單元 | |
JPS63316430A (ja) | エネルギ−量制御装置 | |
TW201337473A (zh) | 微影裝置及元件製造方法 | |
JP6448220B2 (ja) | 露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法 | |
TWI789623B (zh) | 控制設備、控制方法、光刻裝置、製造物品的方法和儲存媒體 | |
JP2010080511A (ja) | 露光方法及びデバイス製造方法 | |
JP5986538B2 (ja) | 露光装置および物品の製造方法 | |
JP3218654B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及びその露光方法を用いたマイクロデバイスを作成する方法 | |
JP2002134393A (ja) | 露光装置、露光方法およびその露光方法を用いて製造した半導体装置 | |
JP2023028993A (ja) | 制御装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法 | |
JP2002023382A (ja) | 投影露光装置および投影露光方法 | |
JP2012023215A (ja) | 露光量演算方法、並びに露光方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220906 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220906 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230525 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230530 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230726 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231003 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231101 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7379036 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |