TWI826719B - 遮蔽器裝置、光量控制方法、光刻裝置及物品之製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明涉及遮蔽器裝置、光量控制方法、光刻裝置及物品製造方法。為了將遮蔽器關閉驅動時序提前並抑制照度變動引起的積算光量控制精度的下降，在遮蔽器裝置中具有：遮蔽器，其遮蔽來自光源的光或使來自光源的光通過；計測單元，其對通過了前述遮蔽器的光的照度進行計測；以及控制單元，其基於在前述遮蔽器處於全開狀態時由前述計測單元計測出的照度值和預先設定的設定積算光量來計算既定的計測時間，基於前述既定的計測時間的積算光量來計算開始前述遮蔽器的關閉驅動時的積算光量。
Description
本發明涉及曝光裝置等使用的遮蔽器裝置、光量控制方法等。
在步進重複式的曝光裝置中，作為控制曝光光及其量的功能而使用曝光遮蔽器。曝光遮蔽器例如由旋轉體等形成，前述旋轉體具有遮斷光束的遮光部和使光束通過的開口部。
作為步進重複方式的曝光裝置的曝光處理的一個例子，存在如下那樣的處理。首先，在成為曝光對象的基板上的曝光區域被定位於用以曝光的位置的狀態下，進行用於將遮蔽器葉片從關閉狀態(遮光狀態)設為開放狀態(非遮光狀態)的開放驅動，並使之靜止。然後在既定時間內用曝光光照射曝光區域，在達到期望的曝光量後，進行用於從開放狀態設為關閉狀態的關閉驅動，並完成曝光。接下來，使保持著基板的載置台移動到用於對接下來的曝光區域進行曝光的位置。在載置台的移動完成後，曝光遮蔽器再次進行開放驅動，開始曝光。將前述處理重複
與預先設定的曝光區域數相當的量，由此進行曝光處理。
接下來對曝光量控制方式進行說明。在前述那樣的曝光量控制中，在遮蔽器的關閉驅動中，無法實時地進行曝光量控制。關閉驅動中的曝光量由遮蔽器葉片的形狀、其驅動動作決定，因此無法一邊反饋曝光量一邊進行控制。於是，認為從遮蔽器葉片的關閉驅動開始到關閉驅動完成為止的曝光量是與從遮蔽器葉片的開放驅動開始到一定時間經過為止的曝光量是相等的，來進行控制。即，基於遮蔽器開放驅動時的曝光量計測值來計算遮蔽器關閉驅動期間的曝光量，基於計算出的關閉驅動中的曝光量來決定遮蔽器關閉驅動開始定時的曝光量，並進行驅動。基於從設定曝光量減去前述一定時間相當量的曝光量而得的結果，得到關閉驅動開始定時的曝光量。這種結構由日本特公昭61-34252號公報公開。
另一方面，作為近年來對曝光裝置的要求，為了提高裝置生產性，需要縮短曝光處理時間。作為達成該目的的一個手段存在如下情形，使從遮蔽器葉片開放動作完成到關閉動作開始為止的時間縮短。
然而，由於對於遮蔽器葉片的動作指令而言的致動器響應、動作指令通信的延遲、反饋導致的演算處理的延遲等，曝光量的實時的計測時間比從遮蔽器開放動作開始到開放動作完成為止的時間長。即，遮蔽器葉片已經完成了開放動作，但遮蔽器關閉動作的開始定時需要等待前述計測時間完成，在此之前無法開始遮蔽器關閉動
作。這成為妨礙使從遮蔽器葉片開放動作完成到關閉動作開始為止的時間縮短的原因。
於是，在日本特開平6-120103號公報中，提出了如下的方法：在遮蔽器開放驅動中，計測從成為開放狀態、照度達到最大起的一定時間相當量的曝光量，根據前述一定時間相當量的曝光量通過比例計算得到規定的時間相當量的曝光量。由此，能夠不等待前述曝光量計測時間經過就決定遮蔽器關閉驅動開始時的曝光量，因此有助於縮短從遮蔽器葉片開放動作完成到關閉動作開始為止的時間。
然而，在日本特開平6-120103號公報的技術中，在曝光期間發生了照度變動的情況下，在一定時間計測用於決定遮蔽器關閉驅動定時的曝光量時的照度與實際進行遮蔽器關閉驅動時的照度產生差異。其結果是，遮蔽器關閉動作時的預測出的曝光量與遮蔽器關閉動作時的實際的曝光量產生差異，曝光量控制精度下降。
本發明是鑒於上述問題而作出的，其目的在於提供一種將曝光裝置等的遮蔽器關閉驅動定時提前並且抑制照度變動引起的積算光量控制精度的下降的遮蔽器裝置。
為了解決上述問題，本發明的一方面的遮蔽器裝置具有：遮蔽器，其遮蔽來自光源的光或使來自前述光源的光
通過；計測單元，其對通過了前述遮蔽器的光的照度進行計測；以及控制單元，其基於在前述遮蔽器處於全開狀態時由前述計測單元計測出的照度值和預先設定的設定積算光量來計算既定的計測時間，基於前述既定的計測時間的積算光量來計算開始前述遮蔽器的關閉驅動時的積算光量。
通過以下參考附圖對示例性實施例的描述，本發明的其他特徵將變得更加明確。
以下，參照附圖，使用實施例對本發明的優選實施方式進行說明。另外，在各圖中，針對相同的部件或要素附加相同的附圖標記，並省略或簡化重複的說明。
[實施例1]
圖1示出了包括實施例1的遮蔽器裝置的曝光裝置(光刻裝置)的構成方塊圖。曝光裝置包括：燈具1，其作為光源，發出用於進行曝光的紫外線；橢圓反射鏡(mirror)2，其用於將燈具1的光引導至倍縮光罩(reticle)18上；以及旋轉型曝光遮蔽器3，其控制來自橢圓反射鏡2的光照射到倍縮光罩18上的時間。曝光遮蔽器3由遮斷來自前述光源的光的遮蔽器葉片301和使該光通過的開口部302形成。在橢圓反射鏡2與曝光遮蔽器3之間，設置有用於遮斷曝光光的第2遮蔽器50。
此外，通過了曝光遮蔽器3的曝光光經過透鏡(lens)4之後，部分光被半反射鏡(half mirror)5引導至用於計測照度的光檢測器(Photo detector)8。另一方面，通過了半反射鏡5的光被反射鏡MR反射並被引導至倍縮光罩(原版)18，經由投影光學系統LS被引導至作為對象物的基板ST並成像，對基板ST上的未圖示的感光材進行曝光。另外，由上述曝光遮蔽器3、透鏡4、半反射鏡5、反射鏡MR等構成照明光學系統。
除此之外，具備曝光遮蔽器驅動用馬達(motor)6、用於對曝光遮蔽器的旋轉進行檢測的編碼器7。電流驅動器10驅動曝光遮蔽器驅動用馬達6。FVC (Frequency Voltage Converter，頻率電壓轉換器)11將來自編碼器7的、與遮蔽器速度成比例的脈衝序列轉換為電壓。AD轉換器12將與來自用於計測積算曝光的光檢測器8的光量成比例的類比電壓變換為數位資料。
速度伺服放大器13產生同對應於實際速度的來自FVC 11的值與2次速度指令值24之差成比例的輸出，以使曝光遮蔽器3的實際速度與2次速度指令值24一致。
乘法器14根據1次速度指令值21和增益控制資料20，生成2次速度指令值24。位置計數器15監視遮蔽器的旋轉位置。積算曝光量(積算光量)計數器16對來自AD轉換器12的輸出進行計數，由此來監視在遮蔽器開放動作後入射到光檢測器8的光的量的按時間的積分量(積算曝光量、積算光量)。
積算曝光量計數器16與光檢測器8、AD轉換器12共同構成對通過了前述遮蔽器的光的照度進行計測的計測單元。
另外，在此，積算曝光量(積算光量)不是瞬間的光量(照度)，而是指在整個照射期間中積算(積分)的光量，在實施例中，積算曝光量(積算光量)與曝光量具有相同的意思。
控制器17用於控制整體的動作，內置有記憶體19。在記憶體19中保存有遮蔽器驅動速度相對於積算曝光量Et的關係式、參數。此外，控制器17內置有作為電腦的CPU，作為基於在前述記憶體19記憶的關係式、參數、電腦程式來執行裝置整體的各種動作的控制單元來發揮功能。
圖2是示出曝光時的遮蔽器驅動狀態與照度的影像的圖。首先，曝光遮蔽器從遮斷光束的關閉位置開始驅動。即使曝光遮蔽器3開始旋轉也不會立即成為使光束通過的狀態(開放狀態)，而關閉狀態持續。當曝光遮蔽器3的一側端部到達光束的一側端部時，光束逐漸開始通過，當到達光束的另一側端部時，成為開放狀態。
當開放驅動開始時，從光檢測器8輸出與入射光量相應的類比電壓。類比電壓經由AD轉換器12，被變換為照度資料。通過逐漸積算該照度資料，能夠計測積算曝光量(曝光量)。然後在達到期望的曝光量的時序，開始曝光遮蔽器的關閉驅動。
關閉驅動是從光束通過的位置開始驅動的，曝光遮蔽器3相對於光束再次旋轉。當曝光遮蔽器3的一側端部到達光束的一側端部時，逐漸開始遮蔽光束，當到達光束的另一側端部時，成為遮光狀態(關閉狀態)。直至成為關閉狀態的位置才進行曝光量的積算，確定最終的積算曝光量。即，用遮蔽器葉片301來控制從成為開放狀態到
開始關閉驅動為止的時間的長短，以獲得預先設定的曝光量。
圖3示出了基本的曝光量控制方法。101~109表示各個時序，並且表示出該時序的遮蔽器的狀態。首先，從曝光光被遮蔽器葉片301關閉並且遮蔽器停止的狀態101起，遮蔽器葉片301的開放驅動開始。當遮蔽器葉片旋轉時，在狀態102，曝光光開始通過，照度開始上升。在從狀態101到狀態102的期間，葉片旋轉驅動，但光沒有通過。從狀態102起逐漸開放。
然後，成為開放狀態103，遮蔽器葉片在104的狀態下停止，開放驅動完成。之後，持續既定期間的曝光，然後成為遮蔽器關閉驅動開始的狀態106。之後，轉移成開始遮斷曝光光的狀態107和將曝光光遮斷的狀態108，遮蔽器葉片在109的狀態下停止。
使用圖6的流程圖說明上述圖3的序列。
首先，控制器17將積算曝光量Et重置為0，由光檢測器8開始計測積算曝光量Et(步驟S401)。接下來，控制器17開始遮蔽器的開放驅動(步驟S402)，開始進行曝光。接下來，控制器17待機，直到預先設定的固定的計測時間Tcmd經過為止(步驟S403)。
然後，在計測時間Tcmd經過後，控制器17記憶直到該時點為止的曝光量(圖3的S1+S2)(步驟S404)。接下來，控制器17在遮蔽器開放狀態下待機，直到積算曝光量Et成為“設定曝光量A-在上述步驟S404中記憶的曝光
量(S1+S2)”為止(步驟S405)。在積算曝光量達到上述曝光量後，控制器17開始遮蔽器的關閉驅動(步驟S406)。
在該例子中，以使從圖3的狀態106到狀態109的遮蔽器關閉驅動時的曝光量S4+S5與從狀態101到狀態105的從開始遮蔽器開放驅動到經過規定時間為止的曝光量S1+S2相等的方式確定計測時間Tcmd。另外，與遮蔽器開放動作完成的狀態104相比，計測時間Tcmd更耗費時間，遮蔽器關閉動作需要等待計測時間Tcmd經過。
因此，在從狀態104(遮蔽器葉片停止狀態)到狀態105的期間，儘管遮蔽器葉片為能夠驅動的狀態，但計測會耗費時間，因此無法縮短該時間。
於是，考慮如下的方法：在從遮蔽器葉片成為開放狀態的時序的狀態103到狀態104的期間，測定一定時間相當量的曝光量，用原本想要獲取的時間相當量對該曝光量進行比例計算，來決定遮蔽器關閉驅動的曝光量。
通過採用該方法，無需等待固定的計測時間Tcmd經過，就能夠決定在遮蔽器關閉驅動開始時序的曝光量，因此有助於縮短曝光處理時間。但是，在從對前述一定時間相當量的曝光量進行計測的時序到遮蔽器關閉驅動開始為止的期間發生了照度變動的情況下，該照度變動相當量的曝光量作為誤差而產生，可能導致曝光量控制精度的下降。
圖4示出改善了上述點的實施例1的動作。201~209表示各個時序，並且表示出該時序的遮蔽器的狀
態。首先，從遮蔽器停止且曝光光被遮蔽器葉片301遮斷的狀態201起，遮蔽器葉片301的開放驅動開始。當遮蔽器葉片301驅動時在狀態202下曝光光開始通過，照度開始上升。然後，遮蔽器葉片成為開放的狀態203，遮蔽器葉片在204的狀態下停止，開放驅動完成。
當在狀態206下遮蔽器接收到關閉驅動開始指令時，遮蔽器葉片的關閉動作(旋轉)開始。之後，從狀態207起遮蔽器葉片開始曝光光的關閉動作，在狀態208下遮斷光束，在狀態209下遮蔽器葉片的旋轉停止並且關閉驅動完成。從狀態206到狀態208為止的時間Tcls與從作為遮蔽器開放驅動開始的狀態201到照度達到最大的狀態203為止的時間Topn是相等的。
從遮蔽器葉片中的狀態202到狀態203為止的時間與從狀態207到狀態208為止的時間是相等的，此外，從狀態201到狀態202為止的時間與從狀態206到狀態207為止的時間是相等的。
此外，在實施例1中，在Tcls期間累積的曝光量Acls示意性地左右、上下翻轉，與在Topn期間蓄積的曝光量Aopn配合，形成由底邊為Topn、高度為在狀態203的時點計測的照度值B形成的長方形的區域。
這是因為如果開口部302的形狀關於既定的半徑方向的線成為對稱形狀，則從狀態202到狀態203為止的曝光量變化的曲線與當從狀態207到狀態208為止的曝光量變化的曲線被翻轉後是一致的。
並且，能夠期待在關閉驅動以後獲得曝光量Acls。因此，能夠使用設定曝光量(設定積算光量)A、在狀態203時點(處於遮蔽器全開狀態時)計測的照度值B以及下式(1)來預測演算預測曝光時間(既定的計測時間)Texp。
此外，如下式(2)那樣，將從Texp減去Topn而得的時間設為從遮蔽器葉片成為開放狀態(全開狀態)的時序起計測的可變的曝光計測時間Tmeas。另外，在此，全開狀態是指遮蔽器葉片不會與來自光源的光束通過的、期望的直徑的通過區域(例如圖3～圖5的實線的白圈區域)交疊的狀態。
在此能夠將圖3中的計測時間設為Tcmd，將從狀態201到狀態203為止蓄積的曝光量(既定的計測時間的積算光量)設為Aopn，將在前述曝光計測時間Tmeas內蓄積的曝光量設為Ameas。在該情況下，曝光量Acls能夠用下式(3)表示。
將計測照度值B的時序設為從開始遮蔽器葉片的開放驅動的時序的狀態201起既定時間Topn經過的時點。在此，既定時間Topn設為藉由預先測定或仿真來決定從開始遮蔽器開放驅動到達到全開狀態為止的時間而得的固定的時間。
或，也可以從遮蔽器開放驅動起測定照度變化，設為照度達到最大的時點。或也可以設為照度成為最大後照度變化成為既定值以下的時點。不論在哪個情況下，都能夠視為成為遮蔽器全開狀態的時點。另外，在超過計測時間Tcmd的情況下，使預測曝光時間Texp=計測時間Tcmd即可。即，將預測曝光時間Texp的上限設為計測時間Tcmd即可。
圖7的流程圖示出了上述動作序列。
首先，控制器17將積算曝光量重置為0，並進行計測準備(步驟S501)。接下來，控制器17開始遮蔽器的開放驅動(步驟S502)，曝光開始。
在遮蔽器開放驅動開始後，控制器17待機到Topn經過為止(步驟S503)，然後控制器17將該時點的積算曝光量計數器16的計數值，即積算曝光量A1，記憶為Aopn(步驟S504)。
在步驟S505，控制器17用與到步驟S504為止計測出的積算曝光量A1不同的積算曝光量A2開始進行積算。然後，控制器17待機到基於式(1)及式(2)計算出的曝光計測時間Tmeas經過為止(步驟S506)，控制器17將Tmeas經過時點的積算曝光量A2記憶為Ameas(步驟S507)。
接下來，控制器17根據分別在步驟S504和步驟S507中記憶的積算曝光量A1(Aopn)和A2(Ameas)，使用式(3)計算到遮蔽器成為關閉狀態為止的曝光量Acls(步驟S508)。
接下來，在步驟S509，控制器17基於前述設定曝光量A和在步驟S508計算出的曝光量Acls，用下式(4)來計算遮蔽器關閉驅動開始時的積算曝光量Et。
然後，控制器17待機到積算曝光量Et達到上述式(4)為止。在步驟S509為“是”之後，控制器17開始進行遮蔽器的關閉驅動(步驟S510)。
通過這樣的結構，能夠獲得將遮蔽器關閉驅動的開始時序縮短為比前述固定的計測時間Tcmd短的時間，並且抑制曝光期間的照度變動引起的曝光量(積算光量)控制精度的下降的遮蔽器裝置。
[實施例2]
接下來，在圖5中示出了實施例2的動作時序。301～309分別表示時序，並且表示出該時序的遮蔽器的狀態，與實施例1的差異如下。
當照度從遮蔽器葉片成為開放狀態並且照度達到最大的狀態303改變到之後遮蔽器葉片停止的狀態304時，存在於狀態303的時點決定的預測曝光時間Texp與實際的曝光時間偏離的可能性。
例如，在從狀態303到狀態304為止的期間照度增加的狀態下，當以前述規定時間相當量進行曝光量的計測時，可能會超過應當開始遮蔽器關閉驅動的時序的曝光量。因此，將從遮蔽器葉片成為開放狀態(全開)的狀態303起計測的曝光計測時間Tmeas設為如下式(5)那樣，從Texp減去Topn而得的時間再減去既定的時間相當量的偏移量(offset)Tofs而得到的時間。
偏移量Tofs例如是根據照度變動的範圍或預先測定出的遮蔽器的驅動時序的變異性來決定的。
通過進行上述式(5)的演算，即使在從狀態303到狀態305為止的期間發生了照度變動，也能夠設定考慮了該變動相當量而得的遮蔽器關閉驅動時序的曝光量。
因此，能夠抑制曝光量控制精度的下降，並且實現曝光量時間的短縮化、提高裝置的生產性。
圖8是示出實施例2的動作序列的流程圖。與圖7相同的編號的步驟表示相同的動作。與圖7的不同之處在於，用式(5)演算步驟S606的曝光計測時間Tmeas，以及追加了減去偏移量Tofs的處理。
(物品的製造方法)
接下來，對前述曝光裝置(光刻裝置)的物品(半導體IC元件、液晶顯示元件、MEMS等)的製造方法進行說明。通過使用前述曝光裝置，用將塗覆有感光劑的基板(晶圓、玻璃基板等)ST經由前述倍縮光罩(原版)18進行曝光來將原版的圖案形成於基板的程序、將形成有前述圖案的基板(感光劑)進行顯影的程序、用其他公知的程序來處理進行了顯影的基板，來製造物品。其他公知的程序包括蝕刻、抗蝕層剝離、切割、接合、封裝等。根據本物品製造方法，能夠製造與以往相比更高質量的物品。
儘管已經參考示例性實施例描述了本發明，但是應當理解，本發明不限於所公開的示例性實施例。所附的權利要求的範圍應被賦予最寬泛的解釋，以涵蓋所有這樣的修改以及等同的結構和功能。
例如在實施例中對曝光裝置中的遮蔽器裝置進行了說明，但毫無疑問，本發明的遮蔽器裝置也能應用於曝光裝置以外的其他裝置。
此外，亦可以經由網路或各種記憶媒體將實現上述實施例中的控制的部分或全部功能的電腦程式供給至遮蔽器裝置等。然後，亦可由該遮蔽器裝置等的電腦(或CPU、MPU等)讀出程序並執行程序。在該情況下，該程序及存儲有該程序的記憶媒體構成本發明。
本申請要求2019年9月13日提交的日本專利申請第2019-167470號的權益，其全部內容通過引用併入於此。
1:燈具
2:橢圓反射鏡
3:曝光遮蔽器
4:透鏡
5:半反射鏡
6:曝光遮蔽器驅動用馬達
7:編碼器
8:光檢測器
10:電流驅動器
11:FVC
12:AD轉換器
13:速度伺服放大器
14:乘法器
15:位置計數器
16:積算曝光量計數器
17:控制器
18:倍縮光罩
19:記憶體
20:增益控制資料
21:1次速度指令值
24:2次速度指令值
50:第2遮蔽器
301:遮蔽器葉片
302:開口部
LS:投影光學系統
MR:反射鏡
ST:基板
101~109:狀態
201~209:狀態
301~309:狀態
[圖1]是包括本發明的實施例的曝光控制裝置的曝光裝置的構成方塊圖。
[圖2]是示出實施例的曝光時的遮蔽器驅動狀態與照度的影像的圖。
[圖3]是示出基本的曝光量控制方法的圖。
[圖4]是示出本發明的實施例1的動作定時的圖。
[圖5]是示出本發明的實施例2的動作定時的圖。
[圖6]是示出與圖3對應的曝光方法的序列的流程圖。
[圖7]是示出本發明的實施例1的動作序列的流程圖。
[圖8]是示出本發明的實施例2的動作序列的流程圖。
1:燈具
2:橢圓反射鏡
3:曝光遮蔽器
4:透鏡
5:半反射鏡
6:曝光遮蔽器驅動用馬達
7:編碼器
8:光檢測器
10:電流驅動器
11:FVC
12:AD轉換器
13:速度伺服放大器
14:乘法器
15:位置計數器
16:積算曝光量計數器
17:控制器
18:倍縮光罩
19:記憶體
20:增益控制資料
21:1次速度指令值
24:2次速度指令值
50:第2遮蔽器
301:遮蔽器葉片
302:開口部
LS:投影光學系統
MR:反射鏡
ST:基板
Claims (8)
- 一種遮蔽器裝置，其具有：遮蔽器，其遮蔽來自光源的光或使來自光源的光通過；計測單元，其對通過了前述遮蔽器的光的照度進行計測；以及控制單元；前述控制單元：基於在前述遮蔽器處於全開狀態時由前述計測單元計測出的照度值B和預先設定的設定積算光量A，透過以下式(1)來計算計測時間Texp，Texp=A/B…(1)，且基於前述計測時間Texp的積算光量，計算從開始前述遮蔽器的關閉驅動至關閉驅動結束為止的期間的積算光量Acls，基於設定積算光量A與前述積算光量Acls，計算開始前述遮蔽器的關閉驅動時的積算光量。
- 如請求項1的遮蔽器裝置，其中，前述照度值是在從前述遮蔽器的開放驅動開始起經過既定時間的時點，由前述計測單元計測出的照度值。
- 如請求項1的遮蔽器裝置，其中，前述照度值是從前述遮蔽器的開放驅動開始起，由前述計測單元計測出的照度達到最大時的照度值。
- 如請求項1的遮蔽器裝置，其中，前述計測時間Texp設定為，相對於基於前述照度值和前述設定積 算光量A計算出的計測時間，縮短既定的時間。
- 如請求項1的遮蔽器裝置，其中，前述計測時間Texp設定為，相對於基於前述照度值和前述設定積算光量A計算出的計測時間，縮短既定的時間，並且根據照度變動的範圍或預先測定的前述遮蔽器的驅動時序的變異性，來決定前述既定的時間。
- 一種光量控制方法，其使用遮蔽器和計測單元，前述遮蔽器遮蔽來自光源的光或使來自光源的光通過，前述計測單元對通過了前述遮蔽器的光的照度進行計測，前述光量控制方法包括控制步驟，在前述控制步驟中：基於在前述遮蔽器處於全開狀態時由前述計測單元計測出的照度值B和預先設定的設定積算光量A，透過以下式(1)來計算計測時間Texp，Texp=A/B…(1)，且基於前述計測時間Texp的積算光量，計算從開始前述遮蔽器的關閉驅動至關閉驅動結束為止的期間的積算光量Acls，基於設定積算光量A與前述積算光量Acls，計算開始前述遮蔽器的關閉驅動時的積算光量。
- 一種光刻裝置，其在基板上形成原版的圖案，前述光刻裝置具有：照明光學系統，其具有用於對前述原版進行照明的光源； 遮蔽器，其遮蔽來自前述光源的光或使來自前述光源的光通過；計測單元，其對通過了前述遮蔽器的光的照度進行計測；以及控制單元；前述控制單元：基於在前述遮蔽器處於全開狀態時由前述計測單元計測出的照度值B和預先設定的設定積算光量A，透過以下式(1)來計算計測時間Texp，Texp=A/B…(1)，且基於前述計測時間Texp的積算光量，計算從開始前述遮蔽器的關閉驅動至關閉驅動結束為止的期間的積算光量Acls，基於設定積算光量A與前述積算光量Acls，計算開始前述遮蔽器的關閉驅動時的積算光量。
- 一種使用光刻裝置的物品製造方法，前述光刻裝置具有遮蔽器和計測單元，前述遮蔽器遮蔽來自光源的光或使來自光源的光通過，前述計測單元對通過了前述遮蔽器的光的照度進行計測，前述物品的製造方法包括：控制步驟；利用前述控制步驟在基板上形成圖案的程序；對形成有前述圖案的前述基板進行顯影的程序；以及用進行了顯影的前述基板製造物品的程序；前述控制步驟： 基於在前述遮蔽器處於全開狀態時由前述計測單元計測出的照度值B和預先設定的設定積算光量A，透過以下式(1)來計算計測時間Texp，Texp=A/B…(1)，且基於前述計測時間Texp的積算光量，計算從開始前述遮蔽器的關閉驅動至關閉驅動結束為止的期間的積算光量Acls，基於設定積算光量A與前述積算光量Acls，計算開始前述遮蔽器的關閉驅動時的積算光量。
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