JPH06120103A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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Publication number
JPH06120103A
JPH06120103A JP4291945A JP29194592A JPH06120103A JP H06120103 A JPH06120103 A JP H06120103A JP 4291945 A JP4291945 A JP 4291945A JP 29194592 A JP29194592 A JP 29194592A JP H06120103 A JPH06120103 A JP H06120103A
Authority
JP
Japan
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exposure
shutter
light
time
exposure amount
Prior art date
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Pending
Application number
JP4291945A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Koide
博之 小出
Kazuya Kikuchi
一哉 菊地
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 焼付露光量をより正確に制御できるように
し、さらに、より短い時間の露光を可能にする。 【構成】 被記録体を露光するための露光光を発する光
源と、該光源と被記録体間の露光光路上に設けた該光路
を開閉するためのシャッタと、該シャッタと被記録体間
の前記光路上の光強度を検出する光検出器と、該光検出
器の出力に基づきシャッタを駆動制御する制御手段とを
備えた露光装置において、該制御手段は、該光検出器の
出力に基づいてシャッタ開動作中の露光量を求める手段
と、開動作に要する時間に光源が発生する光量を検出す
る手段と、該シャッタ開動作中の露光量と開動作に要す
る時間に光源が発生する光量とに基づいて閉動作中の露
光量を求め、前記シャッタへの閉動作指令の発生タイミ
ングを補正する手段とを具備する。あるいは同様の露光
装置において、さらにもう1つのシャッタを有し、前記
制御手段は、前記光路を一方のシャッタを駆動して開放
し、その所定時間経過後に他方を駆動して閉成するよう
に各シャッタを駆動制御するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造用露光装置
に用いられる露光装置に関し、特にIC〜LSI等の製
造に使用される半導体回路パターン焼付露光量を最適に
しかつ焼付露光を高速にするための改良を施したものに
関する。
【0002】
【従来の技術】従来の露光装置は、特公昭61−342
52号に記載されているように、被記録体からの光また
は被記録体を照射する光の強度を光電検出器で検出し、
この検出値に対応する周波数の出力パルスを得て、この
パルスを計数し、所定のパルス数に達した際にシャッタ
を閉じる構成を有する。そしてシャッタは、1枚の回転
円板に遮光部と透光部を交互に設け、これを回転駆動す
ることにより、照明光の遮光状態および透光状態を制御
するものであり、このシャッタの作動遅れ時間、すなわ
ちシャッタの閉じ信号が発生してからシャッタが完全に
閉じるまでに被写体に照射される露光量による誤差を補
正するため、シャッタ開動作時にシャッタ作動遅れによ
る露光量に対応したパルス数を計数し、このパルス数を
考慮してシャッタ閉じ信号の発生タイミングを補正する
ようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、例えば、開動作、閉動作において、シャッ
タ羽根が光束を一定速で横切る場合など、シャッタ開動
作時の露光量に対応するパルス数と、シャッタ閉動作時
の露光量に対応するパルス数が等しい場合には、正確に
露光量を補正することができたが、それらが異なる場
合、焼付露光量が目標露光量と一致しないという欠点が
ある。すなわち、シャッタ開動作及び閉動作開始時のシ
ャッタの位置が露光のたびにばらつくと、シャッタ作動
遅れ時間とその間に得られる露光量、及びその補正のた
めのシャッタ開動作とシャッタ作動遅れ時間に対応する
パルス数がばらつき、結果として、露光のたびに露光量
がばらついてしまう。このため、シャッタの開動作及び
閉動作開始のシャッタと露光光軸の位置関係を露光のた
びに正確に合わせる必要があり、この位置決めが終了す
るまで、シャッタ動作が開始できず、シャッタ動作時間
と位置決め時間の合計より短い時間の露光ができないと
いう欠点がある。
【0004】本発明の目的は、上記従来技術の欠点に鑑
み、露光量制御装置において、焼付露光量をより正確に
制御できるようにし、さらに、より短い時間の露光を可
能にすることにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明では、被記録体を露光するための露光光を発する
光源と、該光源と被記録体間の露光光路上に設けた該光
路を開閉するためのシャッタと、該シャッタと被記録体
間の前記光路上の光強度を検出する光検出器と、該光検
出器の出力に基づきシャッタを駆動制御する制御手段と
を備えた露光装置において、該制御手段は、該光検出器
の出力に基づいてシャッタ開動作中の露光量を求める手
段と、開動作に要する時間に光源が発生する光量を検出
する手段と、該シャッタ開動作中の露光量と開動作に要
する時間に光源が発生する光量とに基づいて閉動作中の
露光量を求め、前記シャッタへの閉動作指令の発生タイ
ミングを補正する手段とを具備することを特徴とする。
【0006】前記露光量を求める手段は、例えば、前記
光検出器の出力に対応する周波数の出力パルスを発生す
る電圧/周波数変換器を有し、このパルス数を計測する
ことにより露光量を算出するように構成したものであ
る。
【0007】また、本発明の別の態様においては、被記
録体を露光するための露光光を発する光源と、該光源と
被記録体間の露光光路上に設けられおのおの該光路を開
放及び閉成することが可能な第1シャッタ及び第2シャ
ッタと、該光路上の光強度を検出する光検出器と、該検
出器の出力に基づき第1及び第2シャッタを駆動制御す
る制御手段とを具備し、該制御手段は、前記光路を前記
第1及び第2シャッタのうち一方を駆動して開放し、そ
の所定時間経過後に他方を駆動して閉成するように該第
1及び第2シャッタを駆動制御するものであることを特
徴とする。
【0008】前記光検出器は、例えば、前記第1及び第
2シャッタより前記被記録体側に配置され、前記制御手
段は予め定めたシャッタ作動遅れ時間に得られる露光量
を計測し、その結果に基づき該露光量より小さな露光量
による露光を行うように制御するものである。あるい
は、前記光検出器は前記第1及び第2シャッタよりも光
源側に配置され、前記制御手段は目標露光量と該検出器
の出力に基づき露光時間を算出するものである。
【0009】
【作用】この構成において、光検出器の出力に基づいて
シャッタ開動作中の露光量を求め、また、開動作に要す
る時間に光源が発生する光量を検出し、これらに基づい
て閉動作中の露光量を求め、シャッタへの閉動作指令の
発生タイミングを補正するようにしたため、開動作中の
露光量と閉動作中の露光量とが一致しない場合でも、開
動作に要する時間に光源が発生する光量からシャッタ開
動作中の露光量を引いたものを閉動作中の露光量とする
ことによって、より正確な露光量により露光が行われ
る。
【0010】また、光路を第1及び第2シャッタのうち
一方を駆動して開放し、その所定時間経過後に他方を駆
動して閉成するように第1及び第2シャッタを駆動制御
するようにしたため、一方のシャッタの正確な位置決め
が完了する以前に他方のシャッタを駆動して閉成動作を
開始することができ、これにより、露光量制御精度を劣
化させることなく、より高速、短時間の露光が行われ
る。
【0011】
【実施例】実施例1 図1は、本発明の第1の実施例に係る半導体回路パター
ン焼付装置を示す。図中、1は光源となるランプ、2は
半導体回路パターンが形成されておりランプ1によって
照明されるマスク、3はマスク2の回路パターンがその
上面に形成されるウエハ、4はランプ1からの照明光を
遮断するシャッタ、5はシャッタ4を通過した光の強度
を検出する光センサ、6は光源1の光の強度を検出する
光センサ、7および8はそれぞれ光センサ5および6に
よって検出された光強度を電圧信号に変換するアンプ、
9および10はそれぞれアンプ7および8からの電圧信
号を周波数信号に変換するV/Fコンバータ、11およ
び12はそれぞれV/Fコンバータ9および10からの
周波数信号のパルス数をカウントするパルスカウンタ、
13はパルスカウンタ11および12の出力に基づいて
露光制御を行うCPU、14はCPU13によって制御
されシャッタ4を開閉駆動する駆動回路、15はCPU
13に接続された露光量設定器、16はCPU13に接
続されたRAMである。
【0012】図3は、上記構成の露光装置による露光シ
ーケンスを示すフローチャートである。同図に示すよう
に、露光を開始すると、まず、露光すべき目標露光量が
露光量設定器15よりCPU13に与えられ、CPU1
3はこれをRAM16に格納し(ステップS01)、シ
ャッタ駆動回路14に対しシャッタ開指令を発生してシ
ャッタ4を駆動する(ステップS02)。
【0013】シャッタ4が開いてランプ1からの露光光
がシャッタ4を通過し、マスク2を通してウエハ3を照
明すると、光センサ5に入射する光の強度をアンプ7で
電圧信号に変換し、さらにV/Fコンバータ9によりパ
ルス列に変換し、このパルス数をパルスカウンタ11に
より計数する(ステップS03,S05)。また、これ
と同時に、光源1の光の強度についても、光センサ6、
アンプ8、V/Fコンバータ10、及びパルスカウンタ
12を介して計数する(ステップS04,S05)。次
に、CPU13は、パルスカウンタ11,12の係数値
を読み(ステップS06)、パルスカウンタ11のパル
ス数からパルスカウンタ12のパルス数を引いたパルス
数を閉動作時のシャッタ駆動遅れ露光量として求め、R
AM16に格納しておいた目標露光量からこの閉動作時
の遅れ露光量を引いた露光量(補正露光量)を計算して
RAM16に格納する(ステップS07)。
【0014】次に、CPU13はパルスカウンタ11の
計数値を読み(ステップS08)、計数値がRAM16
に格納した補正露光量と一致するまでループする(ステ
ップ09)。両者が一致したら、CPU13はシャッタ
駆動回路14に対しシャッタ閉指令を発生し(ステップ
S10)、これによりシャッタ4が閉じて露光が終了す
る。
【0015】図2はシャッタ4の構造例を示す。この例
は3枚の羽根17を持つ円板をモータ18で回転駆動さ
せる構成を有する。図2の状態は羽根17により光19
が遮断されている閉の状態であり、円板を60度回転さ
せると開状態となり照明光19が通過する。さらに60
度回転させると羽根17により照明光が遮断され閉状態
となる。
【0016】さらに詳述すれば、図2のシャッタ羽根の
例の場合、開動作、閉動作はともにモータによる60度
の回転制御によって行われ、同じ制御方法を用いた場
合、開動作と閉動作ではシャッタ羽根は時間に対して同
じ速度および回転角で動く。そして、シャッタの開動作
時の回転速度υが、 υ(θ)=υ(60°−θ);0°≦θ≦30° (1) を満たして制御されている場合の時間tに対する速度v
を図4(a)に、回転角θを図4(b)に、照度を図4
(c)に示す。図4(b)において、シャッタの閉動作
時の軌道とθ=60°の線に対して対称な曲線を点線で
表してある。(1)式が成立するようにシャッタ制御を
行った場合、開動作においては30°の点に対して、閉
動作においては90°の点に対して点対称となるように
シャッタは動くため、図4(b)に示すように、開動作
時の露光量に係わる面積S1 と閉動作時の露光量に係わ
る面積S2 は等しくなる。このため開動作時の露光量Q
opnと閉動作時の露光量Qcls は一致し、したがって、
光センサ1によりQopn を測定してQcls を求め、露光
量を補正することができる。
【0017】ところが、静止摩擦などの影響により、
(1)式の速度を満たすようなシャッタ羽根の位置制御
を行うことは困難であり、図5(a)に示すように、
(1)式が成立しない偏りを持った速度変化が生じるこ
とが多い。この場合の回転角θおよび被写体の照度を図
5(b)および(c)に示す。図5(b)において、シ
ャッタ閉動作時の軌道と60°の線に対して対称な曲線
を点線で表してある。
【0018】この場合において開動作と閉動作に同じ制
御方法を用いると、シャッタ羽根は開動作と閉動作では
時間に対して同じ動きをするため、図5(b)に示すよ
うに開動作時の露光量に係わる面積S1 はS1 ′と等し
くなる。したがって、S1 の面積は、閉動作時の露光量
に係わる面積S2 と異なり、図5(b)の長方形51の
面積をS3 とすると、S2 =S3 −S1 となる。以上か
ら、S1 に対応する開動作時の焼付け露光量Qopn 、S
2 に対応する閉動作時の露光量Qcls 、およびS3 に対
応する光量Qlampの関係は、 Qcls =Qlamp−Qopn (2) となる。ここで、Qlampは、シャッタ開動作中に光源か
ら発生する光量に等しい。
【0019】このような場合、Qcls =Qopn とする従
来の補正方法では、焼付け露光量は目標露光量と一致し
ない。そこで、ここでは、センサ1により開動作時の露
光量Qopn を、センサ2により開動作時の光源からの光
量Qlampを計測し、これらの差から、Qcls を求めて露
光量補正を行い、目標露光量に近い焼付け露光を可能に
している。
【0020】なお、ここでは、シャッタの前後に2つの
光センサを用いたが、光センサ1のみで閉動作時の露光
量Qcls を求めることも可能である。すなわち、図6に
示すように、まず光センサ1で開動作時の露光量Qopn
を求め、シャッタが開き終わった後、光センサ1で、開
動作に要する時間topn と等時間、露光量Qlampを測定
し、これらからQcls を求めることができる。また、図
7に示すように、シャッタが開き終わった後、topn
n時間のみ露光量Qlampを測定し、 Qcls =nQlamp−Qopn (3) より、Qcls を求めることもできる。
【0021】実施例2 図8は、本発明の第2の実施例に係る半導体回路パター
ン焼付装置を示す。図中、81及び82はランプ1から
の光を遮断する第1及び第2シャッタであり、それぞれ
ランプ1からマスク2及びウエハ3への光路上にあり、
それぞれ第1シャッタ駆動回路83及び第2シャッタ駆
動回路84により開閉動作を行い、第1及び第2の両方
のシャッタが開状態の時のみ、マスク2及びウエハ3が
ランプ1により照射される。他の、図1と同一の符号
は、図1の場合と同様の要素を意味する。
【0022】照明光を遮断・透過制御するシャッタにつ
いて詳述すれば、従来の露光装置では、シャッタは本発
明におけるように第1シャッタ81および第2シャッタ
82の2つのシャッタではなく、いずれか一方のみで構
成されていた。シャッタの構造は図2に例示したが、照
明光束19の大きさにより、遮光部(羽根)を1つ、2
つあるいは4つ有するものでもかまわない。図2で示す
状態は遮光部17aが照明光束19を遮光している状態
で、この状態から、モータ18が右に(左でもよい)6
0°だけ回転すると、照明光束19は透光状態となり、
露光が開始される。次に、さらにモータ18が右に60
°だけ回転すると遮光部17bが照明光速19を遮光
し、露光が終了する。
【0023】図9は第1シャッタ81及び第2シャッタ
82の遮光部を示す斜視図である。第1シャッタ81及
び第2シャッタ82は図2で説明したシャッタを2個相
対して配置してある。各シャッタを駆動するモータは省
略してある。第1シャッタ81には遮光部A、B、C
が、第2シャッタ82には遮光部A’、B’、C’があ
り、両者が同一の形状なので同一の速度での駆動が可能
である。図9で示す状態では、第2シャッタ82は照明
光束19に対し透光状態の位置にあるが、第1シャッタ
81の遮光部Aが照明光束19を遮光しており、露光は
されない状態である。ここで第1シャッタ81が右に
(左でもよい)60°だけ回転すると照明光束19は透
光状態をとなり、露光が開始される。次に第2シャッタ
82が右に60°回転すると、遮光部A’が照明光束1
9を遮光し、露光が終了する。さらに次の露光を開始す
るには第2シャッタ82をさらに右に60°だけ回転さ
せればよく、この後、第1シャッタ81を右に60°だ
け回転させると遮光部Bが照明光束19を遮光し、露光
が終了する。
【0024】次に図2で示した単一のシャッタを用いた
従来の露光装置の露光量制御シーケンスを図10に示
す。これが適用される露光制御系は図8における制御系
で第2シャッタ82と第2シャッタ駆動回路84が存在
しないか又は第2シャッタ82は開状態のまま動作しな
いものと同等である。露光を開始すると、露光すべき目
標露光量が露光量設定器15よりCPU13に与えら
れ、CPU13は目標露光量をメモリ16に格納し(ス
テップ501)、シャッタ駆動回路83に対しシャッタ
開指令を発生し(ステップ502)、シャッタ81を開
駆動する。シャッタ81が開くと、ランプ1からの照明
光がシャッタ81を通過し、マスク2を通してウエハ3
を照明すると同時に光センサ5に入射し、アンプ7で電
圧信号に変換され、さらにV/Fコンバータ9によりパ
ルス列に変換される。このパルス数はパルスカウンタ1
1により計数される。CPU13はシャッタ開指令を発
生した時刻よりシャッタ駆動遅れ時間の計測を開始する
(ステップ503)。この計測はシャッタ81に閉駆動
指令が発生してから、閉駆動分の駆動角(60°)だけ
駆動するのに要する時間だけ発振器85の出力パルスを
計数することにより行われる。CPU13はこの計数が
終了すると(ステップ504)、パルスカウンタ11の
計数値(シャッタ作動遅れ時間の露光量)を読み(ステ
ップ505)、メモリ16に格納しておいた目標露光量
より、遅れ時間分露光量を引いた露光量(補正露光量)
を計算し、メモリ16に格納する(ステップ506)。
【0025】次にCPU13はパルスカウンタ11の計
数値を読み(ステップ507)、計数値がメモリ16に
格納した補正露光量と一致するまでループする(ステッ
プ508)。両者が一致したらCPU13はシャッタ駆
動回路83に対しシャッタ閉指令を発生し(ステップ5
09)、シャッタ81の閉動作が完了したら(ステップ
510)露光終了である。
【0026】次にこのシーケンスにおける露光中のシャ
ッタの動きと露光開口の光の挙動を図11及び図12を
用いて説明する。図11はシャッタ円板81と照明光束
が通過する露光開口86の位置関係を示したものであ
り、図11(a)は遮光部Aによって開口86が完全に
遮光された状態である。図11(b)は図11(a)の
状態からシャッタ81が右に60°だけ回転し、開口8
6が完全に透光になった状態である。図11(c)は図
11(b)の状態からシャッタ81がさらに60°だけ
回転し、遮光部Bにより開口86が完全に遮光された状
態である。
【0027】図12は露光開始から終了までのシャッタ
81の動きと、開口86の状態の変化を示すタイミング
チャートである。ここでは横軸に時間、縦軸にシャッタ
81の駆動角及び開口86の位置関係及び状態を示して
ある。ここで図11(a)における開口86に対する遮
光部Aの左側端面の位置をシャッタ81の基準位置0°
とし、右回りを正の角度と定める。図12において、曲
線21は図11(a)におけるシャッタ81の遮光部A
の左端の動きを、また曲線22は遮光部Bの上端の動き
を示したものである。また平行四辺形23は露光時のシ
ャッタ81の動きに伴う開口86の状態で斜線部が露光
しているタイミングを、又斜線部の面積が露光量を示し
ている。
【0028】時刻t0 より前にはシャッタ81の遮光部
A及びBは0°及び−60°の位置にある(図11
(a)の状態)。時刻t0 にシャッタ81に開指令が与
えられ、シャッタ81が駆動しはじめるが、開口86の
大きさはシャッタ81の遮光部Aの大きさより小さいの
で、実際に開口86が開き始めるのは時刻t1 である。
さらにシャッタ81の開始駆動が進み、時刻t2 になっ
たとき、シャッタ81は開口86を完全に開き、さらに
時刻t3 にシャッタ81は時刻t0 から60°だけ駆動
したことになる。ただし、シャッタ81は可能なかぎり
高速で回転しており、しかも次に閉駆動をするときには
正確に60°の位置にいる必要があるため、シャッタ8
1の停止及び位置決めが終了し、開動作が終了するのは
時刻t4 となる。
【0029】この時点でのシャッタ81の状態は図11
(b)で示す状態で、遮光部Aは60°、遮光部Bは0
°の位置にある。次に時刻t5 にシャッタ81に閉指令
が与えられ閉駆動がはじまる。時刻t6 から開口86は
シャッタ81の遮光部Bにより遮光されはじめ、時刻t
7 において、完全に遮光される。さらに時刻t8 におい
て、シャッタ81は時刻t5 からさらに60°だけ駆動
し、時刻t9 においてシャッタ81は停止及び位置決め
が終了する。
【0030】ここで、シャッタ81に閉指令を与える時
刻t5 から露光が完全に終了するまでに、図12の二重
斜線部23aで示すだけの面積すなわち露光量が得られ
る。このためシャッタ81に閉指令を発生する時刻t5
における露光量すなわちパルスカウンタ11の計数値は
露光量設定器15により与えられた値より前記二重斜線
部23aの面積で示すだけ小さいものでなくてはならな
い。このとき時刻t5から時刻t8 までの時間をシャッ
タ作動遅れ時間と呼び、シャッタ81の開駆動時と閉駆
動時の駆動速度が等しいため露光開始時にシャッタ81
に開指令が発生する時刻t0 よりシャッタ作動遅れ時間
だけの期間(時刻t0 からt3 までの時間に相当する)
にパルスカウンタ11に得られたパルス数(図12の二
重斜線部23bの面積)により前記二重斜線部23aの
値を予測している。
【0031】いま、二重斜線部23aと23b部で得ら
れる露光量が一致すれば焼付露光量は露光量設定器15
により与えられた目標露光量に一致するが、露光開始時
にシャッタ81の遮光部Aの位置が、開口86に対して
基準位置0°より正の方向にずれた位置(すなわち開口
86に近い位置)にあった場合、前記遮光部Aが開口8
6を開きはじめる時刻は、時刻t1 より早まることにな
り、シャッタ81に開指令が与えられる時刻t0 からt
3 までのシャッタ作動遅れ時間に相当する期間に得られ
る露光量は前記二重斜面部23bのものより大きくな
る。逆に、露光開始にシャッタ81の遮光部Aの位置
が、開口86に対して基準位置0°より負の方向にずれ
た位置にあった場合、前記遮光部Aが開口86を開きは
じめる時刻は時刻t1 よりも遅れるため、時刻t0 から
3 までの期間に得られる露光量は、前記二重斜線部2
3bのものより小さくなる。同様に、シャッタ81に閉
指令が発生する時刻t5 に前記遮光部Bの位置が開口8
6に対し、基準位置0°より正の方向にずれた位置にあ
った場合、時刻t5 にシャッタ閉指令が発生して、前記
遮光部Bが開口86を閉じはじめる時刻は時刻t6 より
早くなり、時刻t5 からt8 までの期間に得られる露光
量は、前記二重斜線部23aのものより小さくなる。ま
た、時刻t5 に前記遮光部Bの位置が開口86に対し、
基準位置0°より負の方向にずれた位置にあった場合、
前記遮光部Bが、開口86を遮光しはじめる時刻は、時
刻t6 より遅くなり、時刻t5 からt8 までの期間に得
られる露光量は前記二重斜線部23aのものより大きく
なる。
【0032】このように露光の際に、開駆動開始時の前
記遮光部Aと閉駆動開始時の前記遮光部Bの停止位置が
開口86に対して正確に基準位置0°の位置にないと実
際の露光で得られる露光量が目標露光と一致しない。ま
た、露光のたびに前記停止位置が開口86に対してばら
つくと、これにともなって露光のたびに露光量がばらつ
いてしまう。このため、シャッタ81の開駆動及び閉駆
動終了時の停止位置は駆動のたびに正確に位置決めする
必要があるのである。
【0033】このため、従来構成の露光装置では前記時
刻t0 にシャッタ81の開指令を発生した後、時刻t4
においてシャッタ81の開駆動が完全に終了するまで、
閉駆動が開始できなく、露光時間の下限及び露光可能な
露光量の下限はシャッタ81の開駆動にかかる時間(前
記t0 からt4 まで)に制限されていた。
【0034】しかし、半導体焼付装置のような産業用の
露光装置においては、必要な露光量を得るにあたり、ラ
ンプ1のパワーを大きくして、露光時間を短くし、より
生産効率を向上させることが要求される。
【0035】本発明ではこの要求に対応するため、従来
構成の露光装置に対し、第1シャッタ81及び駆動回路
83と第2シャッタ82及び駆動回路84を有する。図
13は図8の露光装置における露光量計測シーケンスを
示すフローチャートである。この装置では、第1シャッ
タ81及び第2シャッタ82を独立に持っており、露光
を行うまえに一方のシャッタを開状態、他方を閉状態の
位置にあらかじめ駆動しておく必要がある。この準備シ
ーケンスを図14に示す。すなわち、はじめに第1シャ
ッタを閉位置に駆動し(ステップ401)、次に第2シ
ャッタを開位置に駆動する(ステップ402)。
【0036】次に図13で示すシャッタ作動遅れ時間の
露光量計測シーケンスについて説明する。いま、前記図
10で示した従来露光装置における露光シーケンスでは
ステップ506で補正露光量が計算できたと同時に、パ
ルスカウンタ11の計数値が補正露光量と一致し、ステ
ップ509のシャッタ閉指令を発生した場合が制御でき
る最短時間の露光であり、このとき得られる露光量は、
シャッタ作動遅れ時間の露光量の2倍である。しかし、
本実施例における露光装置では、第1シャッタ81及び
第2シャッタ82を独立に持っているため、停止位置決
めを含めたシャッタの開駆動動作の完了を待つことなし
に、任意の時刻にシャッタの閉駆動を開始することが可
能である。このため目標露光量が、シャッタ作動遅れ時
間の露光量よりも小さい場合、露光量の制御方法を切り
換えなければならない。またシャッタ作動遅れ時間の露
光量をあらかじめ知っておく必要がある。この量は露光
装置の光源であるランプ1の光強度の劣化に伴って変化
するので常に最新の値を記憶しておく必要があり、装置
で初めて露光を行う場合及び、露光と露光との時間間隔
が大きく、その間にランプ1の光強度劣化が見込まれる
時には、計測しなおす必要がある。
【0037】本計測シーケンスでは、計測を開始する
と、まず第1シャッタ81と第2シャッタ82の状態を
確認する(ステップ403)。第1シャッタが閉状態、
第2シャッタが開状態のとき、開駆動は第1シャッタ8
1、閉駆動は第2シャッタ82で行うものとし(ステッ
プ404)、シャッタの状態が第1シャッタ81と第2
シャッタ82とで逆なときは、開、閉駆動も逆のシャッ
タで行うことを認識する(ステップ405)。次に、開
駆動を行うシャッタに開指令を発生し(ステップ40
6)、シャッタ作動遅れ時間の計測を開始する(ステッ
プ407)。計測が終了したら(ステップ408)、パ
ルスカウンタ11の計数値すなわちシャッタ作動遅れ時
間の露光量を読み込み、メモリ16に格納する(ステッ
プ409)。この後、閉駆動を行うシャッタに閉指令を
発生し(ステップ410)、開、閉駆動共に駆動完了し
たら(ステップ411)計測シーケンスを終了する。
【0038】次に図15に示す本露光装置の露光シーケ
ンスについて説明する。ステップ412、413、41
4における第1シャッタ81を第2シャッタ82の状態
により一方を開駆動に、他方を閉駆動に使うかを判断す
る処理は、図13のシーケンスにおけるステップ40
3、404、405と同等なので、説明を省略する。こ
の処理の次に、露光量設定器11より与えられた目標露
光量をメモリ16に格納する(ステップ415)。次
に、目標露光量と図13のシーケンスで計測したシャッ
タ作動遅れ時間の露光量の2倍の値とを比較し(ステッ
プ416)、目標露光量の方が大きいか又は等しいと
き、従来露光装置と同じ露光量制御手法を用いて露光を
行う(ステップ417〜425)。この露光シーケンス
は前記図10のステップ502以降の露光シーケンスに
対応する。これに対するステップ417以降の露光シー
ケンスの相異点は、第1シャッタ81と第2シャッタ8
2があるため、ステップ417とステップ424におい
て、開駆動、閉駆動時にそれぞれ別のシャッタに駆動指
令していること、及びステップ420においてシャッタ
作動遅れ時間計測終了時に読み込んだパルスカウンタ1
1の計数値をメモリに格納していることである。この計
数値はシャッタ作動遅れ時間の露光量であり、露光を行
うたびにこの値を更新し、次回の露光における前記ステ
ップ416の判断の際、常に最新のデータを用いるため
に記憶するものである。テップ417以降のその他のシ
ーケンスについては前記図10のステップ502以降の
シーケンスと同等なので説明を省略する。
【0039】次に、ステップ416において目標露光量
が小さく、ステップ426に分岐した場合について説明
する。目標露光量がシャッタ作動遅れ時間の露光量の2
倍より小さい場合、露光中のパルスカウンタ11の計数
値によりシャッタ閉指令発生のタイミングを検知するこ
とができない。ただし、シャッタ作動遅れ時間の露光量
がわかっていることと、実際の露光で得られる露光量
が、露光時間に比例することから、露光時間を計算によ
り求める。ここで求める露光時間(シャッタ開指令発生
時刻からシャッタ閉指令発生時刻までと定義する)を
T、目標露光量をDS 、シャッタ作動遅れ時間をTD
シャッタ作動遅れ時間の露光量をDD とすると、 T=(DS /2DD )・TD (4) より露光時間を求める(ステップ426)。次に開駆動
を行うシャッタに開指令を発生し(ステップ427)、
露光時間の計測を開始する(ステップ428)。露光時
間の計測が終了したら(ステップ429)、閉駆動を行
うシャッタに、閉指令を発生する(ステップ430)。
開駆動のシャッタ及び閉駆動のシャッタの駆動が終了し
たら(ステップ431)、パルスカウンタ11の計算値
を読み込む(ステップ432)。この値は今回の露光で
得られた実際の露光量に等しい。この値より、シャッタ
作動遅れ時間の露光量を算出する。いまパルスカウンタ
11の計数値すなわち実際に得られた露光量をDR 、露
光時間をT、シャッタ作動遅れ時間をTD とすると、こ
の露光におけるシャッタ作動遅れ時間の露光量に相当す
る値DD ′は DD ′=(TD /2T)・DR (5) より算出できる。こうして算出したデータをメモリに格
納し(ステップ433)次回の露光の際のステップ41
6の判断のデータとする。
【0040】半導体焼付装置のような露光装置では、1
回の焼付露光と次の焼付露光の間には、ウェハ3の交換
又はウェハ上での焼付箇所を変えるためにウェハ3が置
かれているステージを移動する作業が行われるため、シ
ャッタの駆動や停止位置の位置決め作業を行う時間に対
し、十分長い時間間隔がある。このため露光のたびに開
口86に対しシャッタの停止位置決め動作を十分正確に
行うことができる。
【0041】実際に本発明の装置を使用する場合は、ウ
エハ3が露光面にない状態で装置に電源を投入した後、
第1シャッタ81と第2シャッタ82の位置を確定させ
るため前記準備シーケンスを行い、次のシャッタ作動遅
れ時間の露光量計測シーケンスを行い、露光可能状態と
なる。その後、前記ウエハ3を露光面であるステージ上
に置き、露光を行うことになる。また、露光を行う際
に、前回の露光からの時間間隔が長く(数日間とか)、
その間、ランプ1の光強度の変化があると考えられる時
は、露光の直前に、シャッタ作動遅れ時間の露光量計測
シーケンスを行い、データを更新すれば、露光と露光の
間のランプ1の光強度の変化が、露光量制御精度に悪影
響を与えることを防止できる。
【0042】実施例3 前記実施例2において、第1シャッタ及び第2シャッタ
を持つ露光装置の露光量制御シーケンスについて述べた
が、図15の露光シーケンスのステップ416におい
て、必ずしも目標露光量に応じて制御方法を切換える必
要はなく、ステップ426以降の方法に統一できる。そ
の場合の制御方法を図16に示す。本露光シーケンスに
おいて、ステップ801、802、803、804は前
記図15の露光シーケンスにおけるステップ412、4
13、414、415と同等なので説明を省略する。次
に、前記(4)式の計算に従い、露光時間を計算する
(ステップ805)。次に、開駆動を行うシャッタに開
指令を発生し(ステップ806)、露光時間の計測を開
始する(ステップ807)。次にステップ805で算出
した露光時間と、シャッタ作動遅れ時間とを比較し(ス
テップ808)、露光時間の方が長い場合、シャッタ作
動遅れ時間の露光量を実測できるので、シャッタ作動遅
れ時間計測後(ステップ809、810)、パルスカウ
ンタ11の計数値すなわちシャッタ作動遅れ時間の露光
量を読み込み、メモリに格納する(ステップ811)。
これに対し、露光時間の方がシャッタ作動遅れ時間より
短い場合、ステップ808より、露光時間の計測終了待
ちループ(ステップ812)に分岐する。いずれの場合
も露光時間の計測が終了したら、閉駆動を行うシャッタ
に、閉指令を発生する(ステップ813)。開駆動、閉
駆動動作共に完了したら(ステップ814)、再度、露
光時間とシャッタ作動遅れ時間とを比較し(ステップ8
15)、露光時間の方が短い場合、シャッタ作動遅れ時
間の露光量が実測されていないので、パルスカウンタ1
1の計数値すなわち実際の露光量を読み込み(ステップ
816)、前記(5)式によりシャッタ駆動遅れ時間の
露光量を算出してメモリに格納する(ステップ81
7)。以上にて1回の露光の露光シーケンス終了であ
る。
【0043】実施例4 さらにもう1つの実施例として前記光センサ5の配置が
異る例について説明する。図17は、このセンサの配置
をかえた実施例の露光装置を示す。この露光装置と図8
で示した露光装置との相異点は、光センサ5が、露光光
路上でシャッタより光源側にある点で、他は同等であ
る。このため、第1シャッタ81及び第2シャッタ82
の状態にかかわらず、ランプ1からの光強度を、一定時
間のV/Fコンバータ9のパルスカウント値を計数する
ことにより知ることができるため、今まで示した例とち
がって、シャッタ作動遅れ時間の露光量を知る必要がな
く、前記図13で示したシャッタ作動遅れ時間計測シー
ケンスが省略できる。
【0044】この露光装置の露光シーケンスを図18に
示す。このうち、ステップ1001〜ステップ1004
までのシーケンスは前記図15の露光シーケンスのステ
ップ412〜ステップ415までと同等なので説明を省
略する。次に露光時間を算出する。いま算出しようとす
る露光時間をT、目標露光量をDS 、センサ5で検出し
た光強度をIとすると T=(DS /I) (6) により、露光時間が算出できる(ステップ1005)。
次に開駆動を行うシャッタに開指令を発生し(ステップ
1006)、露光時間の計測を開始する(ステップ10
07)。露光時間の計測が終了したら、開駆動を行うシ
ャッタに開指令を発生し(ステップ1009)、シャッ
タ開、閉駆動動作が完了すれば、一回の露光シーケンス
が終了である。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、開
動作時と閉動作時の露光量が等しくなるようなシャッタ
羽根の精密な制御を行わなくても、目標露光量に近い高
精度な露光制御を実現することができる。また、露光量
制御精度を劣化させることなくより高速・短時間の露光
を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施例に係る半導体回路パタ
ーン焼付装置を示すブロック図である。
【図2】 図1や図8の装置に用いられるシャッタの構
造例を示す斜視図である。
【図3】 図1の露光装置による露光シーケンスを示す
フローチャートである。
【図4】 開動作時と閉動作時の露光量が等しくなるよ
うにシャッタが制御された場合の図2のシャッタの速
度、回転角、照度の変化を示すグラフである。
【図5】 開動作時と閉動作時の露光量が等しくならな
いようにシャッタが制御された場合の図2のシャッタの
速度、回転角、照度の変化を示すグラフである。
【図6】 図1の装置において1つの測定回路で閉時間
の露光量を求める第1の方法を示す説明図である。
【図7】 図1の装置において1つの測定回路で閉時間
の露光量を求める第2の方法を示す説明図である。
【図8】 本発明の第2の実施例に係る露光装置のブロ
ック図である。
【図9】 図8の装置に用いられるシャッタの構造を示
す斜視図である。
【図10】 単一のシャッタを用いた従来の露光装置の
露光量制御シーケンスを示すフローチャトである。
【図11】 図10のシーケンスにおける露光中のシャ
ッタの動きと露光開口の光の挙動を示すための説明図で
ある。
【図12】 図10のシーケンスにおける露光中のシャ
ッタの動きと露光開口の光の挙動を示すためのグラフで
ある。
【図13】 図8の露光装置における露光量計測シーケ
ンスを示すフローチャートである。
【図14】 図13のシーケンスの準備シーケンスを示
すフローチャートである。
【図15】 図8の露光装置における露光シーケンスを
示すフローチャートである。
【図16】 本発明の第3の実施例に係る制御方法を示
すフローチャートである。
【図17】 本発明の第4の実施例に係る露光装置のブ
ロック図である。
【図18】 図17の装置における他の露光シーケンス
を示すフローチャートである。
【符号の説明】
1:ランプ、2:マスク、3:ウエハ、4,81,8
2:シャッタ、5,6:光センサ、7,8:プリアン
プ、9,10:V/Fコンバータ、11,12:パルス
カウンタ、13:CPU、14,83,84:シャッタ
駆動回路、15:露光量設定器、16:RAM、17:
シャッタ羽根、18:モータ、19露光ビーム、85:
発振器、86:開口、A,A′,B,B′,C,C′:
シャッタ遮光部。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被記録体を露光するための露光光を発す
    る光源と、該光源と被記録体間の露光光路上に設けた該
    光路を開閉するためのシャッタと、該シャッタと被記録
    体間の前記光路上の光強度を検出する光検出器と、該光
    検出器の出力に基づきシャッタを駆動制御する制御手段
    とを備えた露光装置において、該制御手段は、該光検出
    器の出力に基づいてシャッタ開動作中の露光量を求める
    手段と、開動作に要する時間に光源が発生する光量を検
    出する手段と、該シャッタ開動作中の露光量と開動作に
    要する時間に光源が発生する光量とに基づいて閉動作中
    の露光量を求め、前記シャッタへの閉動作指令の発生タ
    イミングを補正する手段とを具備することを特徴とする
    露光装置。
  2. 【請求項2】 前記露光量を求める手段は、前記光検出
    器の出力に対応する周波数の出力パルスを発生する電圧
    /周波数変換器を有し、このパルス数を計測することに
    より露光量を算出するように構成したものであることを
    特徴とする請求項1記載の露光装置。
  3. 【請求項3】 被記録体を露光するための露光光を発す
    る光源と、該光源と被記録体間の露光光路上に設けられ
    おのおの該光路を開放及び閉成することが可能な第1シ
    ャッタ及び第2シャッタと、該光路上の光強度を検出す
    る光検出器と、該検出器の出力に基づき第1及び第2シ
    ャッタを駆動制御する制御手段とを具備し、該制御手段
    は、前記光路を前記第1及び第2シャッタのうち一方を
    駆動して開放し、その所定時間経過後に他方を駆動して
    閉成するように該第1及び第2シャッタを駆動制御する
    ものであることを特徴とする露光装置。
  4. 【請求項4】 前記光検出器は前記第1及び第2シャッ
    タより前記被記録体側に配置され、前記制御手段は予め
    定めたシャッタ作動遅れ時間に得られる露光量を計測
    し、その結果に基づき該露光量より小さな露光量による
    露光を行うように制御するものであることを特徴とする
    請求項3記載の露光装置。
  5. 【請求項5】 前記光検出器は前記第1及び第2シャッ
    タよりも光源側に配置され、前記制御手段は目標露光量
    と該検出器の出力に基づき露光時間を算出するものであ
    ることを特徴とする請求項3記載の露光装置。
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