JPH0653109A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH0653109A JPH0653109A JP4202067A JP20206792A JPH0653109A JP H0653109 A JPH0653109 A JP H0653109A JP 4202067 A JP4202067 A JP 4202067A JP 20206792 A JP20206792 A JP 20206792A JP H0653109 A JPH0653109 A JP H0653109A
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- Japan
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- shutter
- light
- value
- exposure
- time interval
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 シャッタによって露光光を制御する露光装置
において、シャッタの半開きを防止する。 【構成】 光源1からの露光光はシャッタ2の開閉によ
って制御され、シャッタ2はシャッタ制御回路13によ
り制御される。シャッタ2からのもれ光は受光素子8に
より検出される。受光素子8により検出された受光量に
基づいて、警報発生装置12は積算露光量もしくは平均
的なピーク値が所定露光量レベル以上か否かを比較して
シャッタ2の半開きの有無を判定する。半開きと判定さ
れた場合は警報発生装置12は上位コンピュータ50に
警報を出力する。
において、シャッタの半開きを防止する。 【構成】 光源1からの露光光はシャッタ2の開閉によ
って制御され、シャッタ2はシャッタ制御回路13によ
り制御される。シャッタ2からのもれ光は受光素子8に
より検出される。受光素子8により検出された受光量に
基づいて、警報発生装置12は積算露光量もしくは平均
的なピーク値が所定露光量レベル以上か否かを比較して
シャッタ2の半開きの有無を判定する。半開きと判定さ
れた場合は警報発生装置12は上位コンピュータ50に
警報を出力する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は露光装置に関し、特に半
導体素子や液晶基板等の製造に利用され、シャッタ制御
により露光照射量の制御を行う露光装置に関するもので
ある。
導体素子や液晶基板等の製造に利用され、シャッタ制御
により露光照射量の制御を行う露光装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】縮小投影露光装置(以下ステッパと言
う)は、LSI生産現場に多く導入され、大きな成果を
もたらしている。ステッパーはレチクルに形成されたパ
ターンを半導体ウェハ上のレジスト層に投影する高精度
な投影光学系と、ウェハを一定ピッチで2次元的にステ
ップ移動させる高精度な移動ステージを有する。そし
て、この装置はレチクルパターンとウェハとを正確に位
置決め(アライメント)した状態で露光を行うものであ
る。
う)は、LSI生産現場に多く導入され、大きな成果を
もたらしている。ステッパーはレチクルに形成されたパ
ターンを半導体ウェハ上のレジスト層に投影する高精度
な投影光学系と、ウェハを一定ピッチで2次元的にステ
ップ移動させる高精度な移動ステージを有する。そし
て、この装置はレチクルパターンとウェハとを正確に位
置決め(アライメント)した状態で露光を行うものであ
る。
【0003】このような装置において、感光基板上への
露光光の照射はシャッタにより調整されており、具体的
にはシャッタがロータリシャッタの場合エンコーダ付モ
ータによるシャッタ(遮光板)の回転角により、もしく
はシャッタが空気圧によるスライド式の場合、空気圧制
御による遮光板の出し入れ等によって照射量制御を行っ
ている。
露光光の照射はシャッタにより調整されており、具体的
にはシャッタがロータリシャッタの場合エンコーダ付モ
ータによるシャッタ(遮光板)の回転角により、もしく
はシャッタが空気圧によるスライド式の場合、空気圧制
御による遮光板の出し入れ等によって照射量制御を行っ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の装置
においては、ステージ移動中はシャッタは閉じている。
しかしながら、エンコーダのミスカウント、空気圧の圧
力低下等によって露光光が正しく遮光されないことがあ
った。また、位置検出などのフォトセンサを用いても、
その再現性が高くないためにシャッタが半開きとなり露
光面に露光光がもれてしまうことがあった。このような
露光光のもれがあると感光基板上の感光剤に必要以上の
光量が照射され、歩留りを低下させるという問題点があ
った。
においては、ステージ移動中はシャッタは閉じている。
しかしながら、エンコーダのミスカウント、空気圧の圧
力低下等によって露光光が正しく遮光されないことがあ
った。また、位置検出などのフォトセンサを用いても、
その再現性が高くないためにシャッタが半開きとなり露
光面に露光光がもれてしまうことがあった。このような
露光光のもれがあると感光基板上の感光剤に必要以上の
光量が照射され、歩留りを低下させるという問題点があ
った。
【0005】また、シャッタを通過した光の強度を検出
するための受光素子を用い、その出力からもれ光を検出
しても、外来ノイズ等の影響により一瞬出力が上下して
誤検出してしまうという問題点があった。本発明はこの
ような従来の問題点に鑑みてされたもので、シャッタ
(遮光板)によって露光面への露光光を制御する露光装
置において、シャッタの半開きを防ぎ、歩留りを向上さ
せることを目的とする。
するための受光素子を用い、その出力からもれ光を検出
しても、外来ノイズ等の影響により一瞬出力が上下して
誤検出してしまうという問題点があった。本発明はこの
ような従来の問題点に鑑みてされたもので、シャッタ
(遮光板)によって露光面への露光光を制御する露光装
置において、シャッタの半開きを防ぎ、歩留りを向上さ
せることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明においては露光終了後(シャッタ閉状
態)の露光光の照度と積算照度を測定し、短時間のチェ
ックは照度で、長時間のチェックは積算照度で行い、特
に長時間のチェックではレジスト感光レベルに達する前
に警報を発するようにし、歩留りを低下させないように
する。
ために、本発明においては露光終了後(シャッタ閉状
態)の露光光の照度と積算照度を測定し、短時間のチェ
ックは照度で、長時間のチェックは積算照度で行い、特
に長時間のチェックではレジスト感光レベルに達する前
に警報を発するようにし、歩留りを低下させないように
する。
【0007】
【作用】本発明によれば、露光量制御時(シャッタが閉
じている場合)に発生するシャッタの半開きによるもれ
光をたとえ微小光量であっても検出可能とする。これは
シャッタ閉の間の積算光量を求めることでもれ光を検出
できる。このもれ光を精度よく求めるためには、シャッ
タ閉の時間が長い場合にはもれ光を積算光量を求めるこ
とで検出し、シャッタ閉の時間が短い場合は強度(平均
値、平均的なピーク値等)を求めることでもれ光を検出
可能である。もれ光の検出に応答して警報を出すことで
オーバ露光、ミス露光をなくし、歩留りを向上する。
じている場合)に発生するシャッタの半開きによるもれ
光をたとえ微小光量であっても検出可能とする。これは
シャッタ閉の間の積算光量を求めることでもれ光を検出
できる。このもれ光を精度よく求めるためには、シャッ
タ閉の時間が長い場合にはもれ光を積算光量を求めるこ
とで検出し、シャッタ閉の時間が短い場合は強度(平均
値、平均的なピーク値等)を求めることでもれ光を検出
可能である。もれ光の検出に応答して警報を出すことで
オーバ露光、ミス露光をなくし、歩留りを向上する。
【0008】以上のように、もれ光を検出するに際し
て、シャッタ閉の時間間隔に応じて積算露光量を用いる
かピーク値を用いるかを選択する理由について説明す
る。ステッパーでは1枚のウエハに複数個の回路パター
ンをステップアンドリピート動作で縮小投影するもので
ある。また、通常半導体製造工程においては複数枚のレ
チクルを用いて露光が行われ、従ってウエハのショット
領域とレチクルパターンとを高精度に位置合わせ(アラ
イメント)することが必要である。アライメントが終了
した後に露光が実行され、露光終了後、次のショットが
投影光学系の投影視野内にくるようにステージはステッ
プ移動する。このステップ移動の間、不必要な露光光を
遮光するために露光のタイミングに応じてシャッタを開
閉する。このシャッタが閉じている時間間隔は、ショッ
ト配列によるステッピング距離の違いやアライメント時
間の違いにより一定ではない。シャッタ閉の間のもれ光
の積算露光量がウエハW上に塗布された感光剤の感光レ
ベルを越えたかどうかをみれば、ウエハW上へのパター
ン形成に悪影響を及ぼすもれ光を検出することができ
る。しかしながら、積算露光量を検出するためにはある
程度の時間間隔が必要であり、アライメント時間やショ
ット位置によっては、このための時間間隔がとれない場
合がある。そこで、シャッタ閉の時間間隔が積算露光量
を検出可能な程度に長い場合には、積算露光量を所定レ
ベル(感光剤の感光レベル)と比較し、短い場合にはピ
ークを所定値(感光剤の感光レベルより大きな値)と比
較することにより、露光に悪影響を及ぼすもれ光を検出
するものである。ここで、ピーク値と比較する所定値を
感光剤の感光レベルより大きな値とするのは、もれ光が
ほとんど発生していないにもかかわらず、外来ノイズ等
の影響によりもれ光が発生すると誤検出してしまうのを
防止するためである。
て、シャッタ閉の時間間隔に応じて積算露光量を用いる
かピーク値を用いるかを選択する理由について説明す
る。ステッパーでは1枚のウエハに複数個の回路パター
ンをステップアンドリピート動作で縮小投影するもので
ある。また、通常半導体製造工程においては複数枚のレ
チクルを用いて露光が行われ、従ってウエハのショット
領域とレチクルパターンとを高精度に位置合わせ(アラ
イメント)することが必要である。アライメントが終了
した後に露光が実行され、露光終了後、次のショットが
投影光学系の投影視野内にくるようにステージはステッ
プ移動する。このステップ移動の間、不必要な露光光を
遮光するために露光のタイミングに応じてシャッタを開
閉する。このシャッタが閉じている時間間隔は、ショッ
ト配列によるステッピング距離の違いやアライメント時
間の違いにより一定ではない。シャッタ閉の間のもれ光
の積算露光量がウエハW上に塗布された感光剤の感光レ
ベルを越えたかどうかをみれば、ウエハW上へのパター
ン形成に悪影響を及ぼすもれ光を検出することができ
る。しかしながら、積算露光量を検出するためにはある
程度の時間間隔が必要であり、アライメント時間やショ
ット位置によっては、このための時間間隔がとれない場
合がある。そこで、シャッタ閉の時間間隔が積算露光量
を検出可能な程度に長い場合には、積算露光量を所定レ
ベル(感光剤の感光レベル)と比較し、短い場合にはピ
ークを所定値(感光剤の感光レベルより大きな値)と比
較することにより、露光に悪影響を及ぼすもれ光を検出
するものである。ここで、ピーク値と比較する所定値を
感光剤の感光レベルより大きな値とするのは、もれ光が
ほとんど発生していないにもかかわらず、外来ノイズ等
の影響によりもれ光が発生すると誤検出してしまうのを
防止するためである。
【0009】
【実施例】本発明の一実施例を図面を参照して説明す
る。図1は本発明の一実施例に好適な露光装置を示す概
略図である。光源1(i線、g線等の光を射出する水銀
ランプ等)から射出された照明光はシャッタ2、照明光
学系7を介してレチクルRを照明する。光源1は楕円鏡
1aの第1焦点上に配置され、この光源の像は第2焦点
上に形成される。この第2焦点上、またはその近傍に配
置されたロータリーシャッタ2は図2に示すように4つ
の遮光部2aと4つの切り欠き部2bとが円周方向に等
分割に形成されている。各遮光部の一部にはスリット状
の反射部2cが90度間隔で4個設けられている。この
スリット状の反射部2cはシャッタ2の遮光部2aの位
置を検出するために設けられたステータス・マークであ
る。すなわち、シャッタ2の裏側に設けられた位置検出
器30からシャッタ2に照射された光が、ステータス・
マークで反射する。そしてこの反射光が位置検出器30
内に設けられた受光器に入射することによりシャッタ2
の遮光部2aの位置を検出する。遮光部2aの大きさは
それぞれ光源からの光束を遮光するのに充分な大きさを
有するとともに、各切り欠き部2bは光源からの光束を
通過させるのに充分な大きさである。このシャッタ2は
DCモータ等の駆動部3によって角度θすなわち1/8
回転することによって開放および閉成動作を行う。ま
た、駆動部3の回転角はロータリーエンコーダ4により
検出可能である。駆動部3の回転角は位置検出器30か
らのシャッタ位置情報に基づいて予めスタート位置が設
定されているものとする。
る。図1は本発明の一実施例に好適な露光装置を示す概
略図である。光源1(i線、g線等の光を射出する水銀
ランプ等)から射出された照明光はシャッタ2、照明光
学系7を介してレチクルRを照明する。光源1は楕円鏡
1aの第1焦点上に配置され、この光源の像は第2焦点
上に形成される。この第2焦点上、またはその近傍に配
置されたロータリーシャッタ2は図2に示すように4つ
の遮光部2aと4つの切り欠き部2bとが円周方向に等
分割に形成されている。各遮光部の一部にはスリット状
の反射部2cが90度間隔で4個設けられている。この
スリット状の反射部2cはシャッタ2の遮光部2aの位
置を検出するために設けられたステータス・マークであ
る。すなわち、シャッタ2の裏側に設けられた位置検出
器30からシャッタ2に照射された光が、ステータス・
マークで反射する。そしてこの反射光が位置検出器30
内に設けられた受光器に入射することによりシャッタ2
の遮光部2aの位置を検出する。遮光部2aの大きさは
それぞれ光源からの光束を遮光するのに充分な大きさを
有するとともに、各切り欠き部2bは光源からの光束を
通過させるのに充分な大きさである。このシャッタ2は
DCモータ等の駆動部3によって角度θすなわち1/8
回転することによって開放および閉成動作を行う。ま
た、駆動部3の回転角はロータリーエンコーダ4により
検出可能である。駆動部3の回転角は位置検出器30か
らのシャッタ位置情報に基づいて予めスタート位置が設
定されているものとする。
【0010】照明光学系7にはリレーレンズ、ミラー、
オプチカルインテグレータ(フライアイレンズ等)、コ
ンデンサーレンズ等が設けられており、レチクルRを均
一な照度で照明する。レチクルRは不図示のレチクルス
テージ上に載置されており、レチクルステージは光軸A
Xと垂直な平面内で微動可能である。回路パターンPA
の中心と照明光学系の光軸AXとの位置関係は不図示の
レチクルアライメント系で検出され、この検出量に基づ
いて回路パターンPAの中心と照明光学系の光軸AXと
を一致させるようにレチクルステージが微動する。
オプチカルインテグレータ(フライアイレンズ等)、コ
ンデンサーレンズ等が設けられており、レチクルRを均
一な照度で照明する。レチクルRは不図示のレチクルス
テージ上に載置されており、レチクルステージは光軸A
Xと垂直な平面内で微動可能である。回路パターンPA
の中心と照明光学系の光軸AXとの位置関係は不図示の
レチクルアライメント系で検出され、この検出量に基づ
いて回路パターンPAの中心と照明光学系の光軸AXと
を一致させるようにレチクルステージが微動する。
【0011】レチクルRからの照明光は投影光学系PL
を介してウエハW上に達し、回路パターンPAをウエハ
W上に結像する。ウエハWはZ方向(光軸AX)方向に
移動可能なZステージ14上に載置されており、Zステ
ージ14はモータ等のステージ駆動部16によりXY方
向にステップ・アンド・リピート動作で2次元移動可能
なXYステージ15上に設けられている。また、Zステ
ージの位置は干渉計31によりその位置を例えば0.0
1μm単位で検出可能である。
を介してウエハW上に達し、回路パターンPAをウエハ
W上に結像する。ウエハWはZ方向(光軸AX)方向に
移動可能なZステージ14上に載置されており、Zステ
ージ14はモータ等のステージ駆動部16によりXY方
向にステップ・アンド・リピート動作で2次元移動可能
なXYステージ15上に設けられている。また、Zステ
ージの位置は干渉計31によりその位置を例えば0.0
1μm単位で検出可能である。
【0012】照明光学系の光路中にはハーフミラー5が
設けられたおり、受光素子8はハーフミラー5で分離さ
れた光を受光し、光量に応じた信号を出力する。受光素
子8からの信号は電圧−周波数変換器(V/F変換器)
9とアナログ−デジタル変換器(A/D変換器)10に
入力する。V/F変換器9は受光素子8からの信号の電
圧値に直接比例した周波数のパルスを変換するものであ
る。また、A/D変換器10は受光素子8からの信号を
デジタル値に変換する。カウンタ11はV/F変換器9
からのパルスを計測する(積算する)カウンタであり、
ここで計測されたパルスの計数量はV/F変換器9に入
力する電圧値に比例する。このパルスの計測はシャッタ
制御回路13からのシャッタ開閉タイミングに関する情
報(シャッタ開情報So、シャッタ閉情報Sc)に基づ
いてカウントされる。シャッタ制御回路13は適性露光
量を設定するためのレジスタと、カウンタ11の値とレ
ジスタ内に設定された露光量とを比較するコンパレータ
とを有する。適性露光量は入力手段25により入力する
等の方法により予め設定されているものとする。尚、ウ
エハWの表面での露光量と受光素子8の受光面での露光
量との対応関係は予め求められているものとし、入力手
段25により入力される適性露光量はウエハW表面での
適性露光量と対応した値となっている。そしてこのシャ
ッタ制御回路13は上位コンピュータ50からの露光命
令Eでシャッタ開閉タイミングを決定し、エンコーダ4
の情報からシャッタを開閉するための制御信号を駆動部
3に与える。ここで、コンピュータ50からの露光命令
Eのうち、露光開始命令をEs、露光終了命令をEdと
する。また、位置検出器30からの信号はシャッタ制御
回路13に入力され、シャッタ2の位置を検出してい
る。このように、シャッタの位置を検出していても、外
来ノイズ等の影響により位置検出器30からの信号が変
動する。このため、警報発生装置12はシャッタ2から
のもれ光が許容値以上であるかを判断し、許容値以上で
あれば警報を発する。尚、カウンタ11、警報発生装置
12の夫々はシャッタ開情報Soの情報でリセットされ
る。
設けられたおり、受光素子8はハーフミラー5で分離さ
れた光を受光し、光量に応じた信号を出力する。受光素
子8からの信号は電圧−周波数変換器(V/F変換器)
9とアナログ−デジタル変換器(A/D変換器)10に
入力する。V/F変換器9は受光素子8からの信号の電
圧値に直接比例した周波数のパルスを変換するものであ
る。また、A/D変換器10は受光素子8からの信号を
デジタル値に変換する。カウンタ11はV/F変換器9
からのパルスを計測する(積算する)カウンタであり、
ここで計測されたパルスの計数量はV/F変換器9に入
力する電圧値に比例する。このパルスの計測はシャッタ
制御回路13からのシャッタ開閉タイミングに関する情
報(シャッタ開情報So、シャッタ閉情報Sc)に基づ
いてカウントされる。シャッタ制御回路13は適性露光
量を設定するためのレジスタと、カウンタ11の値とレ
ジスタ内に設定された露光量とを比較するコンパレータ
とを有する。適性露光量は入力手段25により入力する
等の方法により予め設定されているものとする。尚、ウ
エハWの表面での露光量と受光素子8の受光面での露光
量との対応関係は予め求められているものとし、入力手
段25により入力される適性露光量はウエハW表面での
適性露光量と対応した値となっている。そしてこのシャ
ッタ制御回路13は上位コンピュータ50からの露光命
令Eでシャッタ開閉タイミングを決定し、エンコーダ4
の情報からシャッタを開閉するための制御信号を駆動部
3に与える。ここで、コンピュータ50からの露光命令
Eのうち、露光開始命令をEs、露光終了命令をEdと
する。また、位置検出器30からの信号はシャッタ制御
回路13に入力され、シャッタ2の位置を検出してい
る。このように、シャッタの位置を検出していても、外
来ノイズ等の影響により位置検出器30からの信号が変
動する。このため、警報発生装置12はシャッタ2から
のもれ光が許容値以上であるかを判断し、許容値以上で
あれば警報を発する。尚、カウンタ11、警報発生装置
12の夫々はシャッタ開情報Soの情報でリセットされ
る。
【0013】次に警報発生装置12について図3を参照
して説明する。警報発生装置12には、タイマ17、加
算器18、記憶装置19、平均化装置20、判定装置2
1、比較器22、警報器23が設けられている。タイマ
ー17はシャッタ制御回路13からのシャッタ開情報S
o、シャッタ閉情報Scに基づいてシャッタ2が閉状態
となる時間間隔Tw(シャッタ閉情報Scが入力してか
らシャッタ開情報Soが入力するまでの時間間隔)を計
測する。タイマー17で計測された時間間隔Twは判定
装置21に入力する。判定装置21には入力手段25か
らの所定時間間隔T1 も入力され、判定装置21は時間
間隔Twと時間間隔T1 との大きさを比較し、判定信号
Seを比較器22に出力する。時間間隔Twが時間間隔
T1 より大きい場合は、Se=「Lg」となり、小さい
場合はSe=「Sh」となる。時間間隔T1 は積算露光
量を精度よく検出するのに必要な時間間隔である。
して説明する。警報発生装置12には、タイマ17、加
算器18、記憶装置19、平均化装置20、判定装置2
1、比較器22、警報器23が設けられている。タイマ
ー17はシャッタ制御回路13からのシャッタ開情報S
o、シャッタ閉情報Scに基づいてシャッタ2が閉状態
となる時間間隔Tw(シャッタ閉情報Scが入力してか
らシャッタ開情報Soが入力するまでの時間間隔)を計
測する。タイマー17で計測された時間間隔Twは判定
装置21に入力する。判定装置21には入力手段25か
らの所定時間間隔T1 も入力され、判定装置21は時間
間隔Twと時間間隔T1 との大きさを比較し、判定信号
Seを比較器22に出力する。時間間隔Twが時間間隔
T1 より大きい場合は、Se=「Lg」となり、小さい
場合はSe=「Sh」となる。時間間隔T1 は積算露光
量を精度よく検出するのに必要な時間間隔である。
【0014】シャッタ開情報So、シャッタ閉情報Sc
は加算器18にも入力し、加算器18はシャッタ閉情報
Scが入力されたときのカウンタ11の値S1 と、その
後のシャッタ開情報Soが入力されたときのカウンタ1
1の値S2 とを記憶し、カウント値S1 とS2 との偏差
ΔS(シャッタ閉じている間のもれ光による積算露光量
に相当する)を求める。この偏差ΔSは比較器22に送
られる。さらに、シャッタ開情報So、シャッタ閉情報
Scは記憶装置19にも入力し、記憶装置19はシャッ
タ閉情報Scが入力されたときからシャッタ開情報So
が入力されたときまでのA/D変換器10の値を記憶す
る。そして、平均化装置20は記憶装置19に記憶され
た値を時間間隔Twで割り算することにより平均値を求
めたり、数個のピーク値を平均した平均的なピーク値を
求めたりする。また、平均化装置20は時間間隔Tw内
での単純なピーク値(単純に一番大きな値)を求めたり
する。以下これらの平均値や平均的なピーク値、単純な
ピーク値をピーク値P0 と言うものとする。
は加算器18にも入力し、加算器18はシャッタ閉情報
Scが入力されたときのカウンタ11の値S1 と、その
後のシャッタ開情報Soが入力されたときのカウンタ1
1の値S2 とを記憶し、カウント値S1 とS2 との偏差
ΔS(シャッタ閉じている間のもれ光による積算露光量
に相当する)を求める。この偏差ΔSは比較器22に送
られる。さらに、シャッタ開情報So、シャッタ閉情報
Scは記憶装置19にも入力し、記憶装置19はシャッ
タ閉情報Scが入力されたときからシャッタ開情報So
が入力されたときまでのA/D変換器10の値を記憶す
る。そして、平均化装置20は記憶装置19に記憶され
た値を時間間隔Twで割り算することにより平均値を求
めたり、数個のピーク値を平均した平均的なピーク値を
求めたりする。また、平均化装置20は時間間隔Tw内
での単純なピーク値(単純に一番大きな値)を求めたり
する。以下これらの平均値や平均的なピーク値、単純な
ピーク値をピーク値P0 と言うものとする。
【0015】このピーク値Poは比較器22に送られ
る。比較器22には入力手段25から所定の基準値SL
HとSLLが入力され、基準値SLLは偏差ΔSと比較
するための基準値であり、基準値SLHはピーク値Po
と比較するための基準値である。基準値SLLの値は基
準値SLHの時間微分値より大きくなっている。比較器
22は判定装置21からの判定信号Seが「Lg」であ
る場合は基準値SLLと偏差ΔSとを比較し、判定信号
Seが「Sh」である場合は基準値SLHとピーク値P
oとを比較する。そして判定信号Se(「Lg」)が基
準値SLLより大きい場合はError信号ErLを警
報器23に出力する。同様に判定信号Se(「Sh」)
が基準値SLHより大きい場合はエラー信号ErHを警
報器23に出力する。警報器23は信号Er(ErL、
ErH)を入力すると警報を発生する。
る。比較器22には入力手段25から所定の基準値SL
HとSLLが入力され、基準値SLLは偏差ΔSと比較
するための基準値であり、基準値SLHはピーク値Po
と比較するための基準値である。基準値SLLの値は基
準値SLHの時間微分値より大きくなっている。比較器
22は判定装置21からの判定信号Seが「Lg」であ
る場合は基準値SLLと偏差ΔSとを比較し、判定信号
Seが「Sh」である場合は基準値SLHとピーク値P
oとを比較する。そして判定信号Se(「Lg」)が基
準値SLLより大きい場合はError信号ErLを警
報器23に出力する。同様に判定信号Se(「Sh」)
が基準値SLHより大きい場合はエラー信号ErHを警
報器23に出力する。警報器23は信号Er(ErL、
ErH)を入力すると警報を発生する。
【0016】警報器23からの警報は上位コンピュータ
50に入力され、上位コンピュータは異常が発生したこ
とを使用者に知らせるか或いは露光を停止する等の制御
を行う。このとき、警報器23は警報信号がエラー信号
ErLとエラー信号ErHとのどちらに基づいて発生し
たかの情報も上位コンピュータ50に出力する。上位コ
ンピュータ50は警報信号がエラー信号がErLとEr
Hのどちらに基づいて発生したかにより、その後の露光
装置の制御を異ならせることもできる。例えば、エラー
信号がErHである場合にはシャッタ2が大きくずれて
いる場合があるので、直ちに露光を停止する等の制御を
行う。
50に入力され、上位コンピュータは異常が発生したこ
とを使用者に知らせるか或いは露光を停止する等の制御
を行う。このとき、警報器23は警報信号がエラー信号
ErLとエラー信号ErHとのどちらに基づいて発生し
たかの情報も上位コンピュータ50に出力する。上位コ
ンピュータ50は警報信号がエラー信号がErLとEr
Hのどちらに基づいて発生したかにより、その後の露光
装置の制御を異ならせることもできる。例えば、エラー
信号がErHである場合にはシャッタ2が大きくずれて
いる場合があるので、直ちに露光を停止する等の制御を
行う。
【0017】上位コンピュータ50は警報が入力されな
ければ(エラー信号ErLとErHのどちらの信号も出
力されなければ)、露光が正常に(シャッタ駆動が正常
に)行われていると判定し、シャッタ制御回路13にシ
ャッタ開の情報を出力する。次に本発明の一実施例の動
作について図4を参照して説明する。 〔ステップ100〕所定ショットでの露光が終了する。 〔ステップ101〕警報発生器12はシャッタ制御回路
13からシャッタ閉の情報Scを受け取る。 〔ステップ102〕警報発生器12はそのときのカウン
タ11の値S1 を加算器18に記憶し、内部タイマ17
を用い、時間計測を開始する。さらに、一定時間間隔で
A/D変換器10からの値をメモリ19に記憶する。 〔ステップ103〕XYステージ15が次のショット領
域にステップ移動し、アライメントが実行される。 〔ステップ104〕警報発生器12はシャッタ制御回路
13からシャッタ開の情報Soを受け取る。 〔ステップ105〕警報発生器12はカウンタ11の値
S2 を記憶、内部タイマ17を停止、A/D変換器10
からの記憶動作を停止する。 〔ステップ106〕警報発生装器12内の判定装置21
によりタイマ17で計測された時間間隔Twと所定の時
間間隔T1 とが比較され、Tw>T1 ならばステップ1
07へ進み、Tw<T1 ならばステップ111へ進む 〔ステップ107〕警報発生器12内の加算器18によ
り、シャッタ閉の間の積算露光量ΔS=(S2 −S1 )
を求める。 〔ステップ108〕警報発生器12内の比較器22によ
り、積算露光量ΔSと所定レベルSLLが比較され、Δ
S>SLLならばステップ110へ進み、ΔS<SLL
ならばステップ109へ進む 〔ステップ109〕比較器22からの露光が可能である
という情報に基づいて、シャッタ制御回路13はシャッ
タ2の駆動を行い、露光が開始される。 〔ステップ110〕もれ光が許容値を越えているとして
警報発生器12は警報を発する。 〔ステップ111〕警報発生器12内の平均化装置部2
0はメモリ19内の記憶値をタイマ17からの時間間隔
Twで割り算して平均的なピーク値Poを求める。 〔ステップ112〕警報発生器12内の比較器22によ
り、ピーク値Poと所定レベルSLHが比較され、Po
>SLHならばステップ110へ進み、Po<SLHな
らばステップ109へ進む この動作により、微小なもれ光についても検出可能とな
り、もれ光による露光への悪影響が防止される。以上の
ように、すでにある露光量制御装置にソフト或いはハー
ドで警報発生装置を組み込めば、他のセンサ、アクチュ
エータ等を付けることなしに、確実な遮光状態が検出で
きる。
ければ(エラー信号ErLとErHのどちらの信号も出
力されなければ)、露光が正常に(シャッタ駆動が正常
に)行われていると判定し、シャッタ制御回路13にシ
ャッタ開の情報を出力する。次に本発明の一実施例の動
作について図4を参照して説明する。 〔ステップ100〕所定ショットでの露光が終了する。 〔ステップ101〕警報発生器12はシャッタ制御回路
13からシャッタ閉の情報Scを受け取る。 〔ステップ102〕警報発生器12はそのときのカウン
タ11の値S1 を加算器18に記憶し、内部タイマ17
を用い、時間計測を開始する。さらに、一定時間間隔で
A/D変換器10からの値をメモリ19に記憶する。 〔ステップ103〕XYステージ15が次のショット領
域にステップ移動し、アライメントが実行される。 〔ステップ104〕警報発生器12はシャッタ制御回路
13からシャッタ開の情報Soを受け取る。 〔ステップ105〕警報発生器12はカウンタ11の値
S2 を記憶、内部タイマ17を停止、A/D変換器10
からの記憶動作を停止する。 〔ステップ106〕警報発生装器12内の判定装置21
によりタイマ17で計測された時間間隔Twと所定の時
間間隔T1 とが比較され、Tw>T1 ならばステップ1
07へ進み、Tw<T1 ならばステップ111へ進む 〔ステップ107〕警報発生器12内の加算器18によ
り、シャッタ閉の間の積算露光量ΔS=(S2 −S1 )
を求める。 〔ステップ108〕警報発生器12内の比較器22によ
り、積算露光量ΔSと所定レベルSLLが比較され、Δ
S>SLLならばステップ110へ進み、ΔS<SLL
ならばステップ109へ進む 〔ステップ109〕比較器22からの露光が可能である
という情報に基づいて、シャッタ制御回路13はシャッ
タ2の駆動を行い、露光が開始される。 〔ステップ110〕もれ光が許容値を越えているとして
警報発生器12は警報を発する。 〔ステップ111〕警報発生器12内の平均化装置部2
0はメモリ19内の記憶値をタイマ17からの時間間隔
Twで割り算して平均的なピーク値Poを求める。 〔ステップ112〕警報発生器12内の比較器22によ
り、ピーク値Poと所定レベルSLHが比較され、Po
>SLHならばステップ110へ進み、Po<SLHな
らばステップ109へ進む この動作により、微小なもれ光についても検出可能とな
り、もれ光による露光への悪影響が防止される。以上の
ように、すでにある露光量制御装置にソフト或いはハー
ドで警報発生装置を組み込めば、他のセンサ、アクチュ
エータ等を付けることなしに、確実な遮光状態が検出で
きる。
【0018】以上の実施例では、もれ光の検出に際し
て、積算露光量とピーク値とをシャッタ閉の情報に基づ
いて選択したが、ショットの配列情報を加味して、所定
のショットでは積算露光量を基準として、それ以外のシ
ョットでは前述のような選択を行うようにしてもよい。
また、警報発生装置12は積算露光量とピーク値との両
方の情報に基づいて、もれ光の検出を行うようにしても
よい。例えば、積算露光量ΔSと所定レベルSLLとの
比較を行い、所定レベルより大きいときは論理値「1」
を出力し、小さいときは論理値「0」を出力する。ピー
ク値Poと所定レベルSLHとの比較を行い、所定レベ
ルより大きいときは論理値「1」を出力し、小さいとき
は論理値「0」を出力する。そして2つの比較結果の論
理和(若しくは論理積)をとり、その結果が論理値
「1」となる場合に警報を発生するようにしてもよい。
て、積算露光量とピーク値とをシャッタ閉の情報に基づ
いて選択したが、ショットの配列情報を加味して、所定
のショットでは積算露光量を基準として、それ以外のシ
ョットでは前述のような選択を行うようにしてもよい。
また、警報発生装置12は積算露光量とピーク値との両
方の情報に基づいて、もれ光の検出を行うようにしても
よい。例えば、積算露光量ΔSと所定レベルSLLとの
比較を行い、所定レベルより大きいときは論理値「1」
を出力し、小さいときは論理値「0」を出力する。ピー
ク値Poと所定レベルSLHとの比較を行い、所定レベ
ルより大きいときは論理値「1」を出力し、小さいとき
は論理値「0」を出力する。そして2つの比較結果の論
理和(若しくは論理積)をとり、その結果が論理値
「1」となる場合に警報を発生するようにしてもよい。
【0019】また、時間間隔Twが所定値T1 より常に
大きいと分かっている場合、警報発生装置12は積算露
光量ΔSと所定値SLLとの比較だけをおこない、前述
のように所定値SLLより積算露光量ΔSが大きければ
警報を発生し、小さければシャッタ駆動を行うというよ
うにしてもよい。また、XYステージが移動中であれ
ば、感光剤を反応させるもれ光量は変わってくる。そこ
で、XYステージの速度を検出し、ステージが移動中で
あれば問題のないもれ光量については警報を発生しない
ようにしてもよい。また、XYステージの移動速度情報
を検出し、比較器22における基準値SLLの小さくし
てもよい。
大きいと分かっている場合、警報発生装置12は積算露
光量ΔSと所定値SLLとの比較だけをおこない、前述
のように所定値SLLより積算露光量ΔSが大きければ
警報を発生し、小さければシャッタ駆動を行うというよ
うにしてもよい。また、XYステージが移動中であれ
ば、感光剤を反応させるもれ光量は変わってくる。そこ
で、XYステージの速度を検出し、ステージが移動中で
あれば問題のないもれ光量については警報を発生しない
ようにしてもよい。また、XYステージの移動速度情報
を検出し、比較器22における基準値SLLの小さくし
てもよい。
【0020】また、露光装置は投影型のものに限定され
るものではなく、反射型、反射屈折型、プロシキミティ
型等であってもよい。さらに、光源1は水銀ランプに限
らず、エキシマレーザ等の光源であってもよい。
るものではなく、反射型、反射屈折型、プロシキミティ
型等であってもよい。さらに、光源1は水銀ランプに限
らず、エキシマレーザ等の光源であってもよい。
【0021】
【発明の効果】本発明によれば、シャッタの閉時間に応
じてシャッタの遮光状態を高精度に検出できるため、装
置の稼働時間、歩留りを向上させることができる。
じてシャッタの遮光状態を高精度に検出できるため、装
置の稼働時間、歩留りを向上させることができる。
【図1】本発明の一実施例による露光装置の概略と制御
系のブロックの概略を示す図である。
系のブロックの概略を示す図である。
【図2】図1の装置におけるシャッタを示す図である。
【図3】図1の警報発生装置の制御系を説明するブロッ
ク図である。
ク図である。
【図4】本発明の一実施例による動作を説明する図であ
る。
る。
1…光源 2…シャッタ 3…シャッタ駆動部 4…エンコーダ 8…受光素子 9…電圧−周波数変換器 10…アナログ−デジタル変換器 11…カウンタ 12…警報発生装置 13…シャッタ制御回路 25…入力手段 50…コンピュータ R…レチクル W…ウエハ
Claims (3)
- 【請求項1】所定のパターンが形成されたマスクを照明
する光を射出する光源と前記光源からの光を透過及び遮
光するシャッタと前記シャッタを開閉するシャッタ制御
手段と感光基板を載置し、かつ該基板をステップ移動可
能なステージと前記所定のパターンを所定の結像面に投
影する投影光学系とを有し、前記所定のパターンを前記
感光基板上に結像する投影露光装置において、 前記シャッタ制御手段からシャッタ閉の情報が出力され
てから、次のシャッタ開の情報が出力されるまでの時間
間隔を計測するタイマ手段と;前記タイマ手段で計測さ
れた時間間隔内での前記シャッタを通過した前記照明光
のピーク値を検出する手段と;前記タイマ手段で計測さ
れた時間間隔での前記シャッタを通過した前記照明光の
積算光量を検出する手段と;前記タイマ手段で計測され
た時間間隔に基づいて、前記ピーク値もしくは前記積算
光量とのどちらか一方を選択する選択手段と;前記ピー
ク値と比較すべき値と前記積算光量と比較すべき値とを
入力する入力手段と;前記選択手段からの情報が前記入
力手段からの値より大きいとき警報を発する手段とを有
することを特徴とする露光装置。 - 【請求項2】前記選択手段は、前記タイマ手段で計測さ
れた時間間隔が所定時間より短い場合は前記ピーク値を
選択し、前記時間間隔が所定時間より長い場合は前記積
算光量を選択することを特徴とする請求項1記載の露光
装置。 - 【請求項3】前記ピーク値と比較すべき値は前記積算光
量と比較すべき値の時間微分値より大きいことを特徴と
する請求項2記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4202067A JPH0653109A (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4202067A JPH0653109A (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0653109A true JPH0653109A (ja) | 1994-02-25 |
Family
ID=16451403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4202067A Pending JPH0653109A (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0653109A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020134829A (ja) * | 2019-02-22 | 2020-08-31 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
| JP2020160165A (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | キヤノン株式会社 | シャッタ装置、露光装置および物品製造方法 |
| CN119395953A (zh) * | 2024-12-18 | 2025-02-07 | 新毅东(北京)科技有限公司 | 一种曝光系统及其控制方法 |
-
1992
- 1992-07-29 JP JP4202067A patent/JPH0653109A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020134829A (ja) * | 2019-02-22 | 2020-08-31 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
| KR20200102935A (ko) | 2019-02-22 | 2020-09-01 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
| JP2020160165A (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | キヤノン株式会社 | シャッタ装置、露光装置および物品製造方法 |
| KR20200115177A (ko) * | 2019-03-25 | 2020-10-07 | 캐논 가부시끼가이샤 | 셔터 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
| TWI803734B (zh) * | 2019-03-25 | 2023-06-01 | 日商佳能股份有限公司 | 遮蔽器裝置、曝光裝置及物品製造方法 |
| CN119395953A (zh) * | 2024-12-18 | 2025-02-07 | 新毅东(北京)科技有限公司 | 一种曝光系统及其控制方法 |
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