TWI803734B - 遮蔽器裝置、曝光裝置及物品製造方法 - Google Patents

遮蔽器裝置、曝光裝置及物品製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明涉及遮蔽器裝置、曝光裝置以及物品製造方法。提供在為了更可靠地防止遮蔽器構材的破損方面有利的技術。遮蔽器裝置具備遮斷光束的遮蔽器構材、對前述遮蔽器構材進行旋轉驅動的旋轉機構以及配置有光路以檢測前述遮蔽器構材的變形的光學感測器，前述光路的方向為相對於與前述遮蔽器構材的旋轉軸平行的直線傾斜的方向。

Description

遮蔽器裝置、曝光裝置及物品製造方法
本發明涉及遮蔽器裝置、曝光裝置及物品製造方法。
在透過使用來自光源的光對原版進行照明並利用投影光學系統將原版的圖案投影到基板而對該基板進行曝光的曝光裝置中，為了控制向基板的光的照射，使用遮蔽器(shutter)裝置。遮蔽器裝置可透過對遮蔽器構材進行旋轉驅動以橫穿光束來控制向基板的光的照射。為了提高每單位時間的基板的處理張數(即吞吐量)，要求遮蔽器構材的高速驅動，為此尋求遮蔽器構材的輕量化。遮蔽器構材的輕量化可透過遮蔽器構材的薄型化實現。由於遮蔽器構材的薄型化，遮蔽器構材變得易於變形。遮蔽器構材的變形可能引起遮蔽器構材和配置於該遮蔽器構材周邊的構材的機械性的干擾，導致遮蔽器裝置的故障。
在專利文獻1中，記載了具有檢測曝光遮蔽器的異常的異常檢測單元的曝光裝置。異常檢測單元根據檢測來自放電燈的光的光檢測器的輸出以及檢測來自曝光遮蔽器的遮蔽器葉片的曝光光的反射光的光檢測器的輸出，計算遮蔽器葉片的反射率，根據該反射率來檢測曝光遮蔽器的異常。或者，異常檢測單元檢測曝光遮蔽器的遮蔽器葉片的表面溫度，根據該表面溫度來檢測曝光遮蔽器的異常。或者，異常檢測單元透過檢測遮蔽器葉片與配置於該遮蔽器葉片周邊的遮蔽板的電接觸來檢測曝光遮蔽器的異常。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2000-216074號公報
[發明要解決的課題]
在檢測遮蔽器葉片的反射率或表面溫度的結構中，無法直接檢測遮蔽器葉片的異常的變形，所以存在無法正確地檢測遮蔽器葉片的異常的變形的可能性。另外，在檢測遮蔽器葉片與配置於該遮蔽器葉片周邊的遮蔽板的電接觸的結構中，存在遮蔽器葉片或者遮蔽板等在檢測到接觸的時間點已經破損的可能性。因此，在記載於引用文獻1的結構中，存在無法未然地防止由於遮蔽器葉片的變形而導致的破損的可能性。
本發明的目的在於，提供為了更可靠地防止遮蔽器構材的破損方面有利的技術。 [解決課題的手段]
本發明的1個方案涉及一種遮蔽器裝置，該遮蔽器裝置具有遮斷光束的遮蔽器構材以及對前述遮蔽器構材進行旋轉驅動的旋轉機構，前述遮蔽器裝置具備配置有光路以檢測所述遮蔽器構材的變形的光學感測器，前述光路的方向為相對於與前述遮蔽器構材的旋轉軸平行的直線傾斜的方向。 [發明的效果]
根據本發明時，提供在為了更可靠地防止遮蔽器構材的破損方面有利的技術。
以下，參照附圖詳細說明實施方式。此外，以下的實施方式非限定申請專利範圍所涉及的發明。在實施方式中記載有多個特徵，惟不限於此等多個特徵的全部對於發明為必須，另外多個特徵可以任意地組合。此外，在圖式中對同一或同樣的結構附加相同的參考符號，並省略重複的說明。
在圖1中示出了本發明的第1實施方式的曝光裝置EXP的結構。曝光裝置EXP可具備光源110、遮蔽器裝置120、照明光學系統130、原版保持部140、投影光學系統150以及基板保持部160。原版保持部140保持原版142。原版保持部140由未圖示的原版定位機構定位，由此可定位原版142。基板保持部160保持基板162。對曝光裝置EXP供給由抗蝕劑塗布裝置塗布了抗蝕劑的基板162。基板保持部160由未圖示的基板定位機構定位，由此可定位基板162。
遮蔽器裝置120被配置為可在光源110與原版保持部140之間的光路中遮斷光束。照明光學系統130使用來自光源110的光對原版142進行照明。投影光學系統150將由照明光學系統130照明的原版142的圖案投影到基板162，由此曝光基板162。由此，在塗布於基板162的抗蝕劑上形成潛像圖案。潛像圖案由未圖示的顯影裝置顯影，由此在基板162上形成抗蝕劑圖案。
在曝光裝置EXP中，作為控制基板162的曝光量的結構，換言之作為控制遮蔽器裝置120的結構，例如可具備檢測部170、遮蔽器控制部182以及驅動器184。檢測部170例如可包括光感測器172、放大器174、V/F轉換器176以及脈衝計數器178。光感測器172包括光電變換元件，可對通過遮蔽器裝置120入射到光感測器172的光進行光電變換。
在一個例子中，通過遮蔽器裝置120的光的一部分可被分束器132取出並被引導到光感測器172。放大器174可將來自光感測器172的輸出信號(例如電流信號)變換為電壓信號。V/F轉換器176可將從放大器174輸出的電壓信號變換為頻率信號。脈衝計數器178可對從V/F轉換器176輸出的頻率信號的脈衝數進行計數。由脈衝計數器178計數的計數值與對曝光光的強度進行累計而得到的量(即通過遮蔽器裝置120的曝光光的累計量)對應，也與基板162的累計曝光量對應。
遮蔽器控制部182可對驅動器184發送用於將遮蔽器裝置120設為通過狀態的指令，以開始基板162的曝光。之後，遮蔽器控制部182可根據來自檢測部170的輸出，以使基板162的累計曝光量成為目標曝光量的方式，對驅動器184發送用於將遮蔽器裝置120設為遮斷狀態的指令。驅動器184可依照來自遮蔽器控制部182的指令來驅動遮蔽器裝置120。
曝光裝置EXP可具備控制曝光裝置EXP的上述各部分的控制部190。控制部190例如可由FPGA(Field Programmable Gate Array(現場可程式化邏輯閘陣列)的縮寫)等PLD(Programmable Logic Device(可程式化邏輯裝置)的縮寫)、或者ASIC(Application Specific Integrated Circuit(特殊應用積體電路)的縮寫)、或者併入有程序的通用或專用的電腦、或者此等中的全部或一部分的組合構成。
基板162典型地具有多個照射(shot)區域。可在對基板162的某個照射區域和原版142進行了位置匹配之後由遮蔽器控制部182控制遮蔽器裝置120以成為使光通過的通過狀態，從而開始該照射區域的曝光。在該狀態下，遮蔽器控制部182可根據從檢測部170(脈衝計數器178)提供的計數值，將用於將遮蔽器裝置120設為遮斷狀態的指令發送到驅動器184。響應於此，驅動器184可驅動遮蔽器裝置120以將遮蔽器裝置120設為遮斷狀態。之後，為了對其他照射區域進行曝光，可對該其他照射區域和原版進行位置匹配並對該其他照射區域進行曝光。可針對所有照射區域執行如以上的處理。
在圖2中示意地示出了第1實施方式的遮蔽器裝置120的結構及動作。遮蔽器裝置120可包括遮蔽器構材30以及對遮蔽器構材30進行旋轉驅動的馬達(旋轉機構)31。馬達31由驅動器184驅動，可對遮蔽器構材30進行旋轉驅動。
在圖3的(a)~(d)中例示了基於遮蔽器裝置120的遮蔽器構材30的曝光光的遮斷狀態和通過狀態。遮蔽器構材30可具有遮斷光束(曝光光)32的遮斷部分30a1、30a2以及使光束32通過的通過部分30b1、30b2。在圖3的(a)所示的期間ta，光束32被遮斷部分30a遮斷，基板162不曝光。在圖3的(b)所示的期間tb，光束32通過通過部分30b1，對基板162的某個照射區域進行曝光。在圖3的(c)所示的期間tc，光束32被遮斷部分30a遮斷，基板162不曝光。在圖3的(d)所示的期間td，光束32通過通過部分30b2，對基板162的其他照射區域進行曝光。
在圖2、圖3所示的例子中，遮蔽器構材30雖具有2個遮斷部分30a1、30a2以及2個通過部分30b1、30b2，但遮蔽器構材30可具有至少1個遮斷部分以及至少1個通過部分。遮蔽器構材30例如既可以在圖3的(a)、(b)、(c)、(d)所示的各位置停止，亦可不停止而被連續地驅動。
在圖4中示出了第1實施方式的遮蔽器裝置120的結構。圖4的(a)是用與馬達31的旋轉軸(輸出軸)31a平行的面(通過旋轉軸31a的面)截斷遮蔽器裝置120的剖面。圖4的(b)是用與馬達31的旋轉軸(輸出軸)31a垂直的面(通過遮蔽器構材30的面)截斷遮蔽器裝置120的剖面圖。馬達31可依照從驅動器184供給的電流使旋轉軸(rotating shaft)31a旋轉。對旋轉軸31a固定了遮斷光束32的遮蔽器構材30，遮蔽器構材30可由馬達31旋轉驅動。馬達31可固定於保持構材41。可對保持構材41設置使光束32通過的開口部41a。在此，可在保持構材41與遮蔽器構材30之間設置適當的間隙ΔG，使得不發生來自遮蔽器裝置120的光束32的洩漏以及遮蔽器構材30和保持構材41的機械性的干擾。
遮蔽器裝置120可具備配置有光路43c以檢測由馬達31旋轉驅動的遮蔽器構材30的變形的光學感測器43。在一個例子中，光學感測器43被固定到感測器保持器42，感測器保持器42可由螺釘等固定構件45固定到保持構材41。感測器保持器42可透過未圖示的調整機構，調整相對於保持構材41的相對位置。光學感測器43例如可為具有被配置為夾著光路43c相向的投光部43a和受光部43b的透射型感測器。或者，光學感測器43亦可為在被配置為與反射鏡相向的感測器單元中併入有投光部和受光部的反射型感測器。光學感測器43可為輸出2值信號的光斷路器。該2值為顯示光路43c被遮蔽器構材30遮斷的值以及顯示光路43c未被遮蔽器構材30遮斷的值。
在一個例子中，光學感測器43可在光路43c被遮蔽器構材30遮斷的狀態下輸出高位準(High)，在光路43c未被遮蔽器構材30遮斷的狀態下輸出低位準(Low)。在其他例子中，光學感測器43可在光路43c未被遮蔽器構材30遮斷的狀態下輸出高位準，在光路43c被遮蔽器構材30遮斷的狀態下輸出低位準。
遮蔽器構材30可具有以遮蔽器構材30的旋轉中心(旋轉軸31a的中心)為中心的圓弧狀的邊緣30e。光學感測器43的光路43c可配置於遮蔽器構材30的圓弧狀的邊緣30e的附近。光路43c的方向可為與平行於旋轉軸31a的直線Dax交叉的方向(傾斜的方向)。光路43c的方向與平行於旋轉軸31a的直線Dax所成的角度θ1例如可為30度以上且60度以下，優選為40度以上且50度以下，在一個例子中為45度。
遮蔽器裝置120亦可包括根據光學感測器43的輸出來判斷遮蔽器構材30的異常的判定部60。判定部60可將判斷的結果通知給控制部190。控制部190可在從判定部60接受到遮蔽器構材30存在異常這樣的判斷結果的通知的情況下，執行差錯處理。該差錯處理例如可包括停止基板162的曝光的處理、對操作者報告遮蔽器構材30存在異常這樣的判斷結果的處理。判定部60亦可被併入到控制部190。
參照圖5，說明由光學感測器43檢測遮蔽器構材30的變形的動作。光學感測器43的光路43c可被配置為檢測遮蔽器構材30的形狀脫離正常形狀範圍。例如，光學感測器43的光路43c可被配置為在遮蔽器構材30的形狀脫離了正常形狀範圍時被遮蔽器構材30遮斷。在此，遮蔽器構材30的變形既可能有存在於使遮蔽器構材30靜止的狀態下的情況，也可能有發生在使遮蔽器構材30旋轉的狀態下的情況。後者可能由於作用於遮蔽器構材30的離心力或加速度等而產生。
在一個例子中，在遮蔽器構材30的邊緣30e在與旋轉軸31平行的方向上的位移超過容許位移Δd時，可以使光學感測器43的輸出信號例如從High(通過)遷移到Low(遮斷)的方式調整光學感測器43的位置。例如，在遮蔽器構材30的形狀成為形狀50時，遮蔽器構材30的邊緣30e可能超過遮蔽器構材30在與旋轉軸31平行的方向上的位移容許位移Δd。
在圖6的(a)中例示了遮蔽器構材30的形狀收斂於正常形狀範圍的情況下的光學感測器43的輸出信號。在圖6的(b)中例示了遮蔽器構材30的形狀脫離了正常形狀範圍的情況下的光學感測器43的輸出信號。在圖6的(a)、(b)中，橫軸是時間t，縱軸是光學感測器43的輸出。
如圖6的(a)所例示，在遮蔽器構材30的形狀收斂於正常形狀範圍的情況下，不論在期間ta、tb、tc、td中的哪一個，光學感測器43的光路43c都不被遮蔽器構材30遮斷。因此，光學感測器43的輸出信號維持High(通過)。如圖6的(b)例示，在遮蔽器構材30的形狀脫離了正常形狀範圍的情況下，在遮蔽器構材30遮斷用於曝光的光束32的期間ta、tc，光學感測器43的光路43c被遮蔽器構材30遮斷。但是，在期間tb、td，光學感測器43的光路43c不被遮蔽器構材30遮斷。因此，在遮蔽器構材30遮斷用於曝光的光束32的期間ta、tc，光學感測器43的輸出信號成為Low(遮斷)，表示遮蔽器構材30的形狀脫離正常形狀範圍。
判定部60可根據光學感測器43的輸出信號來判斷遮蔽器構材30的異常。在該例子中，判定部60可根據光學感測器43的輸出信號反復High和Low、或者存在Low而判斷為在遮蔽器構材30中存在異常。換言之，判定部60可根據光學感測器43的輸出信號反復High和Low、或者存在Low而檢測出遮蔽器構材30的異常。
在上述例子中，在遮蔽器構材30的形狀脫離正常形狀範圍的情況下，在遮蔽器構材30遮斷用於曝光的光束32的期間ta、tc，光學感測器43的光路43c被遮蔽器構材30遮斷。但是，亦可在遮蔽器構材30的形狀脫離正常形狀範圍的情況下，以在遮蔽器構材30不遮斷用於曝光的光束32的期間tb、td使光學感測器43的光路43c被遮蔽器構材30遮斷的方式配置光學感測器43。
透過將容許位移Δd調整為小於在圖4中示意地示出的間隙ΔG的值，判定部60可在遮蔽器裝置120由於遮蔽器構材30和保持構材41的接觸而發生故障之前檢測遮蔽器裝置120的異常。透過根據異常的檢測更換遮蔽器裝置120，可未然地防止伴隨遮蔽器裝置120的故障之曝光裝置EXP的停止。
在圖4所示的例子中，光學感測器43被配置為使得旋轉軸31位於光束32的光路與光學感測器43之間，但光學感測器43的位置只要為邊緣30e通過的區域的周邊，則可為任意位置。另外，亦可配置多個光學感測器43。關於角度θ1，圖4的(a)中記載的角度θ1設為正的值，亦可為負的值。在該情況下，即使遮蔽器構材30的變形的方向為遠離馬達31的方向，也可檢測出遮蔽器構材30的形狀脫離了正常形狀範圍。
以下，說明第2實施方式的曝光裝置EXP及遮蔽器裝置120。未作為第2實施方式言及的事項可依照第1實施方式。參照圖7，說明第2實施方式中的遮蔽器構材30的變形及其檢測。第2實施方式的光學感測器43的配置與第1實施方式不同。在第2實施方式中，光學感測器43的光路43c被配置為在遮蔽器構材30的形狀收斂於正常形狀範圍時被遮蔽器構材30遮斷。
在一個例子中，在遮蔽器構材30的邊緣30e在與旋轉軸31平行的方向上的位移超過容許位移Δd時，可以使光學感測器43的輸出信號例如從Low(遮斷)遷移到High(通過)的方式調整光學感測器43的位置。例如，在遮蔽器構材30的形狀成為形狀50時，遮蔽器構材30的邊緣30e可能超過遮蔽器構材30在與旋轉軸31平行的方向上的容許位移Δd。
在圖8的(a)中例示了遮蔽器構材30的形狀收斂於正常形狀範圍的情況下的光學感測器43的輸出信號。在圖8的(b)中例示了遮蔽器構材30的形狀脫離了正常形狀範圍的情況下的光學感測器43的輸出信號。在圖8的(a)、(b)中，橫軸是時間t，縱軸是光學感測器43的輸出。
如圖8的(a)所例示，在遮蔽器構材30的形狀收斂於正常形狀範圍的情況下，在遮蔽器構材30遮斷用於曝光的光束32的期間ta、tc，光學感測器43的光路43c被遮蔽器構材30遮斷。如圖8的(b)所例示，在遮蔽器構材30的形狀脫離正常形狀範圍的情況下，即使在期間ta、tc，光學感測器43的光路43c也不被遮蔽器構材30遮斷。因此，不論在期間ta、tb、tc、td中的哪一個，光學感測器43的光路43c都不被遮蔽器構材30遮斷，光學感測器43的輸出信號維持High位準。
判定部60可根據光學感測器43的輸出信號來判斷遮蔽器構材30的異常。在該例子中，判定部60例如可根據在遮蔽器構材30遮斷用於曝光的光束32的期間ta、tc中存在光學感測器43的輸出信號為High的期間，判斷為在遮蔽器構材30中存在異常。
在第2實施方式中，與第1實施方式同樣地，光學感測器43的位置只要為邊緣30e通過的區域的周邊，則可為任意位置。另外，亦可配置多個光學感測器43。
以下，參照圖9，說明第3實施方式的曝光裝置EXP及遮蔽器裝置120。未作為第3實施方式言及的事項可依照第1或者第2實施方式。第3實施方式的遮蔽器裝置120可具備至少2個光學感測器43、43’。因此，第3實施方式的遮蔽器裝置120可具有至少2個光路43c、43c’。
在圖9所示的例子中，光學感測器43具有光路43c，光學感測器43’具有光路43c’。光路(第1光路)43c可被配置為檢測遮蔽器構材30的形狀從正常形狀範圍向第1方向(接近馬達31的方向)脫離。光路(第2光路)43c’被配置為檢測遮蔽器構材30的形狀從正常形狀範圍向與第1方向不同的第2方向(遠離馬達31的方向)脫離。
光學感測器43例如可為具有被配置為夾著光路43c而相向的投光部43a和受光部43b的透射型感測器。光學感測器43’例如可為具有被配置為夾著光路43c’而相向的投光部43a’和受光部43b’的透射型感測器。投光部43a和投光部43a’可配置到夾著遮蔽器構材30的旋轉域而彼此相向的位置。受光部43b和受光部43b’可配置到夾著遮蔽器構材30的旋轉域而彼此相向的位置。根據第3實施方式，在遮蔽器構材30不論在第1方向和第2方向中的哪一個上脫離正常形狀範圍而變形的情況下，都可將其檢測出。
在第3實施方式中，與第1實施方式同樣地，光學感測器43、43’之組只要為邊緣30e通過的區域的周邊，則可被配置到任意位置。另外，亦可配置多組光學感測器43、43’。
以下，參照圖10、圖11，說明第4實施方式的曝光裝置EXP及遮蔽器裝置120。未作為第4實施方式言及的事項可依照第1至第3實施方式。第4實施方式的光學感測器43的配置與第1至第3實施方式不同。
遮蔽器構材30具有透過由馬達31對遮蔽器構材30進行旋轉驅動而橫穿光束32的邊緣30f。光學感測器43的光路43c可透過檢測邊緣30f在與遮蔽器構材30的旋轉軸31a平行的方向上的位置的變化來檢測遮蔽器構材30的變形。光路43c的方向與平行於旋轉軸31a的直線Dax所成的角度θ1例如可為30度以上且60度以下，優選為40度以上且50度以下，在一個例子中為45度。
在一個例子中，可在遮蔽器構材30被整定(停止)為圖3的(a)、(b)、(c)、(d)的某一個狀態的狀態下，透過光學感測器43檢測遮蔽器構材30的變形。具體而言，在該狀態下，在遮蔽器構材30的圓弧狀的邊緣30e在與旋轉軸31平行的方向上的位移超過容許位移Δd時，光學感測器43的輸出信號可成為Low(遮斷)。因此，判定部60可根據光學感測器43的輸出信號來判斷遮蔽器構材30的異常。
在圖11中，例示在遮蔽器構材30中無異常的情況下的光學感測器43的輸出信號。光學感測器43的輸出信號可為具有週期T的週期信號。在遮蔽器構材30中發生異常時，光學感測器43的輸出信號的波形可能從正常狀態下的波形變化。例如，在遮蔽器構材30中發生異常時，光學感測器43的輸出信號的波形可能相對於正常狀態下的波形發生延遲。例如，以遮蔽器控制部182向驅動器184發送驅動指令的時點等為基準的光學感測器43的輸出信號的相位可能由於在遮蔽器構材30中發生異常而變化。因此，判定部60可根據光學感測器43的輸出信號的波形來判斷遮蔽器構材30的異常。在第4實施方式中，亦可配置多個光學感測器43。
以下，參照圖12，說明第5實施方式的曝光裝置EXP及遮蔽器裝置120。未作為第5實施方式言及的事項可依照第1至第4實施方式。第5實施方式的光學感測器43的規格與第1至第4實施方式不同。在圖12的(a)中示意地示出了第5實施方式的遮蔽器裝置120中的光學感測器43的配置例。
第5實施方式的遮蔽器裝置120具備輸出類比信號的光學感測器43。第5實施方式中的光學感測器43可具有比第1至第4實施方式中的光學感測器43的光路43c粗的光路43d。光路43d可是平行光束通過的空間。光學感測器43例如可為具有被配置為夾著光路43c而相向的投光部43a和受光部43b的透射型感測器。或者，光學感測器43亦可為在被配置為與反射鏡相向的感測器單元中併入有投光部和受光部的反射型感測器。受光部43b可是光量感測器。光學感測器43可輸出具有與由受光部43b接受的光的強度對應的振幅的類比信號。光學感測器43的光路43d可被配置為光路43d的中心軸(光軸)43ax通過正常狀態的遮蔽器構材30的邊緣30e的附近且光路43d的一部分被正常狀態的遮蔽器構材30的邊緣30e遮斷。
在圖12的(b)中例示了光學感測器43的輸出信號Sout。輸出信號Sout可在期間ta、tc具有依賴於遮蔽器構材30的邊緣30e的振動等的波形。判定部60可透過比較正常狀態下的輸出信號Sout和曝光裝置EXP的使用時的輸出信號Sout來判斷遮蔽器構材30的異常。正常狀態下的輸出信號Sout和曝光裝置EXP的使用時的輸出信號Sout的比較既可為輸出信號Sout本身的比較，亦可根據從輸出信號Sout抽取的特徵量來進行。
本發明的實施方式中的物品製造方法例如適合於製造物品(半導體元件、磁記憶媒體、液晶顯示元件等)、濾光片等物品。上述製造方法包括使用上述曝光裝置對塗布有感光劑的基板進行曝光的曝光程序以及對在曝光程序中曝光後的基板進行顯影的顯影程序。另外，該製造方法可包括其他公知的程序(氧化、成膜、蒸鍍、摻雜、平坦化、蝕刻、抗蝕劑剝離、切割、接合、封裝等)。本實施方式中的物品的製造方法相比於以往，對物品的性能、品質、生產率以及生產成本中的至少1個更有利。
發明不限制於上述實施方式，可不脫離發明的精神和範圍而進行各種變更和變形。因此，為了公開發明的範圍記載申請專利範圍。
EXP:曝光裝置 120:遮蔽器裝置 30:遮蔽器構材 31:馬達 31a:旋轉軸 43:光學感測器 43a:投光部 43b:受光部
[圖1]為示出第1實施方式的曝光裝置的結構的圖。 [圖2]為示出第1實施方式的遮蔽器裝置的圖。 [圖3]為例示基於遮蔽器構材的曝光光的遮斷狀態和通過狀態的圖。 [圖4]為示出第1實施方式的遮蔽器裝置的結構的圖。 [圖5]為示意地示出第1實施方式中的遮蔽器構材的變形的檢測原理的圖。 [圖6]為例示第1實施方式中的光學感測器的輸出信號的圖。 [圖7]為示意地示出第2實施方式中的遮蔽器構材的變形的檢測原理的圖。 [圖8]為例示第2實施方式中的光學感測器的輸出信號的圖。 [圖9]為例示第3實施方式中的光學感測器的輸出信號的圖。 [圖10]為示出第4實施方式的遮蔽器裝置的結構的圖。 [圖11]為例示第4實施方式中的光學感測器的輸出信號的圖。 [圖12]為例示第5實施方式中的遮蔽器構材的變形的檢測原理以及光學感測器的輸出信號的圖。
△G:間隙
Dax:直線
θ1:角度
30:遮蔽器構材
30e:邊緣
31:馬達
31a:旋轉軸
32:光束
41:保持構材
41a:開口部
42:感測器保持器
43:光學感測器
43a:投光部
43b:受光部
43c:光路
45:固定構件
60:判定部
120:遮蔽器裝置

Claims (14)

  1. 一種遮蔽器裝置，其為具有遮斷光束的遮蔽器構材以及對前述遮蔽器構材進行旋轉驅動的旋轉機構者，具備光學感測器，前述光學感測器具有投射光的投光部，並檢測前述遮蔽器構材的變形，前述投光部，被配置為前述光的光路的方向相對於與前述遮蔽器構材的旋轉軸平行的直線成為傾斜的方向。
  2. 根據請求項1的遮蔽器裝置，其中，前述投光部，被配置為前述光路的方向與前述直線所成的角度是30度以上且60度以下。
  3. 根據請求項1的遮蔽器裝置，其中，前述投光部被配置為檢測前述遮蔽器構材的形狀脫離了正常形狀範圍。
  4. 根據請求項3的遮蔽器裝置，其中，前述投光部，被配置為在前述遮蔽器構材的形狀脫離了前述正常形狀範圍時，前述光路被前述遮蔽器構材遮斷。
  5. 根據請求項3的遮蔽器裝置，其中，前述投光部，被配置為在前述遮蔽器構材的形狀收斂於前述正常形狀範圍時，前述光路被前述遮蔽器構材遮斷。
  6. 根據請求項1的遮蔽器裝置，其中，前述光路包括：第1光路，其用於檢測前述遮蔽器構材的形狀從正常形狀範圍向與前述遮蔽器構材的旋轉軸平行的第1方向脫離的情形；以及第2光路，其用於檢測前述遮蔽器 構材的形狀從前述正常形狀範圍向與前述遮蔽器構材的旋轉軸平行且與前述第1方向相反的第2方向脫離的情形。
  7. 根據請求項1的遮蔽器裝置，其中，前述遮蔽器構材具有以前述遮蔽器構材的旋轉中心為中心的圓弧狀的邊緣，前述光學感測器透過檢測前述邊緣在與前述遮蔽器構材的旋轉軸平行的方向上的位置的變化來檢測前述遮蔽器構材的變形。
  8. 根據請求項1的遮蔽器裝置，其中，前述遮蔽器構材具有透過由前述旋轉機構對前述遮蔽器構材進行旋轉驅動而橫穿前述光束的邊緣，前述光學感測器透過檢測前述邊緣在與前述遮蔽器構材的旋轉軸平行的方向上的位置的變化來檢測前述遮蔽器構材的變形。
  9. 根據請求項1的遮蔽器裝置，其還具備根據前述光學感測器的輸出來判斷前述遮蔽器構材的異常的判定部。
  10. 根據請求項9的遮蔽器裝置，其中，前述光學感測器輸出2值信號。
  11. 根據請求項9的遮蔽器裝置，其中，前述光學感測器輸出類比信號，前述判定部根據前述類比信號的波形來判斷前述遮蔽器構材的異常。
  12. 根據請求項1的遮蔽器裝置，其中，前述光學感測器具有被配置為夾著前述光路而與前述投光部相向的受光部。
  13. 一種曝光裝置，具備： 保持原版的原版保持部；保持基板的基板保持部；光源；照明光學系統，其使用來自前述光源的光對前述原版進行照明；投影光學系統，其將前述原版的圖案投影到前述基板；以及根據請求項1至12中的任一項的遮蔽器裝置；前述遮蔽器裝置被配置為可在前述光源與前述原版保持部之間的光路中遮斷光束。
  14. 一種物品製造方法，包括：曝光程序，其為使用根據請求項13的曝光裝置對基板進行曝光者；以及顯影程序，其為對在前述曝光程序中曝光後的前述基板進行顯影者；用經由前述顯影程序後的前述基板製造物品。
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