CN114114854B - 遮蔽装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种遮蔽装置，遮蔽装置包括：底座，设置有工件安置位；遮蔽件，可拆卸地安装于底座，遮蔽件用于与底座围合形成遮蔽腔，遮蔽件设置有匹配部，匹配部与底座围合形成与工件形状适配的工件让位口，工件让位口与遮蔽腔连通。上述的遮蔽装置，能够遮蔽具有三维造型的工件的局部，并可反复使用，从而成本较低。

Description

遮蔽装置

技术领域

本发明涉及生产辅助工具，特别涉及一种遮蔽装置。

背景技术

曝光显影工艺，系利用光源作为工艺条件，使工件产生色彩变化的表面处理工艺。对于某些工件，工件需要局部表面产生色彩变化，这需要将工件不需上色的部分遮蔽起来。现有工艺中，对于平板形工件，可以直接用遮板贴合在工件表面而形成遮蔽。但是对于具有三维造型的工件，遮板容易漏光，因而并不能适用。为此，对于有三维造型的工件，通常采用贴膜遮蔽或者涂胶遮蔽的方式实现局部遮蔽，但是操作十分麻烦，而且贴膜和涂胶都是一次性用品，成本较高。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种遮蔽装置，能够遮蔽具有三维造型的工件的局部，并可反复使用，从而成本较低。

根据本发明实施例的遮蔽装置，其包括：底座，设置有工件安置位；遮蔽件，可拆卸地安装于所述底座，所述遮蔽件与所述底座围合形成遮蔽腔，所述遮蔽件设置有匹配部，所述匹配部与所述底座围合形成与所述工件形状适配的工件让位口，所述工件让位口与所述遮蔽腔连通。

根据本发明实施例的遮蔽装置，至少具有如下有益效果：遮蔽装置使用时，将工件安置于底座的工件安置位，安装遮蔽件，使得工件局部容置于遮蔽腔中，工件未被遮蔽的部分通过工件让位口从遮蔽腔中伸出，由于工件让位口与所述工件的形状适配，因而光线不会进入遮蔽腔，保证了局部遮蔽的效果。完成遮蔽件的安装后，通过光源照射工件未被遮蔽的表面，使其在光照下变色，从而完成曝光显影的工艺。此后，可通过拆卸遮蔽件来取下工件。由于遮蔽件的可拆卸设置，遮蔽装置可以反复使用，从而降低成本。

根据本发明的一些实施例，所述遮蔽件设置有两个并分别设置于所述底座的两侧。

根据本发明的一些实施例，所述底座和所述遮蔽件对应设置有定位凸部和定位凹部，所述定位凸部和所述定位凹部形状适配并相互插接配合。

根据本发明的一些实施例，所述底座设置有用于定位所述工件的工件定位结构。

根据本发明的一些实施例，所述底座和所述遮蔽件分别设置有能相互磁性吸引的第一磁吸件和第二磁吸件，所述底座和所述遮蔽件通过所述第一磁吸件和所述第二磁吸件形成磁吸配合。

根据本发明的一些实施例，所述第一磁吸件和所述第二磁吸件中的之一配置为永磁铁，另一配置为锁附于所述遮蔽件或所述底座的铁质螺钉，所述永磁铁与所述铁质螺钉的螺帽磁吸配合。

根据本发明的一些实施例，所述遮蔽件包括主体部，所述匹配部和所述主体部为分体制造结构，所述匹配部安装连接于所述主体部。

根据本发明的一些实施例，所述匹配部配置为板片结构。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本发明实施例的遮蔽装置所对应的工件的立体示意图；

图2为本发明实施例的遮蔽装置的爆炸示意图；

图3为本发明实施例的遮蔽件的立体示意图；

图4为本发明实施例的遮蔽装置在组合状态下的结构示意图；

图5为图4的K-K方向的剖视图；

图6为本发明实施例的遮蔽装置与工件组合时的立体示意图；

图7为图6的M-M方向的剖视图；

图8为本发明实施例的遮蔽件的爆炸示意图；

图9为本发明实施例的遮蔽装置所对应的工件的另一立体示意图；

图10为本发明实施例的底座的结构示意图；

图11为本发明实施例的遮蔽装置与工件组合时的另一立体示意图。

附图标记：

工件1，第一局部表面11，第二局部表面12；

光源2；

底座100，工件安置位110，工件定位结构120，底侧相对面130，第一适配面140，主座体101，定位座102；

遮蔽件200，主体部210，匹配部220，第二适配面221；

遮蔽腔300；

工件让位口400；

定位凸部510，定位凹部520；

第一磁吸件610，第二磁吸件620；

反光片700。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，若干的含义是一个或者多个，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。

本发明的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本发明中的具体含义。

参照图1，作为示例的，为本发明的遮蔽装置的实施例所针对的工件1，其上具有需要局部产生色彩变化的第一局部表面11(阴影区域)。

参照图2至图5的遮蔽装置，用于局部遮蔽工件1，其包括：底座100和遮蔽件200。底座100设置有工件安置位110。遮蔽件200可拆卸地安装于底座100，遮蔽件200与底座100围合形成遮蔽腔300，遮蔽件200设置有匹配部220，匹配部220与底座100围合形成与工件1形状适配的工件让位口400，工件让位口400与遮蔽腔300连通。

在附图所示实施例中，遮蔽件200设置有两个并分别设置于底座100的两侧，从而可以局部遮蔽工件1的两侧。当然，可以想象的是，遮蔽件200设置的数量也可是一个或者大于两个，具体可根据工件1实际需要遮蔽的区域大小及数量来设置。

参照图6和图7，遮蔽装置使用时，将工件1安置于底座100的工件安置位110，安装遮蔽件200，使得工件1局部容置于遮蔽腔300中，工件1未被遮蔽的部分通过工件让位口400从遮蔽腔300中伸出，由于工件让位口400与工件1的形状适配，因而光线不会进入遮蔽腔300，保证了局部遮蔽的效果。完成遮蔽件200的安装后，通过光源2照射工件1未被遮蔽的表面，使其在光照下变色，从而完成曝光显影的工艺。此后，可通过拆卸遮蔽件200来取下工件1。由于遮蔽件200的可拆卸设置，遮蔽装置可以反复使用，从而降低成本。

参照2至图3，底座100和遮蔽件200对应设置有定位凸部510和定位凹部520，定位凸部510和定位凹部520形状适配并相互插接配合，从而底座100和遮蔽件200安装后的相对位置较为准确，生产精度较高。

为了准确地在工件安置位110安置工件1，底座100设置有用于定位工件1的工件定位结构120。具体的，工件定位结构120包括凸台部，凸台部与工件1上的凹入部适配，从而可以定位工件1。可以想象的是，工件定位结构120不限于上述的实施方式，例如工件定位结构120可以是与工件1形状匹配的凹槽结构，也能实现对工件1的定位。可以理解的是，工件定位结构120具体的设置可根据工件1的形状结构特点以及实际情况进行配置，而不限于上述的实施方式。

参照2至图3，底座100和遮蔽件200分别设置有能相互磁性吸引的第一磁吸件610和第二磁吸件620，底座100和遮蔽件200通过第一磁吸件610和第二磁吸件620形成磁吸配合。采用底座100和遮蔽件200之间采用磁吸配合，装拆方便。

具体的，第一磁吸件610和第二磁吸件620中的之一配置为永磁铁，另一配置为锁附于遮蔽件200或底座100的铁质螺钉，永磁铁与铁质螺钉的螺帽磁吸配合。上述的结构简单，易于实施。

参照图8，遮蔽件200包括主体部210，匹配部220和主体部210为分体制造结构，匹配部220安装连接于主体部210。采用上述的结构，可以通过分别制造主体部210和匹配部220然后组合起来而形成遮蔽件200，主体部210可采用规格统一的结构，而匹配部220可以根据具体工件1的形状进行生产，从而可以以较低成本生产制造针对不同形状的工件1的遮蔽装置。

可以想象的是，匹配部220可以可拆卸地安装于主体部210，可拆卸的安装结构例如是磁吸连接、卡扣连接等等。匹配部220采用可拆卸的安装设置，可以根据工件1来更换匹配部220，使用灵活性更强。当然，匹配部220也可采用固定设置的方式，不拆卸使用。

在一些实施例中，作为可选的，匹配部220也可以活动连接于主体部210并配置有工作位置和让位位置；在工作位置，匹配部220处于能与底座100围合形成工件让位口400的位置；在让位位置，匹配部220偏离工作位置。在使用时，工件1安置于工件安置位110后，先使得匹配部220相对主体部210处于让位位置，然后再将遮蔽件200安装于底座100。遮蔽件200安装到位后，再操作匹配部220使其进入工作位置，从而完成对工件1的局部遮蔽。由于匹配部220可以在遮蔽件200安装到位后再调整至工作位置，从而减少因遮蔽件200安装的误差导致匹配部220碰损工件1的概率。匹配部220具体可以通过滑动连接或枢接的方式与主体部210连接。进一步的，滑动连接或枢接可以采用紧配的配合(摩擦阻尼较大)，以方便匹配部220保持在工作位置和让位位置。

具体的，匹配部220配置为板片结构，成本较低。具体可以通过切割的方式在板片结构上切割获得与工件1的形状适配的结构，生产制造方便。

在一些实施例中，为了减少间隙，可以在工件让位口400的周缘设置弹性部，利用弹性部弹性顶压在工件1上，从而减少间隙。

参照图9，在一些需求下，工件1位于其底侧的第二局部表面12也需要进行曝光以获得上色。对此，参照图10和图11，可以在底座100与工件1的底面所相对的底侧相对面130上设置反光片700，从而能将一侧的光源的光线反射到工件1的底侧，实现曝光上色。采用上述的结构，结构简单，曝光装置无需翻面即可实现底侧位置的曝光，方便进行生产。

参照图10，底座100包括主座体101和定位座102，主座体101和定位座102采用分体制造结构，定位座102安装于主座体101，定位座102设置有工件定位结构120。通过将底座100拆分成主座体101和定位座102，具有工件定位结构120的定位座102可单独制造，从而降低整体制造的难度。为了提升遮蔽装置的组装便捷性，定位座102可以可拆卸地安装于主座体101，可拆卸的安装结构例如是磁吸连接、卡扣连接等等，从而方便实际使用时与工件1组合使用。

在实施例中，底座100设置有与工件1形状适配的第一适配面140，匹配部220设置有与工件1形状适配的第二适配面221，从而可以通过第一适配面140和第二适配面221围合形成与工件1形状适配的工件让位口400。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

上面结合附图对本发明实施例作了详细说明，但是本发明不限于上述实施例，在所述技术领域普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本发明宗旨的前提下作出各种变化。

Claims (6)

1.一种遮蔽装置，用于在曝光显影工艺中局部遮蔽工件(1)，其特征在于，包括：

底座(100)，设置有工件安置位(110)；

遮蔽件(200)，可拆卸地安装于所述底座(100)，所述遮蔽件(200)与所述底座(100)围合形成遮蔽腔(300)，所述遮蔽件(200)设置有匹配部(220)，所述匹配部(220)与所述底座(100)围合形成与所述工件(1)形状适配的工件让位口(400)，所述工件让位口(400)与所述遮蔽腔(300)连通；所述遮蔽件(200)设置有两个并分别设置于所述底座(100)的两侧；所述遮蔽件(200)包括主体部(210)，所述匹配部(220)和所述主体部(210)为分体制造结构，所述匹配部(220)安装连接于所述主体部(210)；

其中，所述底座(100)与所述工件(1)的底面所相对的底侧相对面(130)上设置反光片(700)，所述反光片(700)能将光线反射到所述工件(1)的底侧；所述底座(100)设置有与所述工件(1)形状适配的第一适配面(140)，所述匹配部(220)设置有与所述工件(1)形状适配的第二适配面(221)，所述第一适配面(140)和所述第二适配面(221)围合形成与所述工件(1)形状适配的所述工件让位口(400)；所述底座(100)包括主座体(101)和定位座(102)，所述主座体(101)和所述定位座(102)采用分体制造结构，所述定位座(102)安装于所述主座体(101)，所述定位座(102)设置有工件定位结构(120)；将所述底座(100)拆分成所述主座体(101)和所述定位座(102)，具有所述工件定位结构(120)的所述定位座(102)单独制造。

2.根据权利要求1所述的遮蔽装置，其特征在于：所述底座(100)和所述遮蔽件(200)对应设置有定位凸部(510)和定位凹部(520)，所述定位凸部(510)和所述定位凹部(520)形状适配并相互插接配合。

3.根据权利要求1所述的遮蔽装置，其特征在于：所述底座(100)设置有用于定位所述工件(1)的工件定位结构(120)。

4.根据权利要求1所述的遮蔽装置，其特征在于：所述底座(100)和所述遮蔽件(200)分别设置有能相互磁性吸引的第一磁吸件(610)和第二磁吸件(620)，所述底座(100)和所述遮蔽件(200)通过所述第一磁吸件(610)和所述第二磁吸件(620)形成磁吸配合。

5.根据权利要求4所述的遮蔽装置，其特征在于：所述第一磁吸件(610)和所述第二磁吸件(620)中的之一配置为永磁铁，另一配置为锁附于所述遮蔽件(200)或所述底座(100)的铁质螺钉，所述永磁铁与所述铁质螺钉的螺帽磁吸配合。

6.根据权利要求1所述的遮蔽装置，其特征在于：所述匹配部(220)配置为板片结构。