TWM471608U - 具有活動式遮蔽板的曝光機 - Google Patents
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Description
本新型係涉及一種曝光機，尤其是一種具有活動式遮蔽板的曝光機。
現有的軟性印刷電路板(Flexible Printed Circuit, FPC，簡稱軟板)於製作過程中，係利用曝光顯影蝕刻的方式於電路板上形成電路，當曝光機的有效曝光範圍大於製品所需的曝光範圍，因此在進行曝光之前，為了避免曝光機在製品上重覆曝光，需在活動框的非製品曝光區貼上遮光膠帶，然而，在貼覆遮光膠帶時，容易因人為遮光膠帶貼覆不良而造成偏移漏光，或製程中遮光膠帶刮傷造成漏光，導致製品品質受到影響，實有改善之必要。
為了解決現有FPC製品表面黏貼遮光膠帶避免重覆曝光的作法容易產生偏移漏光，而導致製品不良的問題，本新型的主要目的在於提供一種具有活動式遮蔽板的曝光機，其係於曝光機之活動框上方設置有可活動調整的遮蔽板，藉由改變遮蔽板的位置調整製品的曝光範圍，而無需貼覆遮光膠帶。
本新型所運用的技術手段係在於提供一種具有活動式遮蔽板的曝光機，包括有一曝光機本體及兩遮蔽板； 該曝光機本體包括有一製品平台及一相對於該製品平台垂直升降之活動框，該活動框的中央空間界定出一曝光範圍； 該兩遮蔽板係分別結合於該活動框的兩側上方，該兩遮蔽板可於該活動框上方平行滑移，並遮蓋於該活動框之曝光範圍。
前述具有活動式遮蔽板的曝光機，其中該兩遮蔽板係呈T形板體，且包括有兩抵靠端及一活動端，該兩抵靠端及該活動端分別抵靠於該活動框的上方。
前述具有活動式遮蔽板的曝光機，其中該兩遮蔽板之活動端係分別開設有一呈長條狀的滑動孔，並於該滑動孔穿設有一調整螺栓，且該調整螺栓係鎖合於該活動框。
本新型利用所提供的具有活動式遮蔽板的曝光機，可以獲得的功效增進在於本新型在曝光機之活動框的兩側分別設置有可滑動調整的遮蔽板，藉由改變遮蔽板的位置，能夠調整製品的曝光範圍，具有快速調整曝光範圍的優點，如此一來，也可以不用在製品的表面黏貼遮光膠帶，也不會因為人為因素而造成偏移漏光或殘膠的問題，同時也能夠改善生產品質。
為了能夠詳細瞭解本新型的技術特徵及實用功效，並可依照說明書的內容來實施，更進一步以如圖式所示的較佳實施例，詳細說明如后：
本新型係一種具有活動式遮蔽板的曝光機，請參閱圖1至圖4的較佳實施例，其係包括有一曝光機本體10及兩遮蔽板20。
如圖1及圖2所示，該曝光機本體10係包括有一製品平台11、四個圍繞設置於該製品平台11角落之導桿12及一設置於各導桿12且可垂直升降之活動框13，以圖2的左、右方向為基準定義為該製品平台11的一進料方向A，該製品平台11係可供一製品放置，並可由該進料方向A進行送料，該活動框13係為矩形框體，並於該活動框13的中央空間界定出一曝光範圍R，對應該活動框13之該曝光範圍R的底部設置有一玻璃131，並於該玻璃131的底部設有一底片132。
該兩遮蔽板20係分別結合於該活動框13的兩側上方，可於該活動框上方平行滑移，並平行於該進料方向A左右滑動，該兩遮蔽板20係呈T形板體，且包括有兩抵靠端21及一活動端22，該兩抵靠端21分別垂直於該進料方向A並分別位於該活動框13的上方，該活動端22係抵靠於該活動框13並位於該兩兩相對的導桿12之間，該活動端22係開設有一平行於該進料方向A且呈長條狀的滑動孔221，並於該滑動孔221穿設有一調整螺栓222，且該調整螺栓222係鎖合於該活動框13。
本新型較佳實施例的使用方式如圖3及圖4所示，該曝光機本體10之活動框13係能夠沿著各導桿12垂直升降調整，使該活動框13更接近製品平台11，以產生不同的曝光效果，並使該兩遮蔽板20平行該進料方向A進行左、右調整至適當位置後，再以該調整螺栓222鎖合固定，使該曝光機本體10之曝光範圍R的左、右寬度改變，以達到快速調整曝光位置的目的，如此一來，也可以不用在製品的表面黏貼遮光膠帶，也不會因為人為因素而造成偏移漏光或殘膠的問題，同時也能夠改善生產品質。
以上所述，僅是本新型的較佳實施例，並非對本新型作任何形式上的限制，任何所屬技術領域中具有通常知識者，若在不脫離本新型所提技術特徵的範圍內，利用本新型所揭示技術內容所作出局部更動或修飾的等效實施例，均仍屬於本新型技術特徵的範圍內。
10‧‧‧曝光機本體
11‧‧‧製品平台
12‧‧‧導桿
13‧‧‧活動框
131‧‧‧玻璃
132‧‧‧底片
20‧‧‧遮蔽板
21‧‧‧抵靠端
22‧‧‧活動端
221‧‧‧滑動孔
222‧‧‧調整螺栓
A‧‧‧進料方向
R‧‧‧曝光範圍
11‧‧‧製品平台
12‧‧‧導桿
13‧‧‧活動框
131‧‧‧玻璃
132‧‧‧底片
20‧‧‧遮蔽板
21‧‧‧抵靠端
22‧‧‧活動端
221‧‧‧滑動孔
222‧‧‧調整螺栓
A‧‧‧進料方向
R‧‧‧曝光範圍
圖1係本新型的較佳實施例的外觀示意圖。圖2係本新型的較佳實施例的俯視示意圖。圖3係本新型的較佳實施例活動框的升降動作圖。圖4係本新型的較佳實施例遮蔽板調整的俯視動作圖。
10‧‧‧曝光機本體
11‧‧‧製品平台
12‧‧‧導桿
13‧‧‧活動框
131‧‧‧玻璃
132‧‧‧底片
20‧‧‧遮蔽板
A‧‧‧進料方向
R‧‧‧曝光範圍
Claims (3)
- 一種具有活動式遮蔽板的曝光機，包括： 一曝光機本體，包括有一製品平台及一相對於該製品平台垂直升降之活動框，該活動框的中央空間界定出一曝光範圍； 兩遮蔽板，其係分別結合於該活動框的兩側上方，該兩遮蔽板可於該活動框上方平行滑移，並遮蓋於該活動框之曝光範圍。
- 如請求項1所述具有活動式遮蔽板的曝光機，其中該兩遮蔽板係呈T形板體，且包括有兩抵靠端及一活動端，該兩抵靠端及該活動端分別抵靠於該活動框的上方。
- 如請求項2所述具有活動式遮蔽板的曝光機，其中該兩遮蔽板之活動端係分別開設有一呈長條狀的滑動孔，並於該滑動孔穿設有一調整螺栓，且該調整螺栓係鎖合於該活動框。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW102219418U TWM471608U (zh) | 2013-10-18 | 2013-10-18 | 具有活動式遮蔽板的曝光機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW102219418U TWM471608U (zh) | 2013-10-18 | 2013-10-18 | 具有活動式遮蔽板的曝光機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWM471608U true TWM471608U (zh) | 2014-02-01 |
Family
ID=50551147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW102219418U TWM471608U (zh) | 2013-10-18 | 2013-10-18 | 具有活動式遮蔽板的曝光機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TWM471608U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114114854A (zh) * | 2021-11-30 | 2022-03-01 | 中山市三美高新材料技术有限公司 | 遮蔽装置 |
-
2013
- 2013-10-18 TW TW102219418U patent/TWM471608U/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114114854A (zh) * | 2021-11-30 | 2022-03-01 | 中山市三美高新材料技术有限公司 | 遮蔽装置 |
| CN114114854B (zh) * | 2021-11-30 | 2024-03-19 | 中山市三美高新材料技术有限公司 | 遮蔽装置 |
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