CN202794839U - 用于掩膜板的防尘保护装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型揭露了一种用于掩膜板的防尘保护装置，所述掩膜板具有图案区域，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜以及用于固定所述保护薄膜的框架，所述保护薄膜和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框，其中至少一个边框开设有至少一个凹槽。使用本实用新型所提供的防尘保护装置，其框架结构更易吸收所述保护薄膜产生的张力，从而能减小或消除掩膜板的形变，提升产品良率。
Description
技术领域
本实用新型涉及集成电路制造领域，尤其涉及一种用于掩膜板的防尘保护装置。
背景技术
在半导体集成电路制造工艺中，光刻工艺是其中最为重要的步骤之一。光刻工艺的过程是经曝光系统将预制在掩模板上的器件或电路图形按所要求的位置，精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光刻胶层上。经过显影工艺去除或保留曝光图案部位的光刻胶，以达到将预制在掩模板上的器件或电路图形在晶片表面或介质层上精确成型的目的。光刻工艺的好坏将直接影响半导体器件的特征尺寸和产品品质，其中，掩膜板是光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜板上的任何缺陷都会对最终图形精度产生严重的影响。
如图1所示，图1为现有的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面结构示意图，所述掩膜板115具有图案区域，用于掩膜板115的防尘保护装置包括：框架113和保护薄膜111，所述保护薄膜111被紧绷在所述框架113上，所述保护薄膜111需光学透明且结实，通常采用硝化纤维或者醋酸纤维素制成。所述框架113环绕掩膜板边沿，所述保护薄膜111和所述框架113限定的空间覆盖所述图案区域，以将所述图案区域密封，保护掩膜板115上的图案区域不受尘粒或其它形式的污染，并且沾在保护薄膜111上的污染物与图案区域表面保持足够远的距离，在成像时，污染物的像平面不落在晶片表面上，减小污染物对生产的影响。
然而，在实际生产中发现，由于保护薄膜111被紧绷在所述框架113上，在保护薄膜面上有张力的存在，对框架113产生作用力，并传递到掩膜板115上，掩膜板115会因此产生微小形变，导致图案区域偏离预定的位置，最终影响复制到晶片上的图案的效果。
实用新型内容
本实用新型提供一种用于掩膜板的防尘保护装置，以解决保护薄膜产生的张力使掩膜板产生形变影响影响复制到晶片上的图案的效果的问题。
为解决上述问题，本实用新型提供一种用于掩膜板的防尘保护装置，所述掩膜板具有图案区域，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜以及用于固定所述保护薄膜的框架，所述保护薄膜和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框，其中至少一个边框开设有至少一个凹槽。
可选的，所述边框沿其长度方向开设有一个凹槽。
可选的，所述凹槽位于所述边框靠近所述图案区域的侧面上或远离所述图案区域的侧面上。
可选的，所述边框沿其长度方向开设有多个凹槽。
可选的，所述凹槽数目为两个。
可选的，所述两个凹槽分别对称的位于所述边框靠近所述图案区域的侧面上和远离所述图案区域的侧面上。
可选的，所述凹槽分别位于所述边框靠近所述图案区域的侧面上和所述远离图案区域的侧面上，其中一个凹槽在另一凹槽上方。
可选的，所述凹槽形状为长方体。
可选的，所述凹槽形状为半圆柱体。
可选的，其特征在于，所述边框的材质为金属、合金、高分子材料复合物中的任意一种。
可选的，所述边框的材质为铝合金。
与现有技术相比，本实用新型提供的用于掩膜板的防尘保护装置，由于其中至少一个边框开设有至少一个凹槽。该边框易产生形变吸收部分保护薄膜的张力，使掩膜板受到的张力变小，从而减小或消除掩膜板的形变，提高曝光效果。
附图说明
图1为现有的用于掩膜板的防尘保护装置剖面结构示意图；
图2为本实用新型实施例一的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图；
图3为本实用新型实施例二的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图；
图4为本实用新型实施例三的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图。
具体实施方式
本实用新型的核心思想在于，提供一种用于掩膜板的防尘保护装置，所述掩膜板具有图案区域，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜以及用于固定所述保护薄膜的框架，所述保护薄膜和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框，其中至少一个边框开设有至少一个凹槽。由于这样的框架结构易产生形变，能够吸收所述保护薄膜产生的张力，从而能减小或消除掩膜板的形变，防止掩膜板形变对复制到晶片上的图案的效果产生影响。
以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的用于掩膜板的防尘保护装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
实施例一
参考附图2，图2为本实施例的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图，所述掩膜板215具有图案区域（未图示），所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜211以及用于固定所述保护薄膜211的框架，所述保护薄膜211和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框213，其中至少一个边框213开设有至少一个凹槽216。本实施例中，凹槽216选择开在边框213远离图案区域的侧面上，凹槽216形状优选为半圆柱体。本实用新型并不限定凹槽216的位置和形状，也可选择将凹槽216开在边框213靠近图案区域的侧面上，凹槽216形状选择为长方体或其他形状。此种边框结构易产生形变，从而吸收部分保护薄膜211的张力，能减小张力对所述掩膜板215的影响。
所述边框213与所述掩膜板215由粘合剂粘合连接，所述保护薄膜211与所述边框213也由粘合剂粘合连接。
所述边框213材质可为金属、合金、高分子材料复合物中的任意一种。优选为铝合金材质，其质轻，有足够的强度，并且弹性好。所述边框213高度H为5mm~6.5mm，以满足在曝光机台以及检测机台内高度需求。
实施例二
参考附图3，图3为本实施例的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜411以及用于固定所述保护薄膜411的框架，所述保护薄膜411和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框413，其中至少一个边框413在其长度方向上开有多个凹槽。
本实施例中凹槽数目选为两个，分别为第一凹槽417和第二凹槽416，第一凹槽417位于边框413靠近图案区域的侧面上，第二凹槽416位于边框413远离图案区域的侧面上，第一凹槽417与第二凹槽416对称分布。相比实施例一，本实施例的框架形状形变性能更佳，因此能吸收更多保护薄膜的张力，从而能进一步减小张力对所述掩膜板的影响。
实施例三
参考附图4，图4为本实施例的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜311以及用于固定所述保护薄膜311的框架，所述保护薄膜311和所述框架限定的空间覆盖掩模版315的图案区域，所述框架包括多个首尾相连的边框313，其中至少一个边框313在其长度方向开有多个凹槽。本实施例中凹槽数目选为两个，分别为第一凹槽317和第二凹槽316，第一凹槽317位于边框313靠近图案区域的侧面上，第二凹槽316位于边框313远离图案区域的侧面上，第二凹槽316在第一凹槽317的上方。其中边框313可以由两层凹槽开口不同向的结构粘合而成，也可是一体成型的。相比于实施例二，本实施例边框有着更好的形变性能，能吸收更多保护薄膜的张力。
综上所述，本实用新型提供了一种用于掩膜板的防尘保护装置，该防尘保护装置的边框在开有至少一个凹槽。因而有更好的柔韧性，易产生形变吸收部分保护薄膜的张力，使掩膜板受到的张力变小，减小或消除掩膜板的形变对复制到晶片上的图案的效果的影响，达到提升曝光效果提升产品良率的目的。
显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (11)
1.一种用于掩膜板的防尘保护装置，所述掩膜板具有图案区域，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜以及用于固定所述保护薄膜的框架，所述保护薄膜和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，其特征在于，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框，其中至少一个边框开设有至少一个凹槽。
2.如权利要求1所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述边框沿其长度方向开设有一个凹槽。
3.如权利要求2所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述凹槽位于所述边框靠近所述图案区域的侧面上或远离所述图案区域的侧面上。
4.如权利要求1所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述边框沿其长度方向开设有多个凹槽。
5.如权利要求4所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述凹槽数目为两个。
6.如权利要求5所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述两个凹槽分别对称的位于所述边框靠近所述图案区域的侧面上和远离所述图案区域的侧面上。
7.如权利要求5所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述凹槽分别位于所述边框靠近所述图案区域的侧面上和所述远离图案区域的侧面上，其中一个凹槽在另一凹槽上方。
8.如权利要求1至7中任一项所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述凹槽形状为长方体。
9.如权利要求1至7中任一项所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述凹槽形状为半圆柱体。
10.如权利要求1至7中任一项所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述边框的材质为金属、合金、高分子材料复合物中的任意一种。
11.如权利要求10所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述边框的材质为铝合金。
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| CN109313385A (zh) * | 2016-06-28 | 2019-02-05 | 三井化学株式会社 | 防护膜、防护膜组件框体、防护膜组件及其制造方法 |
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