CN101403863A - 两面曝光装置 - Google Patents

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CN101403863A CNA2008101680242A CN200810168024A CN101403863A CN 101403863 A CN101403863 A CN 101403863A CN A2008101680242 A CNA2008101680242 A CN A2008101680242A CN 200810168024 A CN200810168024 A CN 200810168024A CN 101403863 A CN101403863 A CN 101403863A
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
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Abstract

本发明提供一种两面曝光装置，其不用进行麻烦的调整和控制就能够使基板的表面和背面在相同的曝光条件下曝光。从光源灯(10)发出的光在通过椭圆镜(11)会聚、并通过反射镜(12)折回之后，在复眼透镜(13)部分聚焦，并通过分光镜(20)分成反射光和透射光，通过光源光闸(21)控制光量，进而由准直镜(3)反射而成为平行光，并透过光掩模(51)、光掩模(52)照射到基板(50)的表面侧和背面侧。

Description

两面曝光装置
技术领域
本发明涉及一种使印刷布线基板的两面曝光的两面曝光装置。
背景技术
在使印刷布线基板的表面和背面同时曝光的平行光两面同时曝光装置中，以往为了使表面和背面分别曝光，而设置了表面用和背面用的两盏灯作为光源。
但是，在现有的装置中，由于有两台光源装置，所以有时要根据各个装置和灯的个体差异来改变表面和背面的曝光条件，存在用于在表面和背面进行相同曝光的调整和控制困难、非常麻烦的问题。
此外，由于要对1台曝光装置安装2台光源装置，因此存在成本高、装置大型化的问题。
发明内容
本发明的目的在于解决上述现有技术存在的问题。
为了达到上述目的，本发明的两面曝光装置的特征在于，其包括：一个光源；分光体，其将上述光源的光的一半反射，使另一半透射；第一准直镜，其使上述分光体所反射的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；第二准直镜，其使透过了上述分光体的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；第一光源光闸，其设置在上述分光体与第一准直镜之间，用于调节来自分光体的光量；以及第二光源光闸，其设置在上述分光体与第二准直镜之间，用于调节来自分光体的光量。
在以上的结构中，采用单一的光源，利用使从该光源入射的光的一半反射、并使另一半透射的分光体来将光分成两个光束，由此，能够实现两面同时曝光。
根据本发明的两面曝光装置，由于光源单一，所以易于维修保管。此外缩短了更换作业时间，不存在因灯的个体差异等而导致的表面和背面的曝光条件的变化等。此外，具有装置小型化、设置空间小而好、可使维护空间等增大的效果。而且还具有能够实现装置结构的简化、装置成本和运行成本的降低等的效果。
附图说明
图1是表示本发明的一个实施方式的示意图。
标号说明
1：光源部；2：分光单元；3：准直镜；10：光源灯；11：椭圆镜；12：反射镜；13：复眼透镜；20：分光镜；21、21：光源光闸；50：基板；51：光掩模；52：光掩模。
具体实施方式
以下根据附图说明本发明的实施方式。
在图1中构成为，作为曝光对象的基板50载置于光掩模52上，在位于基板50上方的光掩模51和光掩模52上所描绘的图案被曝光在基板50的表面和背面上。
该两面曝光装置的光源装置包括：单一的光源部1；分光单元2；以及分别设置在基板50的表面侧和背面侧的准直镜3、3。
光源部1具有光源灯10、椭圆镜11、反射镜12以及复眼透镜13，其构成为：从光源灯10发出的光在通过椭圆镜11会聚、并通过反射镜12折回之后，在复眼透镜(fly eye lens)13部分聚焦。
分光单元2具有分光镜20和光源光闸21、21，从复眼透镜13射出的光由分光镜20分成反射光和透射光，从而分别成为基板50的表面和背面的曝光用的光。
分光单元2构成为：在分光镜20的两侧分别设置有光源光闸21、21，通过这些光源光闸21来控制光量。
虽然分光镜20有多种，例如一般有在玻璃上形成了SiO2(二氧化硅)和Ta2O5(五氧化二钽)等多层膜的分光镜，或者呈方格状地蒸镀有铝的分光镜等，但是这些结构都可以采用。
准直镜3(collimation mirror)分别配设在基板50的表面侧和背面侧两侧。在分光镜20反射的光通过基板50的表面侧(上侧)的准直镜3反射而成为平行光，并透过光掩模51照射在基板50的表面侧上。
另一方面，透过了分光镜20的光通过基板50的背面侧(下侧)的准直镜3反射而同样成为平行光，并透过光掩模52照射在基板50的背面侧上。
另外构成为在准直镜3、3上设置有累积光量计(未图示)，根据该累积光量计的光量测量来进行光源光闸21、21的控制，从而进行光量的调节。
通过以上的结构，单一的光源部1的曝光光在分光镜20处分开，并通过准直镜3、3在基板50的表面和背面曝光，所以能够通过单一的光源部1进行两面曝光。
因此，不存在光源部1或光源灯10的个体差异，不用进行麻烦的调整和控制就能够使基板50的表面和背面的曝光条件相同。另外，能够实现成本的降低和装置的小型化。

Claims (1)

1.一种两面曝光装置，其特征在于，该两面曝光装置包括：
一个光源；
分光体，其将上述光源的光的一半反射，使另一半透射；
第一准直镜，其使上述分光体所反射的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；
第二准直镜，其使透过了上述分光体的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；
第一光源光闸，其设置在上述分光体与第一准直镜之间，用于调节来自分光体的光量；以及
第二光源光闸，其设置在上述分光体与第二准直镜之间，用于调节来自分光体的光量。
CNA2008101680242A 2007-10-04 2008-09-25 两面曝光装置 Pending CN101403863A (zh)

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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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