KR20090034724A - 양면 노광장치 - Google Patents

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KR20090034724A
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마사토시 아사미
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가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
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Abstract

본 발명은 귀찮은 조정이나 제어를 하지 않고, 동일한 노광 조건으로 기판의 표면과 이면을 노광시킬 수 있는 양면 노광장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 광원 램프(10)에서 나온 빛은 타원 밀러(11)에 의해 집광되고, 반사 밀러(12)에 의해 굴절되어 진 후, 플라이아이 렌즈(13) 부분에서 촛점을 형성하고, 분광 밀러(20)에 의해 반사광과 투과광으로 분광되어 광원 셔터(21)에 의해 광량의 제어를 받고 콜리메이션 밀러(3)에서 반사하여 평행광을 이루며 포토 마스크(51), 포토 마스크(52)를 투과하여 기판(50)의 표면과 이면을 조사하게 된다.
노광장치, 양면 노광, 분광, 반사광, 투과광.

Description

양면 노광장치{Both side exposing device}
본 발명은 프린트 배선 기판의 양면을 노광시키는 양면 노광장치에 관한 것이다.
프린트 배선 기판의 표면과 이면을 동시에 노광시키는 평행광 양면 동시 노광장치에 있어서는 종래에는 표면과 이면 각각을 노광시키기 위해 광원을 표면용과 이면용의 두 개의 등을 설치하였다.
그러나, 종래의 장치로는 광원장치가 두 개 이기 때문에 각각의 장치나 램프의 개체별 차이 때문에 표면과 이면의 노광조건이 달라지는 경우가 있어, 표면과 이면에서 동일의 노광을 이루기 위해서는 조정이나 제어가 어려워지고, 많은 수고와 시간이 걸리는 문제점이 있다.
또한, 한 대의 노광장치에 대해서 광원장치를 두 대분 탑재하여야 하므로 비용이 높아지고, 게다가 장치가 대형화되는 문제점이 있었다.
본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해결함을 그 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명의 양면 노광장치는 하나의 광원과 이 광원의 빛의 절반을 반사시키고 다른 절반을 투과시키는 분광체와 이 분광체가 반사한 빛을 노광 대상인 프린트 배선기판의 1면 측에 조사시키는 제1의 콜리메이션 밀러(collimation mirror)와 이 분광체를 투과한 빛을 노광 대상인 프린트 배선 기판의 일면 측에 조사시키는 제2의 콜리메이션 밀러와, 상기 분광체와 제1의 콜리메이션 밀러와의 사이에 설치된 분광체의 광량을 조절하는 제1의 광원 셔터와, 상기 분광체와 제2의 콜리메이션 밀러와의 사이에 설치된 분광체의 광량을 조절하는 제2의 광원셔터를 갖는 것을 특징으로 한다.
이상의 구성에 있어서는 단일의 광원을 사용하고, 이 광원에서 입사된 빛의 절반을 반사시키고, 다른 절반을 투과시키는 분광체에 의해서 두 개의 광속으로 분광시켜 양면의 동시 노광이 실현된다.
상기와 같이 구성되는 본 발명의 양면 노광장치에 따르면, 광원이 하나이기 때문에 보수 관리가 용이하고, 또한 교환작업시간이 단축되고, 램프 개체의 차등에 의한 표면과 이면의 노광 조건 변화가 없어지게 된다. 또한 장치의 소형화를 실현할 수 있게 되고, 설치 면적을 적게 할 수 있으며, 유지 보수 면적을 크게 할 수 있는 효과가 있다. 더욱이, 장치의 구조 간소화, 장치의 코스트(cost)나 러닝(running) 코스트 등을 저감시킬 수 있는 효과가 있다.
이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 근거하여 설명한다.
도 1에 있어서, 노광대상인 기판(50)은 포토 마스크(52) 위에 재치되고, 기판(50)의 위에 위치해 있는 포토 마스크(51)와 포토 마스크(52)에 그려진 패턴이 기판(50)의 표면과 이면을 노광시키는 구성으로 되어 있다.
이 양면 노광장치의 광원장치는 하나의 광원부(1)와 분광 유니트(2) 및 기판(50)의 표면 측과 이면 측 각각에 설치된 콜리메이션 밀러(3, 3)가 있다.
광원부(1)는 광원 램프(10)와 타원 밀러(11) 및 반사 밀러(12), 그리고 플라이아이 렌즈(13)를 가지며, 광원 램프(10)에서 나온 빛은 타원 밀러(11)에 의해 집 광되고, 반사 밀러(12)에 의해 굴절되어 진 후, 플라이아이 렌즈(13) 부분에서 촛점을 형성하도록 구성되어 있다.
분광 유니트(2)는 분광 밀러(20)와 광원 셔터(21, 21)를 가지고 있으며, 플라이아이 렌즈(13)에서 나온 빛이 분광 밀러(20)에 의해 반사광과 투과광으로 분광되고, 각각 기판(50)의 표면 및 이면의 노광용 광이 되게 되어 있다.
분광 밀러(20)의 양측에는 각각 광원 셔터(21, 21)가 설치되어 있으며, 이 광원 셔터(21)에 의해 광량을 제어하도록 구성되어 있다.
분광 밀러(20)에는 여러 종류의 것이 있다. 예를 들면, 유리에 이산화규소(SiO2) 또는 오산화탄탈륨(Ta2O2) 등의 다층막을 형성하는 것이나, 또는 바둑무늬 모양으로 알루미늄 증착을 한 것 등이 일반적이며, 이들의 구성도 채용할 수 있다.
콜리메이션 밀러(3)는 기판(50)의 표면 측과 이면 측의 양쪽 방향에 각각 배설되어 있다. 분광 밀러(20)에 반사된 빛은 기판(50)의 표면 측(상측)의 콜리메이션 밀러(3)에 반사되어 평행광을 이루게 되고, 포토 마스크(51)를 투과하여 기판(50)의 표면 측 위를 조사한다.
한편, 분광 밀러(20)를 투과한 빛은 기판(50)의 이면 측(하측)의 콜리메이션 밀러(3)에 반사되어, 평행광을 이루게 되고, 포토 마스크(52)를 투과하여 기판(50)의 이면 측 위를 조사한다.
그러나, 콜리메이션 밀러(3, 3)에는 적산광량계(도시 생략)가 설치되어 있고, 이 적산광량계의 광량 측정에 근거하여 광원 셔터(21, 21)의 제거가 이루어지 고, 광량의 조절이 이루어지도록 구성되어 있다.
이상의 구성에 의해서 단일의 광원부(1)의 노광 광은 분광 밀러(20)에서 분광되고, 콜리메이션 밀러(3, 3)에 의해서 기판(50)의 표면과 이면에 노광이 이루어지므로, 단일의 광원부(1)에 의한 양면 노광이 가능하게 된다.
따라서, 이 때문에 광원부(1)나 광원 램프(10)의 개체별 차이가 없어지고, 귀찮은 조정이나 제어를 하지 않고도 기판(50)의 표면과 이면의 노광 조건을 동일하게 할 수 있게 된다.
또한, 비용의 저감, 장치의 소형화 등을 실형할 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태를 나타낸 개략도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 광원부 2 : 분광 유니트
3 : 콜리메이션 밀러 10 : 광원 램프
11 : 타원 밀러 12 : 반사 밀러
13 : 플라이아이 렌즈 20 : 분광 밀러
21 : 광원 셔터 50 : 기판
51, 52 : 포토 마스크

Claims (1)

  1. 하나의 광원과,
    상기 광원의 빛의 절반을 반사시키고, 다른 절반을 투과시키는 분광체와 이 분광체가 반사한 빛을 노광 대상인 프린트 배선기판의 일면 측에 조사시키는 제1의 콜리메이션 밀러(collimation mirror)와,
    상기 분광체를 투과한 빛을 노광 대상인 프린트 배선 기판의 일면 측에 조사시키는 제2의 콜리메이션 밀러와,
    상기 분광체와 제1의 콜리메이션 밀러와의 사이에 설치되어, 분광체로부터의 광량을 조절하는 제1의 광원 셔터와,
    상기 분광체와 제2의 콜리메이션 밀러와의 사이에 설치되어, 분광체로부터의 광량을 조절하는 제2의 광원셔터를 구비하는 것을 특징으로 하는 양면 노광장치.
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CN102968000A (zh) * 2012-11-21 2013-03-13 京东方科技集团股份有限公司 一种双面制程方法及曝光装置
CN104423176A (zh) * 2013-08-30 2015-03-18 深南电路有限公司 光学系统及曝光机
CN104483813A (zh) * 2014-12-01 2015-04-01 东莞科视自动化科技有限公司 一种曝光机光源改造方法及uvled光源机构
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CN113141718B (zh) * 2021-04-21 2022-04-05 广东科视光学技术股份有限公司 一种在玻璃基板上通过单光刻头形成接驳线路的方法
CN114114854B (zh) * 2021-11-30 2024-03-19 中山市三美高新材料技术有限公司 遮蔽装置

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