KR20200106835A - 마스크 스테이지 및 포토리소그래피 시스템 - Google Patents

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KR20200106835A
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Abstract

본 출원은 포토리소그래피 기술 분야에 속하며, 마스크 스테이지 및 포토리소그래피 시스템을 개시하였으며, 여기서, 마스크 스테이지는: 지지 베이스; 지지 베이스의 상단면에 슬라이딩 연결되는 레티클 스테이지; 지지 베이스 상에 배치되고, 레티클 스테이지가 X 방향으로의 양측에 각각 배치되는 2 그룹의 Y방향 운동 기구; Y방향 운동 기구 상에 배치되고, 레티클 스테이지와 연결되는 X방향 운동 기구-여기서, Y방향 운동 기구는 X방향 운동 기구가 Y방향을 따라 운동하도록 구동하고, Y방향과 X방향은 수직됨-; 를 포함한다. 포토리소그래피 시스템은 상기 마스크 스테이지를 포함한다. 본 출원에서 개시한 마스크 스테이지 및 포토리소그래피 시스템은, 마스크 스테이지 및 포토리소그래피 시스템의 부피를 줄이고 마스크 스테이지 및 포토리소그래피 시스템의 비용을 감소할 수 있다.

Description

마스크 스테이지 및 포토리소그래피 시스템{MASK STAGE AND PHOTOLITHOGRAPHY SYSTEM}
본 출원은 포토리소그래피 기술분야에 관한 것으로, 예를 들면, 마스크 스테이지 기구 및 포토리소그래피 시스템에 관한 것이다.
포토리소그래피 시스템은 주로 집적회로IC 또는 다른 마이크로 소자의 제조에 사용되며, 포토리소그래피 장비를 통해, 상이한 마스크 패턴을 구비한 다층 마스크를, 정확한 조준하에 반도체 웨이퍼 또는 LCD 플레이트와 같이 포토레지스트(photoresist)로 도포된 실리콘 웨이퍼 또는 기판 상에 순차적으로 이미지를 형성할 수 있다. 포토리소그래피 시스템은 일반적으로 스탭 포토리소그래피 시스템(step photolithography system) 및 스탭 앤 스캔 포토리소그래피 시스템(step and scan photolithography system)으로 나뉘는데, 여기서, 스탭 앤 스캔 포토리소그래피 시스템은 투영 라이트 필드(light field)의 스캔 이동을 통해 이미지를 형성하며, 마스크 패턴이 이미징되는 과정에서, 마스크와 웨이퍼는 동시에 투영 시스템과 투영 빔(beam)에 대해 상대적으로 이동한다. 따라서, 스탭 앤 스캔 포토리소그래피 시스템은 대응되는 장치를 레티클(Reticle) 및 실리콘 웨이퍼의 캐리어로 사용하여, 레티클 및 실리콘 웨이퍼를 적재한 캐리어 사이의 상대적 정확한 운동을 통해 포토리소그래피의 요구를 만족시키며, 여기서, 레티클을 적재하기 위한 캐리어를 레티클 스테이지라 하고, 실리콘 웨이퍼/기판을 적재하기 위한 캐리어를 웨이퍼 적재 스테이지라 하며, 레티클 스테이지 및 웨이퍼 적재 스테이지는 각각 포토리소그래피 시스템의 마스크 스테이지 서브시스템 및 작업 스테이지 서브시스템에 위치하며, 각각의 서브시스템의 핵심 어셈블리이다.
포토리소그래피 시스템의 작동 과정에서, 레티클 스테이지의 고속 및 고정밀 운동 요구를 만족시키기 위해, 레티클 스테이지는 스캐닝 방향으로의 긴 스트로크(large stroke) 운동과 각 방향으로의 미세 조정 운동을 진행해야 하므로, 관련기술의 마스크 스테이지 시스템은 일반적으로 조동(coarse)-미동(fine) 적층 구동 구조를 사용한다. 도 1 은 관련 기술에서 제공하는 마스크 스테이지 시스템의 구조 개략도이고, 도 1에 도시된 바와 같이, 종래 기술이 제공하는 마스크 스테이지 시스템은 조동 스테이지(150)와 위에 겹쳐진 미동 스테이지(140)로 구성된다. 여기서, 조동 스테이지(150)는 좌 리니어 모터(130), 우 리니어 모터(120) 및 가이드 레일(160)을 사용하여 고속 및 긴 스트로크의 듀얼 구동 시스템을 구성하고; 미동 스테이지(140)는 X방향 보이스 코일 모터(voice coil motor)(170) 및 Y방향 보이스 코일 모터(180)에 의해 구동되며, 마스크 스테이지에 대해 실시간 고정밀 미세 조정을 진행하여, 운동 정밀도의 요구를 만족시킨다.
관련 기술이 제공하는 마스크 스테이지 시스템은, 마이크로 다이나믹(micro dynamic) 및 마이크로 운동 구동 장치가 모두 조동 스테이지 상에 구성되고, 조동 구동 장치에 의해 구동되므로, 한편으로는 조동 스테이지의 사이즈가 증가되어, 마스크 스테이지 전체 구조 사이즈가 증가되므로, 마스크 스테이지 시스템의 소형화 구성에 불리하고, 다른 한편으로는 조동 구동 장치의 구동 부담이 증가되면서, 비용이 증가하고 운동 정밀도가 감소된다.
본 출원의 목적은 마스크 스테이지의 사이즈를 줄이고, 마스크 스테이지의 작동 비용을 감소하는 마스크 스테이지를 제공하는데 있다.
본 출원의 다른 목적은 포토리소그래피 시스템의 부피를 줄이고, 포토리소그래피 비용을 감소하는 포토리소그래피 시스템을 제공하는데 있다.
상기 목적에 달성하기 위해 본 출원은 다음과 같은 기술방안을 사용하며,
본 출원의 마스크 스테이지는,
지지 베이스;
상기 지지 베이스의 상단면에 슬라이딩 연결되는 레티클 스테이지;
상기 지지 베이스 상에 배치되고, 상기 레티클 스테이지의 Y방향으로의 양측에 각각 배치되는 2 세트의 Y방향 운동 기구; 및
상기 Y방향 운동 기구 상에 배치되고, 상기 레티클 스테이지와 연결되는 X방향 운동 기구-여기서, 상기 Y방향 운동 기구는 상기 X방향 운동 기구가 Y방향을 따라 운동하도록 구동하며, 상기 Y방향과 상기 X방향은 수직됨-; 를 포함한다.
선택적으로, 상기 지지 베이스는 제1 장착면 및 제2 장착면을 구비하고, 상기 제1 장착면 및 상기 제2 장착면은 각각 X방향과 Y방향이 형성한 평면에 평행되며, 상기 제1 장착면은 상기 제2 장착면보다 높고, 상기 레티클 스테이지는 상기 제1 장착면 상에 배치되며, 상기 Y방향 운동 기구는 상기 제2 장착면 상에 배치된다.
선택적으로, 상기 X방향 운동 기구와 상기 Y방향 운동 기구는 회전 조정 어셈블리를 통해 연결된다.
선택적으로, 상기 회전 조정 어셈블리는 변환 베어링을 포함하며, 상기 X방향 운동 기구와 상기 Y방향 운동 기구 중의 하나가 상기 변환 베어링의 내부링과 연결되고, 다른 하나는 상기 변환 베어링의 외부링과 연결되며, 상기 변환 베어링의 축선은 상기 X방향 및 상기 Y방향과 각각 수직된다.
선택적으로, 상기 Y방향 운동 기구는,
리니어 모터를 포함하며, 상기 리니어 모터의 Y방향 고정자부는 상기 지지 베이스의 측면에 연결되고 상기 Y방향을 따라 배치되며, 상기 리니어 모터의 Y방향 운동자부는 상기 X방향 운동 기구와 연결된다.
선택적으로, 상기 Y방향 운동 기구는,
상기 Y방향에 따라 상기 제2 장착면 상에 배치되는 Y방향 가이드 레일;
상기 Y방향 가이드 레일과 슬라이딩 연결되는 Y방향 슬라이딩 블록-여기서, 상기 Y방향 슬라이딩 블록과 상기 Y방향 운동자부가 연결됨-; 을 더 포함한다.
선택적으로, 상기 Y방향 운동 기구는,
제1 연결판을 더 포함하며, 제1 연결판의 하단면과 상기 Y방향 슬라이딩 블록이 연결되고, 제1 연결판의 상단면과 상기 X방향 운동 기구가 연결된다.
선택적으로, 상기 Y방향 운동 기구는,
상기 Y방향 운동 기구가 상기 Y방향을 따라 운동하는 변위를 감지하기 위한 Y방향 변위 감지 장치; 및/또는
상기 제2 장착면 상에 배치되고, 상기 Y방향 운동 기구의 제한 변위를 한정하기 위한 Y방향 위치 한정 장치; 를 더 포함한다.
선택적으로, 상기 Y방향 변위 감지 장치는 제1 격자 룰러 어셈블리를 포함하며,
상기 제1 격자 룰러 어셈블리는,
상기 Y방향을 따라 상기 제2 장착면 상에 배치되는 제1 스케일(scale) 격자;
상기 제1 스케일 격자와 대향되게 배치되고, 상기 Y방향 운동자부와 연결되는 제1 격자 판독 헤드; 를 포함하며;
상기 Y방향 위치 한정 장치는 광 위치 한정 어셈블리 및/또는 위치 한정 버퍼 어셈블리를 포함하며,
상기 위치 한정 버퍼 어셈블리는 상기 Y방향 운동 기구의 2 개 제한 위치에 배치되는 유압 버퍼를 포함하며,
상기 광 위치 한정 어셈블리는,
상기 Y방향을 따라 이격되게 배치되며, 상기 X방향을 따라 대향되게 배치된 방사부 및 수신부를 각각 포함하는 2 개의 제1 광센서;
상기 Y방향 운동자부와 연결되고, 상기 방사부와 상기 수신부 사이에 삽입되어, 광선이 상기 방사부와 상기 수신부 사이에서 전달되는 것을 차단하는 차광판; 을 포함한다.
선택적으로, 상기 X방향 운동 기구는,
보이스 코일 모터를 포함하되, 상기 보이스 코일 모터의 X방향 고정자부는 상기 Y방향 운동 기구와 연결되고, 상기 보이스 코일 모터의 X방향 운동자부는 상기 레티클 스테이지와 연결된다.
선택적으로, 상기 X방향 운동 기구는,
상기 X방향 운동 기구가 상기 X방향을 따라 운동하는 변위를 감지하기 위한 X방향 변위 감지 장치; 및/또는
상기 X방향 운동 기구의 제한 변위를 한정하기 위한 X방향 위치 한정 장치; 를 포함한다.
선택적으로, 상기 X방향 운동 기구는,
상기 Y방향 운동 기구 및 상기 X방향 고정자부와 각각 연결되는 제2 연결판;
상기 제2 연결판과 슬라이딩 연결되고, 상기 제2 연결판에 대해 상기 X방향으로 슬라이딩하는 슬라이딩판-여기서, 상기 슬라이딩판은 상기 운동자부 및 상기 레티클 스테이지와 각각 연결됨-; 을 더 포함한다.
선택적으로, 상기 X방향 운동 기구는,
상기 X방향을 따라 상기 제2 연결판과 상기 슬라이딩판 사이에 배치되는 X방향 가이드 어셈블리를 더 포함한다.
선택적으로, 상기 X방향 가이드 어셈블리는,
적어도 한 쌍의 평행되게 배치된 교차 롤러 가이드 레일을 포함하며, 여기서, 한쌍의 상기 교차 롤러 가이드 레일 중의 하나는 상기 제2 연결판과 연결되고, 다른 하나는 상기 슬라이딩판과 연결된다.
선택적으로, 상기 마스크 스테이지는,
어댑터 부재를 더 포함하고, 상기 X방향 운동 기구는 상기 어댑터 부재를 통해 상기 레티클 스테이지와 연결되며, 상기 어댑터 부재의 상기 Y방향에서의 강도(Stiffness)는 상기 어댑터의 상기 X방향 및 Rz방향에서의 강도(Stiffness)보다 낮다.
선택적으로, 상기 레티클 스테이지의 상단면에 흡착 진공 챔버가 배치되고, 상기 레티클 스테이지의 내부에 제1 흡착 기도가 배치되며, 상기 제1 흡착 기도는 상기 흡착 진공 챔버 및 진공 장치와 각각 연결된다.
선택적으로, 상기 레티클 스테이지의 하단면에 공기 부상홀이 배치되고, 상기 레티클 스테이지의 내부에 인플레이션 통로가 배치되며, 상기 인플레이션 통로는 상기 공기 부상홀 및 인플레이션 장치와 각각 연통된다.
선택적으로, 상기 레티클 스테이지의 하단면에 프리로딩 진공 챔버가 배치되고, 상기 레티클 스테이지의 내부에 제2 흡착 통로가 배치되며, 상기 제2 흡착 통로는 상기 프리로딩 진공 챔버 및 상기 진공 장치와 각각 연통된다.
선택적으로, 상기 레티클 스테이지의 하단면에 공기 부상 패드가 배치되고, 상기 공기 부상 패드 내에 기도가 배치되며, 상기 공기 부상 패드의 하단면에 상기 기도와 연통되는 배기구가 배치되고, 상기 공기 부상 패드와 진공 장치가 연통된다.
선택적으로, 상기 레티클 스테이지와 상기 지지 베이스 사이에, 전자석 및 금속 부재를 포함하는 자기 프리로딩 어셈블리가 배치되고, 상기 레티클 스테이지와 상기 지지 베이스 중의 하나에 상기 전자석이 배치되고, 다른 하나에 상기 금속 부재가 배치되며, 상기 전자석과 상기 금속 부재는 대향되게 배치된다.
본 출원은 상기에서 서술된 마스크 스테이지를 포함하는 포토리소그래피 시스템를 제공한다.
본 출원에서 제공하는 마스크 스테이지는, Y방향 운동 기구와 X방향 운동 기구가 각각 레티클 스테이지의 X방향으로의 양측에 배치되고, X방향 운동 기구와 Y방향 운동 기구가 연결됨으로써, Y방향 운동 기구가 직접 X방향 운동 기구를 통해 레티클 스테이지와 연결되어, Y방향 운동 기구, X방향 운동 기구 및 레티클 스테이지 사이의 연결을 구현하기 위한 별도의 조동 스테이지와 미동 스테이지를 배치하지 않아도 되므로, 마스크 스테이지의 구조 복잡성이 간소화되고, 마스크 스테이지의 비용이 감소되며, 또한, Y방향 운동 기구는 단지 X방향 운동 기구와 레티클 스테이지의 운동을 구동하기만 하면 되므로, Y방향 운동 기구의 부하가 감소되고, Y방향 운동의 정밀도가 향상되며; 아울러, X방향 운동 기구와 Y방향 운동 기구가 레티클 스테이지의 동일한 측에 배치되므로, 마스크 스테이지의 구조 컴팩트성(compactness)이 향상되고, 마스크 스테이지의 전체 사이즈가 감소되며, 마스크 스테이지의 소형화 설계에 유리하다.
본 출원에서 제공하는 포토리소그래피 시스템은, 상기의 마스크 스테이지를 사용하므로, 포토리소그래피 시스템의 부피와 비용이 감소되고, 포토리소그래피 시스템의 운동 속도 및 정밀도가 향상된다.
도 1은 관련 기술에서 제공하는 마스크 스테이지 시스템의 구조 개략도이다.
도 2는 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 마스크 스테이지의 구조 개략도이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 지지 베이스 및 Y방향 운동 기구의 구조 개략도이다.
도 4는 도 3에서 I부분의 부분 확대도이다.
도 5는 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 X방향 운동 기구의 구조 개략도이다.
도 6은 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 마스크 스테이지의 Rz방향 조정의 원리도이다.
도 7은 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 어댑터 플레이트(adapter plate)의 구조 개략도이다.
도 8은 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 레티클 스테이지의 정면 구조 개략도이다.
도 9는 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 레티클 스테이지의 배면 구조 개략도이다.
도 10은 본 발명의 실시예 2에서 제공하는 레티클 스테이지 및 지지 베이스의 구조 개략도이다.
도 11은 본 발명의 실시예 2에서 제공하는 레티클 스테이지의 배면 구조 개략도이다.
이하, 첨부된 도면과 실시예를 결합하여 본 출원을 보다 상세히 설명한다. 단 아래에서 서술한 구체적 실시예는 본 출원을 설명하기 위한 것이며, 이에 한정적이 아닌 것으로 이해해야 한다. 이 밖에 설명하여야 할 것은, 서술의 편의를 위해 도면에는 전부 구조가 아닌 본 출원과 관련된 부분만 개시하였다.
본 출원의 서술에서, 명확한 규정이나 제한이 없을 경우, 용어 "서로 연결", "연결" 및 "고정"은 포괄적으로 이해되어야 하는데, 예를 들어, 고정 연결이거나 탈부착 연결, 또는 일체로 통합 가능하고; 기계적 연결이거나 전기적 연결일 수 있으며; 직접적으로 서로 연결되거나 중간 매체를 통해 간접적으로 서로 연결될 수도 있고; 2 개 소자 내부의 연통이거나 2개 소자의 상호 작용 관계일 수도 있다. 해당 분야의 보통의 기술자는 구체적 상황에 따라 상기 용어가 본 출원에서 가지는 구체적 의미를 이해할 수 있을 것이다.
본 출원에서, 별도의 명확한 규정이나 제한이 없을 경우, 제1 특징이 제2 특징의 "위" 또는 "아래"에 있다는 것은 제1 특징과 제2 특징이 직접적으로 접촉하거나 또는 직접적으로 접촉하지 않고 그들 사이의 별도의 특징을 통해 접촉하는 것을 포함할 수 있다. 또한 제1 특징이 제2 특징의 "위", "상방" 및 "상면"에 있다는 것은, 제1 특징이 제2 특징의 바로 위 또는 사선 윗방향에 있는 것을 포함하거나, 단지 제1 특징의 수평 높이가 제2 특징보다 높음을 표시할 수 있다. 제1 특징이 제2 특징의 "아래", "하방" 및 "하면"에 있다는 것은, 제1 특징이 제2 특징의 바로 아래 또는 사선 아랫 방향에 있는 것을 포함하거나, 또는 단지 제1 특징의 수평 높이가 제2 특징보다 낮음을 표시할 수 있다.
본 실시예의 서술에서, 용어 "위", "아래", "우" 등 방위 또는 위치 관계는 도면에 도시된 방위 또는 위치관계에 기반하는데, 이는 단지 서술의 편의와 조작을 단순화하기 위함일 뿐, 해당 장치 또는 소재가 반드시 특정의 방위를 가지고, 특정 방위로 구성 및 조작되어야 함을 지시 및 암시하는 것이 아니므로, 본 출원을 한정하는 것으로 이해하여서는 안된다. 이밖에, 용어 "제1", "제2"는 단지 서술을 구별하기 위해서만 사용되며 특별한 의미가 없다.
실시예 1
도 2는 본 발명의 실시예에서 제공하는 마스크 스테이지의 구조 개략도이고, 도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시예는 마스크 스테이지를 제공하였으며, 이는 포토리소그래피 시스템에서 레티클을 적재하고, 레티클의 긴 스트로크 스캔 운동과 미세 조정 운동이 결합된 고속 고정밀 운동을 구동하여, 집적회로IC 또는 마이크로 소자의 포토리소그래피 요구를 만족시킨다.
본 실시예에서 제공하는 마스크 스테이지는 지지 베이스(1), 레티클 스테이지(4), X방향 운동 기구(3) 및 Y방향 운동 기구(2)를 포함한다. 여기서, 지지 베이스(1)는 전체 마스크 스테이지 상의 구조를 지지 및 고정하는데 사용되고, 대물렌즈 장착 및 투광용 인터페이스를 제공하며; 레티클 스테이지(4)는 지지 베이스(1)의 상단면에 배치되고, 레티클을 적재하며, 레티클의 마스크 스테이지 상에서의 전달 및 레티클의 운동을 구동하며; X방향 운동 기구(3)는 레티클 스테이지(4)와 연결되고, 레티클 스테이지(4)가 X방향으로 운동하도록 구동하며; Y방향 운동 기구(2)는 지지 베이스(1) 상에 배치되고, X방향 운동 기구(3)와 연결되며, X방향 운동 기구(3)가 Y방향으로 운동하도록 구동함으로써, 레티클 스테이지(4)의 Y방향으로의 운동을 구현한다.
상기 X방향 및 Y방향은 도 1에 도시된 방향이며, 여기서 설명해야 할 것은, 일반적인 경우에, 포토리소그래피 시스템에서, 마스크 스테이지는 통상적으로 레티클이 수평방향에서 운동 및 조정하도록 구동한다. 즉 X방향과 Y방향이 형성한 면은 수평면이다. 다만 일부 특수한 응용에서, 마스크 스테이지는 레티클이 수평면보다 상대적으로 경사된 평면상에서 운동 및 조정하도록 구동할 수 있다. 즉 이때, X방향과 Y방향이 형성한 평면은 수평면보다 상대적으로 경사된 평면일 수 있다. 본 실시예에서, X방향과 Y방향이 형성한 평면을 수평면으로 예시하였으나, 마스크 스테이지의 특수한 상황에서의 응용을 한정하지 않는다.
본 실시예에서, 레티클은 Y방향에서 긴 스트로크 스캐닝 운동을 진행하고, X 방향에서 X 향 운동 기구(3)를 통해 미세 조정을 진행할 수 있다.
본 실시예에서, Y방향 운동 기구(2)와 X방향 운동 기구(3)는 모두 레티클 스테이지(4)의 X방향으로의 양측에 배치되고, X방향 운동 기구(3)와 Y방향 운동 기구(2)가 연결된다. 해당 배치 방법에서, Y방향 운동 기구(2)는 직접 X방향 운동 기구(3)를 통해 레티클 스테이지(4)와 연결되기 때문에, Y방향 운동 기구(2), X방향 운동 기구(3) 및 레티클 스테이지(4) 사이의 연결을 구현하기 위한 별도의 조동 스테이지와 미동 스테이지를 배치하지 않아도 되므로, 마스크 스테이지의 구조 복잡이 간소화되고, 마스크 스테이지의 비용이 감소되며, 또한, Y방향 운동 기구(2)는 단지 X방향 운동 기구(3)와 레티클 스테이지(4)의 운동을 구동하기만 하면 되므로, Y방향 운동 기구(2)의 부하가 감소되고, Y방향 운동의 정밀도가 향상되며; 아울러, X방향 운동 기구(3)와 Y방향 운동 기구(2)가 레티클 스테이지(4)의 동일한 측에 배치되므로, 마스크 스테이지의 구조 컴팩트성(compactness)이 향상되고, 마스크 스테이지의 전체 사이즈가 감소되며, 마스크 스테이지의 소형화 설계에 유리하다.
도 3은 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 지지 베이스와 Y방향 운동 기구의 구조 개략도이고, 도 3에 도시된 바와 같이, 지지 베이스(1)는 마스크 스테이지의 전체 장착 베이스이고, 외부 장착을 위해 구조적 지지를 제공한다. 본 실시예에서, 지지 베이스(1)는 기본적으로 직사각형 구조이고, Y방향으로의 길이는 마스크 스테이지가 Y방향을 따라 운동하는 스캐닝 스트로크에 따라 결정되며, X방향으로의 너비는 레티클의 사이즈 및 Y방향 운동 기구(2)의 사이즈에 따라 결정된다. 지지 베이스(1)의 중앙에는, 대물렌즈를 배치하고 대물렌즈에 광로를 제공하기 위한 장착 관통홀(11)이 제공된다.
지지 베이스(1)는 제1 장착면(121)과 제2 장착면(13)을 구비하고, 제1 장착면(121) 및 제2 장착면(13)은 모두 X방향과 Y방향이 형성한 평면에 평행된다. 제1 장착면(121)은 제2 장착면(13)보다 높고, 제2 장착면(13)은 지지 베이스(1)의 중부에 위치하며, 제2 장착면(13)은 지지 베이스(1)의 X방향으로의 양측에 위치한다.
레티클 스테이지(4)는 제1 장착면(121) 상에 배치되고, Y방향 운동 기구(2)는 제2 장착면(13) 상에 배치되며, X방향 운동 기구(3)는 Y방향 운동 기구(2) 상에 배치되며 제1 장착면(121)의 상방에 위치한다. 지지 베이스(1) 상면에 제1 장착면(121)을 배치하고, 제1 장착면(121)의 양측에 제2 장착면(13)을 배치하여, 제1 장착면(121)이 레티클 스테이지(4)를 장착하고, 제2 장착면(13)이 Y방향 운동 기구(2)를 장착함으로써, 지지 베이스(1)의 강도를 보장함과 동시에 Y방향 운동 기구(2)와 레티클 스테이지(4)의 분층 장착을 구현하고, 마스크 스테이지의 전체 두께를 감소한다.
본 실시예에서, 장착 관통홀(11)이 지지 베이스(1)의 상, 하면을 관통하므로, 지지 베이스(1) 상면에는 2 개의 평형 배치된 장착 돌출부(12)가 구비되고, 2 개의 장착 돌출부(12)는 각각 장착 관통홀(11)의 양측에 배치되며, 장착 돌출부(12)의 상단면은 제1 장착면(121)을 형성한다. 제1 장착면(121)이 2 개의 장착 돌출부(12)의 상단면으로 형성되었으므로, 제1 장착면(121)의 면적을 감소하고, 제1 장착면(121)의 평면도를 향상하며, 제1 장착면(121)의 가공 비용을 감소한다. 다른 실시예에서, 지지 베이스(1) 전체를 중앙이 높고, 양측이 낮은 돌출형 구조로 나타낼 수 있으며, 즉, 제1 장착면(121)은 돌출형 구조의 상단면이고, 장착 관통홀(11)은 돌출형 구조의 상단면을 관통한다. 본 실시예에서는, 제1 장착면(121)의 형성은 지지 베이스(1)와 제1 장착면(121)의 가공성형에 편리하기만 하면 된다.
본 실시예에서, 지지 베이스(1)의 X방향에 따라, Y방향 운동 기구(2)가 2 개 배치되고, 2 개의 Y방향 운동 기구(2)는 대응되는 제2 장착면(13) 상에 각각 배치되며, 각각의 Y방향 운동 기구(2)는 모두 자신과 연결된 레티클 스테이지(4)가 Y방향으로 운동하도록 구동할 수 있다. 2 개의 Y방향 운동 기구(2)가 동기화 운동할 경우, 레티클 스테이지(4) 전체가 Y방향으로 운동하여, 레티클이 Y방향에서의 스캐닝 운동 또는 미세 조정 운동을 구현한다. 2 개의 Y방향 운동 기구(2)가 비동기화 운동할 경우, 2 개의 Y방향 운동 기구(2)가 레티클 스테이지(4)의 양측에 각각 연결되어 있으므로, 레티클 스테이지(4) 양측에는 Y방향 운동 변위 차가 발생하여, 레티클 스테이지(4)가 Z방향을 중심으로 회전하게 된다. 본 실시예에서, Z방향은 X방향과 Y방향이 위치하는 평면에 수직되는 방향이다.
레티클 스테이지(4)의 양측에 Y방향 운동 기구(2)를 각각 배치하여, 2 개의 Y방향 운동 기구(2)의 비동기화 운동을 통해, 레티클 스테이지(4)가 Z방향을 중심으로 회전함으로써, Rz방향으로의 미세 조정을 구현하고, 마스크 스테이지의 운동 및 조정 정밀도를 추가로 향상하며, 포토리소그래피 품질을 향상시키고; 또한, Rz향의 조정 기구를 구성할 필요가 없으므로, 마스크 스테이지의 전체 구조 구성을 간소화하고, 마스크 스테이지의 전체 사이즈 및 설계 비용을 감소하며, 마스크 스테이지의 소형화 설계를 구현하는데 유리하고; 아울러, 2 개의 Y방향 운동 기구(2)의 동기화 운동은, 레티클 스테이지(4)의 양측이 받는 힘을 균일하게 하여, 레티클 스테이지(4)의 운동 안정성을 향상시키고, 레티클 스테이지(4)의 운동 정밀도를 보장한다.
다른 실시예에서는, 레티클 스테이지(4)의 일측에만 하나의 Y방향 운동 기구(2)를 배치할 수도 있으며, 레티클 스테이지(4)의 다른 일측은 Y방향의 가이드 어셈블리를 사용하여 레티클 스테이지(4)와 슬라이딩 연결되고, 레티클 스테이지(4)가 Y방향으로의 운동을 구현할 수도 있다. 이때, 별도의 Rz조정 기구를 배치하여 Z축을 중심으로 회전하는 것을 구현할 수 있고, 또한, 레티클 스테이지(4)의 양측에 2 개의 X방향 운동 기구(3)를 배치하고, X방향 운동 기구(3)를 레티클 스테이지(4)의 대응되는 두 개의 모서리 부근에 연결하여, Rz방향의 미세 조정을 구현할 수도 있다.
도 4는 도 3에서 I부분의 부분 확대도이고, 도 4에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서, Y방향 운동 기구(2)는 리니어 모터(21)를 포함한다. 리니어 모터(21)의 Y방향 고정자부(211)는 Y방향을 따라 구성되고, 리니어 모터(21)의 Y방향 운동자부(212)는 Y방향 고정자부(211)와 협력하며, Y방향 고정자부(211)에 대해 상대적으로 Y방향으로 운동할 수 있다. 리니어 모터(21)를 배치하여, 리니어 운동의 직접적인 동력 전달을 구현할 수 있는데, 이는 구조가 간단하고, 반응이 신속하며, 운동 정밀도가 높으므로, 레티클 스테이지(4)가 Y방향으로 운동하는 속도 및 정밀도를 향상하는데 유리하다. 본 실시예에서, 리니어 모터(21)는 구조가 간단하고, 설치가 편리한 U형 슬롯 리니어 모터(21)를 선택할 수 있다. 리니어 모터(21)의 유형은 튜브형 또는 평판형 등 구조일 수도 있다.
본 실시예에서, 지지 베이스(1)의 X방향으로의 양측벽에는 각각 제3 장착면(14)이 형성되어 있고, 리니어 모터(21)의 Y방향 고정자부(211)는 선택적으로 제3 장착면(14)에 연결됨으로써, Y방향 운동 기구(2)가 제2 장착면(13)에서 필요한 배치 공간을 절약하고, 마스크 스테이지의 높이 방향으로의 사이즈를 감소하며, 마스크 스테이지 전체 구조의 컴팩트성를 향상하고, 마스크 스테이지가 필요한 사이즈를 더 감소한다. 다른 실시예에서, 리니어 모터(21)는 제2 장착면(13)에 연결될 수도 있다.
Y방향 운동 기구(2)의 운동 정밀도를 제공하기 위해, 선택적으로, Y방향 운동 기구(2)는 Y방향 가이드 어셈블리(22)를 포함하여, Y방향 운동 기구(2)의 운동을 가이드 한다. Y방향 가이드 어셈블리(22)는 Y방향에 따라 제2 장착면(13) 상에 배치된 Y방향 가이드 레일(221) 및 Y방향 가이드 레일(221)과 협력하고 Y방향 운동자부(212)에 연결되는 Y방향 슬라이딩 블록(222)을 포함한다.
본 실시예에서, Y방향 가이드 레일(221)은 돌출형 슬라이딩 레일 구조이며, 지지 베이스(1)와 탈부착 연결가능하므로, Y방향 가이드 레일(221)의 장착, 설치 및 교체에 유리하다. 다른 실시예에서, Y방향 가이드 레일(221)은 제2 장착면(13) 상에 배치된 슬롯형 구조일 수 있으며, Y방향 슬라이딩 블록(222)은 슬롯 구조 내에 슬라이딩 연결되고, 슬롯 구조의 슬롯벽을 따라 슬라이딩한다.
일 실시예에서, Y방향 운동 기구(2)는, Y방향 슬라이딩 블록(222)의 상방에 배치되고 Y방향 슬라이딩 블록(222)의 상단면과 연결되는 제1 연결판(23)을 더 포함한다. 또한, 제1 연결판(23)은 X방향 운동 기구(3) 및 Y방향 운동자부(212)와 각각 연결된다. 제1 연결판(23)을 통해, 리니어 모터(21)는 Y방향 슬라이딩 블록(222)이 Y방향 가이드 레일(221)을 따라 운동하도록 구동하고, X방향 운동 기구(3)가 운동하도록 동기적으로 구동함으로써, 구조의 컴팩트성를 향상한다. 또한, Y방향 슬라이딩 블록(222)은 X방향 운동 기구(3) 및 Y방향 운동자부(212)와 직접 연결되지 않으므로, Y방향 슬라이딩 블록(222)이 일반적 설계를 사용할 수 있음으로써, Y방향 슬라이딩 블록(222)의 설계 및 가공 비용을 간소화하고, Y방향 슬라이딩 블록(222)의 유지보수 및 교체를 편리하게 한다. 다른 실시예에서, Y방향 슬라이딩 블록(222)의 구조 설계를 통해, Y방향 슬라이딩 블록(222)이 X방향 운동 기구(3) 및/또는 Y방향 운동자부(212)와 직접 연결되게 할 수 있다.
선택적으로, 본 실시예에서, Y방향 가이드 레일(221)의 길이 방향을 따라 2 개의 Y방향 슬라이딩 블록(222)이 배치되며, 2 개의 Y방향 슬라이딩 블록(222)의 상단면이 모두 제1 연결판(23)과 연결되므로, Y방향 운동의 안정성과 X방향 운동 기구(3)의 연결 안정성을 향상하는데 유리하다.
선택적으로, 본 실시예에서, Y방향 고정자부(211)의 상단면과 제1 연결판(23) 사이는 고정 부재(24)를 통해 연결되므로, 각 부재 사이의 장착 및 교환에 유리하다.
선택적으로, Y방향 운동 기구(2)는, Y방향 운동 기구(2)의 Y방향으로의 운동 변위를 감지하기 위한 Y방향 변위 감지 장치를 더 포함한다. 본 실시예에서, Y방향 변위 감지 장치는 선택적으로 Y방향을 따라 제2 장착면(13) 상에 배치된 제1 스케일 격자(251); 및 Y방향 운동자부(212)와 연결되고 제1 스케일 격자(251)에 대향되게 배치된 제1 격자 판독 헤드(252); 를 포함하는 제1 격자 룰러 어셈블리(25)를 사용하여야 한다. 본 실시예에서, 제1 스케일 격자(251)는 Y방향 가이드 레일(221)에서 레티클 스테이지(4)로부터 떨어져있는 일측에 배치되고, 제1 격자 판독 헤드(252)는 고정 부재(24)에 배치된다. 격자 룰러를 사용하여 Y방향 변위를 감지함으로써, 감지 스트로크가 길고, 감지 정밀도가 높으며, 응답이 빠르고, Y방향 운동 기구(2)의 조정 정밀도 및 조정 속도가 향상될 수 있다. 다른 실시예에서는, 거리 측정 센서 및 변위 센서 등을 사용하여 Y방향 변위를 측정할 수도 있다.
선택적으로, Y방향 운동 기구(2)는, Y방향 운동 기구(2)가 Y방향 양측을 따라 운동하는 제한 위치를 한정하여, Y방향 운동 기구(2)가 운동 범위를 벗어나 다른 구조와 간섭 또는 충돌하는 것을 방지하고, Y방향 운동 기구(2)의 동작 신뢰성과 안정성을 향상시키기 위한 Y방향 위치 한정 장치를 더 포함한다.
본 실시예에서, Y방향 위치 한정 장치는 차광판(262) 및 2 개의 제1 광센서(261)를 포함하는 광 위치 한정 어셈블리(26)를 포함한다. 2 개의 제1 광센서(261)는 Y방향에 따라 이격되게 배치되며, 제1 광센서(261)는 X방향에 따라 대향되게 배치된 방사부와 수신부를 포함한다. 차광판(262)은 제1 연결판(23)에 연결되고, Y방향 운동 기구(2)가 2 개의 제1 광센서(261)에 대응되는 제한 위치로 각각 운동하였을 경우, 대응되는 제1 광센서(261)의 수신부와 방사부 사이에 위치하여, 방사부와 수신부 사이의 빛을 차단한다.
방사부와 수신부 사이에 차단이 존재하지 않을 경우, 수신부는 방사부에서 출력하는 광신호를 수신하고 대응되는 레벨 정보를 출력한다. 방사부와 수신부 사이에 차단이 존재할 경우, 수신부는 방사부에서 출력하는 광신호를 수신하지 못하거나 일부만 수신하고, 차단이 존재하지 않을 때와 상이한 레벨 정보를 전송한다. 이로써, 광 센서가 출력하는 레벨 정보를 통해 차광판(262)의 존재 여부를 판단할 수 있는데, 차광판(262)이 존재할 경우, Y방향 운동 기구(2)는 대응되는 제한 위치로 운동하였다.
본 실시예에서, 제1 광센서(261)는 선택적으로 차단형 포토 인터럽터(photo interrupter)이고, 그 방사부와 수신부는 일체로 하우징의 양측에 배치되며, U형 슬롯이 형성되어 있고, 차광판(262)이 U형 슬롯에 삽입될 경우, 포토 인터럽터 광에 대한 차단을 구현할 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 광센서(261)는 차단형 포토스위치(photo-switch) 등일 수도 있다.
본 실시예에서, 제1 연결판(23)의 Y방향으로의 양측에는 선택적으로 각각 하나의 차광판(262)이 배치되며, 각각의 차광판(262)은 대응 측의 제1 광센서(261)와 협력하여 제한 위치의 감지를 구현함으로써, 2 개의 제1 광센서(261)는 각각 Y방향 가이드 레일(221)의 양단에 배치되기만 하면 되고, 차광판(262)과 제1 광센서(261)의 배치 위치가 보다 직관적이고 편리하게 된다. 다른 실시예에서, 단지 하나의 차광판(262)만을 배치할 수 있는데, 이때, 2 개의 제1 광센서(261)의 위치는, Y방향으로 운동되는 2 개의 제한 위치와 차광판(262)의 제1 연결판(23)에서의 위치에 따라 결정된다.
본 실시예에서, Y방향 운동 기구(2)의 초기화 위치를 결정하고, Y방향 운동 기구(2)를 리셋하여, Y방향 운동 기구(2)의 운동 정밀도를 향상하기 위해, 제1 광센서(261)에서 다른 하나의 제1 광센서(261)와 멀리 떨어져있는 일측에 제로 광센서(28)가 더 배치된다.
제1 광센서(261)를 배치하여 Y방향 운동 기구(2)의 운동 제한 위치를 감지함으로써, 응답 속도가 빠르고, 정밀도가 높으며, Y방향 운동 기구(2)의 운동 피드백 속도가 향상되므로, Y방향 운동 기구(2)의 조정 속도 및 조정 정밀도를 향상하는데 더욱 유리하다. 다른 실시예에서, Y방향 위치 한정 어셈블리는 미동 스위치 등 접촉식 스위치일 수도 있다.
일 실시예에서, Y방향 위치 한정 장치는, Y방향 가이드 레일(221)의 양단에 배치된 유압 버퍼(27)를 포함하는 위치 한정 버퍼 어셈블리를 더 포함한다. Y방향 운동 기구(2)가 2 개의 제한 위치로 운동하였을 경우, 제1 연결판(23)의 대응 측은 대응되는 유압 버퍼(27)와 접촉한다. 유압 버퍼(27)의 배치는, Y방향 운동 기구(2) 중 운동 부분의 제한 위치를 추가로 한정할 수 있고, 운동 부분의 운동에 대해 완충 작용을 하여, 운동 부분이 운동 과정에서 다른 구조와 충돌하는 것을 방지하는 등 Y방향 운동 기구(2)에 대해 보호 작용을 하여, Y방향 운동 기구(2)의 구조 신뢰성 및 안전성을 향상한다.
도 5는 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 X방향 운동 기구의 구조 개략도이고, 도 5에 도시된 바와 같이, 레티클 스테이지(4)의 X방향으로 운동의 미세 조정을 구현하기 위해, X방향 운동 기구(3)는 Y방향 운동 기구(2) 상에 배치된다. X방향 운동 기구(3)는 보이스 코일 모터(31)를 포함하되, 보이스 코일 모터(31)의 X방향 고정자부(312)는 Y방향 운동 기구(2)의 제1 연결판(23)과 연결되고, 보이스 코일 모터(31)의 X방향 운동자부(311)는 레티클 스테이지(4)와 연결된다. 보이스 코일 모터(31)를 X방향 운동 기구(3)의 구동 유닛으로 설정함으로써, X방향 운동 기구(3)의 부피를 줄이고, X방향 운동 정밀도와 조정 정밀도를 향상한다.
보이스 코일 모터(31)와 Y방향 운동 기구(2) 및 레티클 스테이지(4) 사이의 연결을 편리하게 하기 위해, 선택적으로, X방향 운동 기구(3)는 제2 연결판(33) 및 슬라이딩판(34)을 더 포함한다. 제2 연결판(33)의 하면은 제1 연결판(23)과 연결되고, 제2 연결판(33)에서 레티클 스테이지(4)와 멀리 떨어진 일측은 제1 장착판(39)을 통해 X방향 고정자부(312)와 연결된다. 슬라이딩판(34)은 제2 연결판(33)의 상방에 배치되고, 제2 장착판(310)을 통해 X방향 운동자부(311)와 연결되며, 슬라이딩판(34)은 Y방향 운동자부(212)의 구동하에 제2 연결판(33)에 대해 상대적으로 X방향으로 슬라이딩하고, 동시에, 슬라이딩판(34)은 레티클 스테이지(4)와 연결됨으로써, 슬라이딩판(34)의 X방향 운동은 레티클 스테이지(4)가 X방향으로 운동하도록 구동한다.
슬라이딩판(34)의 X방향으로의 운동의 신뢰성 및 정밀도를 향상하기 위해, 선택적으로, 슬라이딩판(34)과 제2 연결판(33) 사이에는 X방향 가이드 어셈블리(32)가 배치된다. 본 실시예에서, X방향 가이드 어셈블리(32)는 슬라이딩판(34)의 Y방향으로의 양측에 평행되게 배치된 2 쌍의 교차 롤러 가이드 레일(321)를 포함한다. 일 실시예에서, 한 쌍의 교차 롤러 가이드 레일(321)에서 하나는 제2 연결판(33)과 연결되고, 다른 하나는 슬라이딩판(34)과 연결되므로, X방향 가이드 어셈블리(32)의 가이드 안정성과 정확성을 향상한다. 다른 하나의 실시예에서, 단지 슬라이딩판(34)의 중부에만 한 쌍의 교차 롤러 가이드 레일(321)을 배치하거나, 하나의 교차 롤러 가이드 레일(321)만 배치할 수도 있다. 다른 실시예에서는, X방향 리니어 가이드 레일과 X방향 슬라이딩 블록의 협력으로 슬라이딩판(34)과 제2 연결판(33) 사이의 슬라이딩 가이드 등을 구현할 수 있다.
선택적으로, 본 실시예에서, X방향 운동 기구(3)는 X방향 변위 감지 장치를 더 포함한다. 본 실시예에서, X방향 변위 감지 장치는 제2 격자 룰러 어셈블리를 포함하되, 제2 격자 룰러 어셈블리의 제2 스케일 격자는 X방향을 따라 제2 연결판(33) 상에 배치되고, 제2 격자 룰러 어셈블리의 제2 격자 판독 헤드(35)와 슬라이딩판(34)이 연결되며, 제2 스케일 격자와 대향되게 배치된다. 다른 실시예에서, X방향 변위 감지 장치는 거리 센서와 같은 거리를 측정하는 센서일 수도 있다.
본 실시예에서 X방향 운동 기구(3)는，X방향 운동 기구(3)의 제한 변위를 한정하기 위한 X방향 위치 한정 장치를 더 포함한다. 본 실시예에서, X방향 위치 한정 장치는 제2 광센서(36)를 포함하며, 제2 광센서(36)는 슬라이딩판(34)과 연결되고, 슬라이딩판(34)을 마주한 제2 연결판(33)의 일면에는 수용 슬롯이 배치되며, 수용 슬롯의 중부에는 차광 부재가 배치되고, 제2 광센서(36)는 대향되게 배치된 방사부 및 수신부를 포함하되, 방사부 및 수신부는 수용 슬롯에 삽입되며, 또한, X방향 운동 기구(3)가 초기 상태일 경우, 차광 부재가 방사부와 수신부 사이에 위치하는데, X방향 운동 기구(3)가 X방향 운동의 2 개의 제한 위치에 위치할 경우, 차광 부재는 마침 방사부와 수신부 사이의 빛을 차단하지 않으므로, 제2 광센서(36)의 출력 신호를 통해 X방향 운동 기구(3)가 제한 위치로 운동하였는지를 판단할 수 있다. 여기서, 제2 광센서(36)는 포토 인터럽터 및 포토 스위치 등 일수 있다. 다른 실시예에서, X방향 위치 한정 장치는 접촉식 스위치와 같은 위치를 한정하고 정보 출력을 진행하기 위한 구조일 수 있다.
본 실시예에서, X방향 위치 한정 장치는 기계적 위치 한정을 구현하기 위한 위치 한정 칼럼(37) 및 위치 한정 슬롯을 더 포함하되, 슬라이딩판(34)과 제2 연결판(33) 중의 하나에 위치 한정 칼럼(37)이 배치되고, 다른 하나에 대응되게 위치 한정 슬롯이 배치되며, 위치 한정 칼럼(37)은 위치 한정 슬롯에 삽입되고, 위치 한정 칼럼(37)의 위치 한정 슬롯 내에서의 이동 가능 거리를 통해 X방향 운동 기구(3)의 스트로크를 한정한다. 다른 실시예에서, X방향 위치 한정 장치는 다른 구조를 통해 X방향 운동 기구(3)의 X방향 2 개의 제한 위치에서의 기계적 위치 한정을 구현한다.
본 실시예에서, X방향 운동 기구(3)는 슬라이딩판(34)에서 레티클 스테이지(4)를 마주한 일측에 배치된 충돌 방지 구조(38)를 더 포함하되, 슬라이딩판(34)이 레티클 스테이지(4)를 향하여 제한 위치까지 운동할 경우, 충돌 방지 구조(38)와 레티클 스테이지(4)가 접촉하므로, X방향 운동 기구(3)의 추가 운동을 방지하고, 슬라이딩판(34) 등 구조와 레티클 스테이지(4)가 강성 충돌하여 레티클 스테이지(4) 또는 슬라이딩판(34) 등 구조가 파손되는 것을 방지하여, X방향 운동 기구(3)의 운동 신뢰성 및 안전성을 향상한다.
본 실시예에서, 레티클 스테이지(4)가 X방향으로 운동하는 신뢰성과 안정성을 향상하기 위해, 레티클 스테이지(4)의 X방향으로의 양측에는 모두 X방향 운동 기구(3)가 배치된다. 마스크 스테이지의 비용을 감소하기 위해, 본 실시예에서는, 선택적으로, X방향 운동 기구(3) 중의 하나에 보이스 코일 모터(31) 및 X방향 변위 감지 장치를 배치하지 않고, 다른 구조는 동일하게 유지할 수 있다.
도 6은 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 마스크 스테이지의 Rz방향 조정의 원리도이고, 여기서, 도 6의 (a)는 마스크 스테이지가 단지 X방향 및/또는 Y방향 조정을 진행할 때의 구조 개략도이며, 도 6의 (b)는 마스크 스테이지가 Rz방향 조정을 진행할 때의 구조 개략도이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서, X방향 운동 기구(3)가 Y방향 운동 기구(2) 상에 연결되고, 2 개의 Y방향 운동 기구(2)의 비동기화 운동은 2 개의 Y방향 운동 기구(2) 상에 각각 배치된 X방향 운동 기구(3)의 위치가 편향되게 하여, 2 개의 X방향 운동 기구(3)의 연결선이 X방향에 대해 상대적으로 기울게 된다. X방향 운동 기구(3)와 Y방향 운동 기구(2)의 디커플링(decoupling)을 구현하기 위해, X방향 운동 기구(3)와 Y방향 운동 기구(2) 사이에 회전 조정 어셈블리가 배치되므로, X방향 운동 기구(3)가 회전 조정 어셈블리를 통해 Y방향 운동 기구(2)와 회전 가능하게 연결된다. 따라서, 2 개의 Y방향 운동 기구(2)를 사용하여 레티클 스테이지(4)에 대해 α도의 Rz향 조정을 진행한 후, X방향 운동 기구(3)는 Y방향 운동 기구(2)에 대해 상대적으로 편향됨으로써, 2 개의 X방향 운동 기구(3) 사이의 연결이 X방향에서 α각 기울어지므로, X방향 운동 기구(3)와 레티클 스테이지(4) 사이의 연결 관계가 동일하게 유지되고, X방향 운동 기구(3)는 여전히 레티클 스테이지(4)의 일측에 수직되는 방향으로 레티클 스테이지(4)에 작용하므로, X방향 운동 기구(3)의 조정 정밀도를 보장한다.
본 실시예에서, 회전 조정 어셈블리는 변환 베어링(6)이다. 일 실시예에서, 제1 연결판(23) 상에는 베어링 장착홀이 배치되고, 베어링 장착홀의 구경은 변환 베어링(6)의 외경에 매치됨으로써, 변환 베어링(6)의 외부링이 제1 연결판(23)과 고정 연결되고, 변환 베어링(6)의 내부링이 제2 연결판(33)과 연결되므로, 변환 베어링(6)의 내부링과 외부링의 상대적 회전을 통해, X방향 운동 기구(3)의 Y방향 운동 기구(2)에 대한 상대적 회전이 구현된다.
다른 실시예에서, 제1 연결판(23)과 제2 연결판(33)은 고정 연결될 수도 있는데, 즉, X방향 운동 기구(3)와 Y방향 운동 기구(2) 사이에 상대적 회전이 발생하지 않는다. 이때, X방향 운동 기구(3)와 레티클 스테이지(4)는 유니버셜 볼 조인트(universal ball joint) 또는 조인트 베어링을 사용하여 레티클 스테이지(4)와 힌지(hinge) 연결되므로, X방향 운동 기구(3)의 작용력이 레티클 스테이지(4) 상에 수직되게 가해지도록 구현된다.
본 실시예에서, X방향 운동 기구(3)는 어댑터 플레이트(5)를 통해 연결된다. 2 개의 X방향 운동 기구(3)에서 하나는 보이스 코일 모터(31)와 같은 배치를 생략할 수 있으므로, 2 개의 X방향 운동 기구(3)의 상단면이 동일한 평면에 놓이지 않게 되는데, 2 개의 X방향 운동 기구(3)가 Z방향으로 동일한 높이를 갖는 문제를 해결하기 위해, 어댑터 플레이트(5)는 선택적으로 리드(reed) 구조이며, 리드 구조의 Ry방향에서의 강도(Stiffness)는 비교적 낮고, X방향과 Rz방향에서의 강도는 비교적 높으므로, 리드 구조는 Y방향을 중심으로 일정한 굽힘 변형이 발생하며, X방향과 Rz방향에서는 X방향 운동 기구(3)와의 연결 관계가 변하지 않는다.
도 7은 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 어댑터 플레이트의 구조 개략도이고, 도 7에 도시된 바와 같이, 어댑터 부재는 도 7의 (a), (b) 또는 (c)중 임의 하나의 구조를 사용할 수 있다. 도 7의 (a)에서, 리드 구조는 판형의 본체부(51)와 본체부(51)의 X방향을 따라 이격되게 배치된 다수의 보강부(53)를 포함하되, 보강부(53)의 두께는 본체부(51)의 두께보다 두꺼우므로, X방향과 Rz방향의 강도가 향상되고, Ry방향의 강도가 감소된다. 도 7의 (b)에서, 리드 구조의 X방향으로의 길이는 Y방향으로의 길이보다 길고, X방향으로의 양단의 두께는 가운데 부분보다 두꺼우므로, Ry방향의 강도가 감소된다. 도 7의 (c)에서, 리드 구조의 본체부(51)는 두께가 약 1mm인 시트형 구조이며, 선택적으로 304 스테인리스 판금 부재를 사용하고, 리드 구조의 X방향으로의 양측변 상에는 보강판(52)이 연결되므로, X방향과 Y방향의 강도가 향상된다. 본 실시예에서는 단지 어댑터 플레이트(5)의 예시적 구조만을 제공하였으며, 어댑터 플레이트(5)는 Ry방향의 강도가 비교적 작고, X방향과 Rz방향의 강도가 비교적 큰 다른 구조일 수도 있다.
도 8은 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 레티클 스테이지의 정면 구조 개략도이고, 도 9는 본 발명의 실시예 1에서 제공하는 레티클 스테이지의 배면 구조 개략도이다. 도 8과 도 9에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서, 레티클 스테이지(4)의 중부에는 대물렌즈 광로 통과용 투광 관통홀(47)이 배치되고, 레티클 스테이지(4)의 상단면에는 레티클을 적재하기 위한 적재 돌출보스(41)가 배치되며, 레티클 스테이지(4)와 적재 돌출보스(41)는 일체식 구조이다. 본 실시예에서, 투광 관통홀(47)은 직사각형홀이고, 투광 관통홀(47)의 Y방향으로 배치된 양측 변에는 각각 2 개의 적재 돌출보스(41)가 배치되므로, 레티클의 적재 안정성을 향상한다. 다른 실시예에서, 적재 돌출보스(41)의 위치와 개수의 배치는 수요에 따라 자체적으로 설정할 수 있다.
선택적으로, 본 실시예에서, 레티클 스테이지(4)는 전체적으로 에어풋(air foot) 구조이고, 적재 돌출보스(41) 상단면에는 흡착 진공 챔버(411)가 배치되며, 레티클 스테이지(4) 내부에는 제1 흡착 기도가 배치되고, 각각의 적재 돌출보스(41) 상의 흡착 진공 챔버(411)는 모두 제1 흡착 기도와 연통되며, 제1 흡착 기도는 진공 장치와 연통된다. 레티클이 레티클 스테이지(4) 위에 놓이고, 적재 돌출보스(41) 상에 탑재될 경우, 진공 장치에 의해, 레티클과 적재 돌출보스(41) 사이의 공기는 흡착 진공 챔버(411) 및 제1 흡착 기도를 통해 모두 배출되므로, 적재 돌출보스(41)와 레티클 스테이지(4) 사이의 긴밀한 흡착이 구현되고, 레티클의 레티클 스테이지(4) 상에서의 고정이 구현된다.
본 실시예에서, 레티클 스테이지(4)의 하단면에는 공기 부상홀(421)이 배치되고, 레티클 스테이지(4) 내부에는 인플레이션 통로가 배치되며, 인플레이션 통로와 공기 부상홀(421)이 연통되고, 인플레이션 통로와 레티클 스테이지(4) 외부에 배치된 인플레이션 장치가 연통된다. 인플레이션 장치가 인플레이션 통로를 통해 레티클 스테이지(4) 내부에 공기를 주입할 경우, 기류는 공기 부상홀(421)을 통해 레티클 스테이지(4)와 지지 베이스(1) 사이로 배출됨으로써, 레티클 스테이지(4)와 지지 베이스(1) 사이에 한 층의 기막(폭친)이 형성되고, 레티클 스테이지(4)는 기막의 작용하에 지지 베이스(1) 위에 떠있을 수 있으므로, 레티클 스테이지(4)와 지지 베이스(1) 사이의 접촉 마찰력 작용을 감소하여, X방향 운동 기구(3)와 Y방향 운동 기구(2)의 부하를 향상하여, 레티클 스테이지(4)의 운동 속도 및 운동 정밀도를 향상한다.
본 실시예에서, 적어도 레티클 스테이지(4) 밑면의 각 코너 부근에 하나의 공기 부상홀(421)이 배치된다. 선택적으로, 동일한 측변에 위치한 공기 부상홀(421)은 해당 측변의 수직 이등분선에 대응하게 대칭됨으로써, 공기 부상 작용 하의 레티클 스테이지(4)의 안정적인 지지를 구현한다. 다른 실시예에서, 레티클 스테이지(4) 밑면의 각각의 변에는 3 개 또는 다수의 공기 부상홀(421)이 더 배치된다.
본 실시예에서, 레티클 스테이지(4)의 하단면에는 공기 부상 돌출보스(42)가 배치되고, 공기 부상 돌출보스(42)의 표면은 레티클 스테이지(4)의 하면으로부터 돌출되며, 모든 공기 부상 돌출보스(42)의 끝면(end surface)은 동일한 평면 상에 위치하고, 공기 부상홀(421)은 공기 부상 돌출보스(42) 상에 배치됨으로써, 레티클 스테이지(4)와 지지 베이스(1)의 가공 난이도가 감소되고, 공기 부상 돌출보스(42)의 끝면 편평도가 향상되며, 동시에, 공기 부상에 필요한 기체 유량이 감소된다.
선택적으로, 본 실시예에서, 레티클 스테이지(4)의 밑면에는 프리로딩 돌출보스(43)가 돌출되게 배치되며, 프리로딩 돌출보스(43)의 단면은 공기 부상 돌출보스(42)의 단면과 평행된다. 프리로딩 돌출보스(43) 상에는 프리로딩 진공 챔버(431)가 배치되고, 레티클 스테이지(4) 내부에는 제2 흡착 기도가 배치되며, 제2 흡착 기도는 프리로딩 진공 챔버(431) 및 레티클 스테이지(4) 외부에 배치된 진공 장치와 각각 연통된다. 진공 장치에 의해, 지지 베이스(1)와 프리로딩 돌출보스(43) 사이의 기체가 프리로딩 진공 챔버(431)와 제2 흡착 기도를 통해 모두 배출되므로, 프리로딩 돌출보스(43)와 지지 베이스(1) 사이의 기체 흡착을 구현하여, 지지 베이스(1)와 레티클 스테이지(4) 사이의 안정적인 연결을 구현하며, 레티클을 올리거나 내리는 과정에서 레티클 스테이지(4)의 이동이 발생하는 하는 것을 방지하여, 레티클의 순리로운 전달를 보장한다.
본 실시에에서, 각각의 공기 부상 돌출보스(42)의 양측에는 모두 하나의 프리로딩 돌출보스(43)가 배치되어 있으므로, 레티클 스테이지(4)와 지지 베이스(1) 접촉면 사이의 기체가 유효적으로 전부 배출되는데 유리하다. 다른 실시예에서, 공기 부상 돌출보스(42)의 위치와 개수는 실제 수요에 따라 배치된다.
본 실시예에서, 레티클 스테이지(4)의 일측에는 공기 경로 어댑터 블록(44)이 배치되고, 공기 경로 어댑터 블록(44) 상에 대응되는 제1 흡착 기도와 제2 인플레이션 기도 및 인플레이션 기도에는 각각 기도 이음구(441)가 배치되므로, 레티클 스테이지(4) 내부의 제1 흡착 기도, 제2 인플레이션 기도 및 인플레이션 기도와 진공 장치 또는 인플레이션 장치 사이의 연결을 구현한다.
여기서 설명해야 할 것은, 에어풋 내에 흡착 기도 또는 진공 기도를 배치하는 것은 해당 분야의 통상적인 기술 수단으로, 본 실시예에서는 더이상 반복하여 설명하지 않는다.
본 실시예는 상기의 마스크 스테이지를 포함하는 포토리소그래피 시스템을 더 제공한다.
실시예 2
본 실시예는 지지 베이스(1), X방향 운동 기구(3), Y방향 운동 기구(2) 및 레티클 스테이지(4) 등을 포함하는 마스크 스테이지를 제공한다. 실시예 1에서 제공하는 마스크 스테이지와 비교할 때, 본 실시예에서 제공하는 마스크 스테이지의 지지 베이스(1), X방향 운동 기구(3) 및 Y방향 운동 기구(2) 등 배치는 모두 실시예 1의 마스크 스테이지에서의 배치와 동일하며, 상이한 부분은, 본 실시예에서 제공하는 마스크 스테이지의 레티클 스테이지(4)가 실시예 1의 레티클 스테이지(4) 구조와 상이한 것이다.
도 10은 본 발명의 실시예에서 제공하는 레티클 스테이지와 지지 베이스의 구조 개략도이고, 도 11은 본 발명의 실시예에서 제공하는 레티클 스테이지의 배면 구조 개략도이며, 도 10과 도 11에 도시된 바와 같이, 실시예 1과 상이하게, 본 실시예에서 제공하는 레티클 스테이지(4)는 비에어풋 구조이다. 레티클 스테이지(4)의 바닥부에는 공기 부상 패드(45)가 배치되고, 공기 부상 패드(45)와 레티클 스테이지(4)는 분리되게 배치되며, 접착 또는 핫 프레스 등 방식을 통해 연결된다. 공기 부상 패드(45)의 단면에는 배기구(451)가 배치되고, 공기 부상 패드(45) 내부에는 배기구(451)와 연통된 기도가 배치되며, 기도는 외부의 인플레이션 장치와 더 연통된다. 레티클 스테이지(4)와 연결되는 공기 부상 패드(45)를 배치함으로써, 레티클 스테이지(4) 내부에 공기 부상홀(421)의 배기를 위한 인플레이션 통로를 배치하지 않아도 되므로, 레티클 스테이지(4)의 가공이 간소화되고, 또한 일반적인 상용 공기 부상 패드(45)도 적용 가능하므로, 비용이 감소된다. 본 실시예에서, 공기 부상 패드(45)는 적어도 레티클 스테이지(4) 바닥부의 네 모서리에 배치되고, 동일 측변에 위치하는 2 개의 공기 부상 패드(45)는 해당 측변의 수직 이등분선에 대해 대칭되게 배치된다.
일 실시예에서, 레티클 스테이지(4)와 지지 베이스(1) 사이에는 전자석(46)과 금속 부재(15)를 포함하는 자기 프리로딩 어셈블리가 더 배치된다. 본 실시예에서, 전자석(46)은 레티클 스테이지(4) 바닥면에 배치되고, 금속 부재(15)는 전자석(46)의 위치에 대응되게 지지 베이스(1) 상에 배치된다. 전자석(46)에 전기를 통하고, 전자석(46)의 금속 부재(15)에 대한 자기작용을 통해, 레티클 스테이지(4)와 지지 베이스(1) 사이의 연결을 구현한다. 또한 금속 부재(15)가 지지 베이스(1) 상에 배치되므로, 긴 막대형의 금속 부재(15)가 Y방향으로 배치되는 것을 통해, 추가로 금속 부재(15)의 끝면이 동시에 프리로딩면과 공기 부상 가이드면이 될 수 있게 한다. 다른 실시예에서는, 금속 부재(15)가 레티클 스테이지(4) 바닥부에 배치되고, 전자석(46)이 지지 베이스(1) 상에 배치될 수도 있다.
본 실시예에서, 각각의 공기 부상 패드(45)의 양측에는 각각 하나의 전자석(46)이 배치됨으로써, 레티클 스테이지(4)와 지지 베이스(1) 사이의 안정적인 연결을 구현하고, 레티클을 올리고 내리는 안정성을 보장한다.
본 실시예에서 제공하는 마스크 스테이지의 다른 구조는 실시예 1을 참고하여 배치할 수 있으며, 본 실시예에서는 더이상 반복하여 설명하지 않는다.
본 실시예는 상기의 마스크 스테이지를 포함하는 포토리소그래피 시스템을 더 제공한다.
120-우 리니어 모터; 130-좌 리니어 모터; 140-미동 스테이지; 150-조동 스테이지; 160-가이드 레일; 170-X 방향 보이스 코일 모터; 180-Y방향 보이스 코일 모터;
1-지지 베이스; 11-장착 관통홀; 12-장착 돌출부; 121-제1 장착면; 13-제2 장착면; 14-제3 장착면; 15-금속 부재;
2-Y방향 운동 기구; 21-리니어 모터; 211-Y방향 고정자부; 212-Y방향 운동자부; 22-Y방향 가이드 어셈블리; 221-Y방향 가이드 레일; 222-Y방향 슬라이딩 블록; 23-제1 연결판; 24-고정 부재; 25-제1 격자 룰러(Grating ruler) 어셈블리; 251-제1 스케일 격자(scale grating); 252-제1 격자 판독 헤드(reading head); 26-광 위치 한정 어셈블리; 261-제1 광센서; 262-차광판; 27-유압 버퍼(hydraulic buffer); 28-제로(zero) 광센서;
3-X방향 운동 기구; 31-보이스 코일 모터; 311-X방향 운동자부; 312-X방향 고정자부; 32-X방향 가이드 어셈블리; 321-교차 롤러 가이드 레일; 33-제2 연결판; 34-슬라이딩판; 35-제2 격자 판독 헤드; 36-제2 광센서; 37-위치 한정 칼럼; 38-충돌 방지 구조; 39-제1 장착판; 310-제2 장착판;
4-레티클 스테이지; 41-적재 돌출보스; 411-흡착 진공 챔버; 42-공기 부상 돌출보스(Air floating boss); 421-공기 부상홀; 43-프리로딩(preloading) 돌출보스; 431-프리로딩 진공 챔버; 44-공기 경로 어댑터 블록(adapter block); 441-기도 이음구; 45-공기 부상 패드; 451-배기구; 46-전자석; 47-투광 관통홀;
5-어댑터 플레이트; 51-본체부; 52-보강판; 53-보강부;
6-변환 베어링.

Claims (21)

  1. 지지 베이스(1);
    상기 지지 베이스(1)의 상단면에 슬라이딩 연결되는 레티클 스테이지(4);
    상기 지지 베이스(1) 상에 배치되고, 상기 레티클 스테이지(4)의 Y방향으로의 양측에 각각 배치되는 2 세트의 Y방향 운동 기구(2); 및
    상기 Y방향 운동 기구(2) 상에 배치되고, 상기 레티클 스테이지(4)와 연결되는 X방향 운동 기구(3)-여기서, 상기 Y방향 운동 기구(2)는 상기 X방향 운동 기구(3)가 Y방향을 따라 운동하도록 구동하며, 상기 Y방향과 상기 X방향은 수직됨-; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지 베이스(1)는 제1 장착면(121) 및 제2 장착면(13)을 구비하고, 상기 제1 장착면(121) 및 상기 제2 장착면(13)은 각각 X방향과 Y방향이 형성한 평면에 평행되며, 상기 제1 장착면(121)은 상기 제2 장착면(13)보다 높고, 상기 레티클 스테이지(4)는 상기 제1 장착면(121) 상에 배치되며, 상기 Y방향 운동 기구(2)는 상기 제2 장착면(13) 상에 배치되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 X방향 운동 기구(3)와 상기 Y방향 운동 기구(2)는 회전 조정 어셈블리를 통해 연결되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 회전 조정 어셈블리는 변환 베어링(6)을 포함하며, 상기 X방향 운동 기구(3)와 상기 Y방향 운동 기구(2) 중의 하나가 상기 변환 베어링(6)의 내부링과 연결되고, 다른 하나는 상기 변환 베어링(6)의 외부링과 연결되며, 상기 변환 베어링(6)의 축선은 상기 X방향 및 상기 Y방향과 각각 수직되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 Y방향 운동 기구(2)는,
    리니어 모터(21)를 포함하며, 상기 리니어 모터(21)의 Y방향 고정자부(211)는 상기 지지 베이스(1)의 측면에 연결되고 상기 Y방향을 따라 배치되며, 상기 리니어 모터(21)의 Y방향 운동자부(212)는 상기 X방향 운동 기구(3)와 연결되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 Y방향 운동 기구(2)는,
    상기 Y방향에 따라 상기 제2 장착면(13) 상에 배치되는 Y방향 가이드 레일(221);
    상기 Y방향 가이드 레일(221)과 슬라이딩 연결되는 Y방향 슬라이딩 블록(222)-여기서, 상기 Y방향 슬라이딩 블록(222)과 상기 Y방향 운동자부(212)가 연결됨-; 을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 Y방향 운동 기구(2)는,
    제1 연결판(23)을 더 포함하고, 상기 제1 연결판(23)의 하단면과 상기 Y방향 슬라이딩 블록(222)이 연결되고, 상기 제1 연결판(23)의 상단면과 상기 X방향 운동 기구(3)가 연결되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 Y방향 운동 기구(2)는,
    상기 Y방향 운동 기구(2)가 상기 Y방향을 따라 운동하는 변위를 감지하기 위한 Y방향 변위 감지 장치; 및/또는
    상기 제2 장착면(13) 상에 배치되고, 상기 Y방향 운동 기구(2)의 제한 변위를 한정하기 위한 Y방향 위치 한정 장치; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 Y방향 변위 감지 장치는 제1 격자 룰러 어셈블리(25)를 포함하며,
    상기 제1 격자 룰러 어셈블리(25)는,
    상기 Y방향을 따라 상기 제2 장착면(13) 상에 배치되는 제1 스케일 격자(251);
    상기 제1 스케일 격자(251)와 대향되게 배치되고, 상기 Y방향 운동자부(212)와 연결되는 제1 격자 판독 헤드(252); 를 포함하며;
    상기 Y방향 위치 한정 장치는 광 위치 한정 어셈블리(26) 및/또는 위치 한정 버퍼 어셈블리를 포함하며,
    상기 위치 한정 버퍼 어셈블리는 상기 Y방향 운동 기구(2)의 2 개 제한 위치에 배치되는 유압 버퍼(27)를 포함하며,
    상기 광 위치 한정 어셈블리(26)는,
    상기 Y방향을 따라 이격되게 배치되며, 상기 X방향을 따라 대향되게 배치된 방사부 및 수신부를 각각 포함하는 2 개의 제1 광센서(261);
    상기 Y방향 운동자부(212)와 연결되고, 상기 방사부와 상기 수신부 사이에 삽입되어, 광선이 상기 방사부와 상기 수신부 사이에서 전달되는 것을 차단하는 차광판(262); 을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 X방향 운동 기구(3)는,
    보이스 코일 모터(31)를 포함하되, 상기 보이스 코일 모터(31)의 X방향 고정자부(312)는 상기 Y방향 운동 기구(2)와 연결되고, 상기 보이스 코일 모터(31)의 X방향 운동자부(311)는 상기 레티클 스테이지(4)와 연결되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 X방향 운동 기구(3)는,
    상기 X방향 운동 기구(3)가 상기 X방향을 따라 운동하는 변위를 감지하기 위한 X방향 변위 감지 장치; 및/또는
    상기 X방향 운동 기구(3)의 제한 변위를 한정하기 위한 X방향 위치 한정 장치; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 X방향 운동 기구(3)는,
    상기 Y방향 운동 기구(2) 및 상기 X방향 고정자부(312)와 각각 연결되는 제2 연결판(33);
    상기 제2 연결판(33)과 슬라이딩 연결되고, 상기 제2 연결판(33)에 대해 상기 X방향으로 슬라이딩하는 슬라이딩판(34)-여기서, 상기 슬라이딩판(34)은 상기 운동자부 및 상기 레티클 스테이지(4)와 각각 연결됨-; 을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 X방향 운동 기구(3)는,
    상기 X방향을 따라 상기 제2 연결판(33)과 상기 슬라이딩판(34) 사이에 배치되는 X방향 가이드 어셈블리(32)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 X방향 가이드 어셈블리(32)는,
    적어도 한 쌍의 평행되게 배치된 교차 롤러 가이드 레일(321)을 포함하며, 여기서, 한 쌍의 상기 교차 롤러 가이드 레일(321) 중의 하나는 상기 제2 연결판(33)과 연결되고, 다른 하나는 상기 슬라이딩판(34)과 연결되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크 스테이지는,
    어댑터 부재를 더 포함하고, 상기 X방향 운동 기구(3)는 상기 어댑터 부재를 통해 상기 레티클 스테이지(4)와 연결되며, 상기 어댑터 부재의 상기 Y방향에서의 강도는 상기 어댑터 부재의 상기 X방향 및 Rz방향에서의 강도보다 낮은 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  16. 제 1 항에 있어서,
    상기 레티클 스테이지(4)의 상단면에 흡착 진공 챔버(411)가 배치되고, 상기 레티클 스테이지(4)의 내부에 제1 흡착 기도가 배치되며, 상기 제1 흡착 기도는 상기 흡착 진공 챔버(411) 및 진공 장치와 각각 연결되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 레티클 스테이지(4)의 하단면에 공기 부상홀(421)이 배치되고, 상기 레티클 스테이지(4)의 내부에 인플레이션 통로가 배치되며, 상기 인플레이션 통로는 상기 공기 부상홀(421) 및 인플레이션 장치와 각각 연통되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 레티클 스테이지(4)의 하단면에 프리로딩 진공 챔버(431)가 배치되고, 상기 레티클 스테이지(4)의 내부에 제2 흡착 통로가 배치되며, 상기 제2 흡착 통로는 상기 프리로딩 진공 챔버(431) 및 상기 진공 장치와 각각 연통되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  19. 제 1 항에 있어서,
    상기 레티클 스테이지(4)의 하단면에 공기 부상 패드(45)가 배치되고, 상기 공기 부상 패드(45) 내에 기도가 배치되며, 상기 공기 부상 패드(45)의 하단면에 상기 기도와 연통되는 배기구(451)가 배치되고, 상기 공기 부상 패드(45)와 진공 장치가 연통되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  20. 제 1 항에 있어서,
    상기 레티클 스테이지(4)와 상기 지지 베이스(1) 사이에, 전자석(46) 및 금속 부재(15)를 포함하는 자기 프리로딩 어셈블리가 배치되고, 상기 레티클 스테이지(4)와 상기 지지 베이스(1) 중의 하나에 상기 전자석(46)이 배치되고, 다른 하나에 상기 금속 부재(15)가 배치되며, 상기 전자석(46)과 상기 금속 부재(15)는 대향되게 배치되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  21. 제 1 항 내지 제 20 항의 어느 한 항의 마스크 스테이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 시스템.
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