JP6929142B2 - 露光装置、および物品の製造方法 - Google Patents
露光装置、および物品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6929142B2 JP6929142B2 JP2017119884A JP2017119884A JP6929142B2 JP 6929142 B2 JP6929142 B2 JP 6929142B2 JP 2017119884 A JP2017119884 A JP 2017119884A JP 2017119884 A JP2017119884 A JP 2017119884A JP 6929142 B2 JP6929142 B2 JP 6929142B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- exposure
- shutter member
- amount
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
本発明に係る第1実施形態の露光装置100について、図1を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態の露光装置100の構成を示す概略図である。第1実施形態の露光装置100は、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置であり、基板3を露光することにより、基板上における複数のショット領域の各々にマスク2のパターンを転写する。ステップ・アンド・リピート方式とは、基板3が整定した状態で所定のショット領域を露光する露光工程と、次に露光が行われるショット領域まで基板3をステップ移動させるステップ工程とを繰り返し、基板上の各ショット領域に露光処理を行う方式である。
本発明に係る第2実施形態の露光装置について説明する。第1実施形態では、シャッタ部材30の回転速度を変更することにより速度プロファイルを変更する例について説明した。一方、本実施形態では、シャッタ部材30の減速開始タイミング(図3の時刻tf)を変更することにより速度プロファイルを変更する例について説明する。即ち、本実施形態の露光装置は、検出部Sで検出された露光光の強度に基づいて、基板3の露光量が目標露光量になるように、速度プロファイルの等速期間の長さを変更する。ここで、本実施形態の露光装置は、第1実施形態の露光装置100と装置構成は同様である。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像(加工)する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (13)
- 基板を露光する露光装置であって、
光源からの光を遮断する複数の遮断部分を有し、前記複数の遮断部分の間で前記光を通過させるシャッタ部材と、
前記シャッタ部材を駆動する駆動部と、
前記複数の遮断部分の間を通過した前記光の強度を検出する検出部と、
前記光が遮断部分で遮断された遮断状態から、前記光が前記複数の遮断部分の間を通過して前記基板を照射する照射状態を経て、再び前記遮断状態にするための駆動プロファイルに従って前記駆動部を制御する制御部と、
を含み、
前記駆動プロファイルは、前記シャッタ部材を加速駆動する加速期間と、前記シャッタ部材を等速駆動する等速期間と、前記シャッタ部材を減速駆動する減速期間とを含み、
前記制御部は、前記照射状態において前記検出部で検出された前記光の強度に基づいて、前記減速期間における前記シャッタ部材の減速度が前記駆動プロファイルの変更前後で変わらないように、且つ前記基板の露光量が目標露光量になるように前記駆動プロファイルを変更する、ことを特徴とする露光装置。 - 前記制御部は、前記検出部で検出された前記光の強度と規定値との誤差に応じて、前記等速期間における前記シャッタ部材の速度を変更することにより前記駆動プロファイルを変更する、ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記誤差と前記シャッタ部材の速度の変更量との関係を示す情報に基づいて前記駆動プロファイルを変更する、ことを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記検出部で検出された前記光の強度と規定値との誤差に応じて、前記シャッタ部材の減速開始タイミングを変更することにより前記駆動プロファイルを変更する、ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記等速期間の長さを変更することにより前記減速開始タイミングを変更する、ことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記等速期間における前記シャッタ部材の速度が変わらないように前記駆動プロファイルを変更する、ことを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記減速開始タイミングの変更量と前記減速開始タイミングの変更前後での積算光量の変化率との関係を示す情報に基づいて、前記検出部で検出された前記光の強度と前記規定値との比率に前記変化率を乗じた値が1となるときの前記減速開始タイミングの変更量を求め、求めた変更量によって前記駆動プロファイルを変更する、ことを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記駆動プロファイルに従った前記シャッタ部材の駆動の終了後、前記シャッタ部材と前記光との位置関係を、当該駆動の開始時における位置関係に補正する、ことを特徴とする請求項4乃至7のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記駆動プロファイルは、前記光の強度が規定値であると仮定した場合に、前記基板の露光量が前記目標露光量となるように設定されている、ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記駆動部は、前記シャッタ部材を回転駆動することにより前記基板への前記光の照射と非照射とを切り替える、ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記駆動プロファイルは、前記シャッタ部材を停止させることなく、前記遮断状態から前記照射状態を経て、再び前記遮断状態にするように設定されている、ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の露光装置。
- 基板を露光する露光装置であって、
光源からの光を遮断する複数の遮断部分を有し、前記複数の遮断部分の間で前記光を通過させるシャッタ部材と、
前記シャッタ部材を駆動する駆動部と、
前記複数の遮断部分の間を通過した前記光の強度を検出する検出部と、
前記光が遮断部分で遮断された遮断状態から、前記光が前記複数の遮断部分の間を通過して前記基板を照射する照射状態を経て、再び前記遮断状態にするための駆動プロファイルに従って前記駆動部を制御するとともに、前記照射状態において前記検出部で検出された前記光の強度に基づいて、前記基板の露光量が目標露光量になるように前記駆動プロファイルを変更する制御部と、
を含み、
前記制御部は、前記検出部で検出された前記光の強度と規定値との誤差に応じて、前記シャッタ部材の減速開始タイミングの変更量と前記減速開始タイミングの変更前後での積算光量の変化率との関係を示す情報に基づいて、前記検出部で検出された前記光の強度と前記規定値との比率に前記変化率を乗じた値が1となるときの前記減速開始タイミングの変更量を求め、求めた変更量によって前記駆動プロファイルを変更する、ことを特徴とする露光装置。 - 請求項1乃至12のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光された前記基板を加工する加工工程と、を有し
前記加工工程で加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017119884A JP6929142B2 (ja) | 2017-06-19 | 2017-06-19 | 露光装置、および物品の製造方法 |
TW107119099A TWI694313B (zh) | 2017-06-19 | 2018-06-04 | 曝光裝置及物品之製造方法 |
KR1020180069506A KR102359802B1 (ko) | 2017-06-19 | 2018-06-18 | 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017119884A JP6929142B2 (ja) | 2017-06-19 | 2017-06-19 | 露光装置、および物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019003145A JP2019003145A (ja) | 2019-01-10 |
JP2019003145A5 JP2019003145A5 (ja) | 2020-07-16 |
JP6929142B2 true JP6929142B2 (ja) | 2021-09-01 |
Family
ID=65006119
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017119884A Active JP6929142B2 (ja) | 2017-06-19 | 2017-06-19 | 露光装置、および物品の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6929142B2 (ja) |
KR (1) | KR102359802B1 (ja) |
TW (1) | TWI694313B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7241564B2 (ja) * | 2019-02-22 | 2023-03-17 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
JP7286365B2 (ja) * | 2019-03-25 | 2023-06-05 | キヤノン株式会社 | シャッタ装置、露光装置および物品製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5952246A (ja) * | 1982-09-20 | 1984-03-26 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 露光制御装置 |
JPS60144745A (ja) * | 1984-01-05 | 1985-07-31 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 露光装置 |
JPH04229843A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-19 | Canon Inc | 露光装置用シャッタ |
JPH04361522A (ja) * | 1991-06-10 | 1992-12-15 | Hitachi Ltd | シャッタ制御装置 |
JPH0555106A (ja) * | 1991-08-28 | 1993-03-05 | Canon Inc | 露光量制御装置 |
JPH06120103A (ja) * | 1992-10-07 | 1994-04-28 | Canon Inc | 露光装置 |
JP4346320B2 (ja) * | 2003-02-05 | 2009-10-21 | 大日本印刷株式会社 | 露光方法及び露光装置 |
JP5025250B2 (ja) * | 2006-12-15 | 2012-09-12 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP6415057B2 (ja) * | 2014-02-07 | 2018-10-31 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
JP6861463B2 (ja) * | 2015-06-16 | 2021-04-21 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び物品の製造方法 |
-
2017
- 2017-06-19 JP JP2017119884A patent/JP6929142B2/ja active Active
-
2018
- 2018-06-04 TW TW107119099A patent/TWI694313B/zh active
- 2018-06-18 KR KR1020180069506A patent/KR102359802B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019003145A (ja) | 2019-01-10 |
TWI694313B (zh) | 2020-05-21 |
KR20180138167A (ko) | 2018-12-28 |
KR102359802B1 (ko) | 2022-02-09 |
TW201905601A (zh) | 2019-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0632331B1 (en) | Exposure apparatus and microdevice manufacturing method using the same | |
TWI464540B (zh) | 微影裝置及器件製造方法 | |
JP6929142B2 (ja) | 露光装置、および物品の製造方法 | |
JP6415057B2 (ja) | 露光装置、および物品の製造方法 | |
JP2000106339A (ja) | 投影露光装置及びデバイスの製造方法 | |
US10274828B2 (en) | Lighting system of a microlithographic projection exposure system and method for operating such a lighting system | |
US10921717B2 (en) | Exposure apparatus and article manufacturing method | |
JP7352332B2 (ja) | 露光装置 | |
JP6779721B2 (ja) | 検出装置、検出方法、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
US20140340661A1 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing article | |
US6411365B1 (en) | Exposure method and exposure apparatus | |
JP5986538B2 (ja) | 露光装置および物品の製造方法 | |
US11099488B2 (en) | Exposure apparatus and article manufacturing method | |
US20230393486A1 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing article | |
TW202318114A (zh) | 曝光裝置、曝光方法及物品之製造方法 | |
KR20230164566A (ko) | 노광 장치, 노광 방법, 및 물품의 제조 방법 | |
CN112506007A (zh) | 快门装置、光量控制方法、光刻装置及物品制造方法 | |
JP2006190776A (ja) | 描画装置 | |
JPH0465116A (ja) | 周縁露光装置 | |
JPH07307272A (ja) | 走査型露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200518 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200518 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20210103 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210317 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210322 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210513 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210712 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210810 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6929142 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |