JP2016180987A - 照明システム - Google Patents

照明システム Download PDF

Info

Publication number
JP2016180987A
JP2016180987A JP2016092896A JP2016092896A JP2016180987A JP 2016180987 A JP2016180987 A JP 2016180987A JP 2016092896 A JP2016092896 A JP 2016092896A JP 2016092896 A JP2016092896 A JP 2016092896A JP 2016180987 A JP2016180987 A JP 2016180987A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
illumination sources
illumination
light output
sources
source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016092896A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016180987A5 (ja
JP6419104B2 (ja
Inventor
カスキー、ジェフリー
Kaskey Jeffrey
レイディグ、トーマス
Laidig Thomas
マークル、デビッド
Markle David
チェン、ジャンファン
Jang Fung Chen
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Materials Inc
Original Assignee
Applied Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Applied Materials Inc filed Critical Applied Materials Inc
Publication of JP2016180987A publication Critical patent/JP2016180987A/ja
Publication of JP2016180987A5 publication Critical patent/JP2016180987A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6419104B2 publication Critical patent/JP6419104B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B47/00—Circuit arrangements for operating light sources in general, i.e. where the type of light source is not relevant
    • H05B47/10—Controlling the light source
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B47/00—Circuit arrangements for operating light sources in general, i.e. where the type of light source is not relevant
    • H05B47/20—Responsive to malfunctions or to light source life; for protection
    • H05B47/21—Responsive to malfunctions or to light source life; for protection of two or more light sources connected in parallel
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B47/00—Circuit arrangements for operating light sources in general, i.e. where the type of light source is not relevant
    • H05B47/20—Responsive to malfunctions or to light source life; for protection
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B47/00—Circuit arrangements for operating light sources in general, i.e. where the type of light source is not relevant
    • H05B47/20—Responsive to malfunctions or to light source life; for protection
    • H05B47/29—Circuits providing for substitution of the light source in case of its failure
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Circuit Arrangement For Electric Light Sources In General (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

【課題】照明システム及び該照明システムを制御するための方法を提供する。【解決手段】複数の照明源を提供するステップと、複数の照明源の光出力を或る期間にわたってモニタするステップと、予め定められたレベルの光出力を維持するべく、複数の照明源を制御するステップとを含み、予め定められたレベルの光出力を維持するべく、複数の照明源のうちの１以上の照明源の劣化を補償するステップと、照明システムの寿命を複数の照明源のパラメータに基づいて予測するステップと、複数の照明源の定期メンテナンスを品質管理スケジュールに従って実行するステップとをさらに含む。【選択図】図９

Description

（関連出願の相互参照）
本出願は、２０１１年９月３０日に出願された米国仮出願第６１／５４１，４８４号（
照明システム）に基づく優先権を主張する２０１２年９月２７日に出願された米国非仮特
許出願第１３／６２９，３８２号に基づく優先権を主張するものである。上述した米国特
許出願は、その全体が参照により本明細書に援用されるものとする。
（発明の分野）
本発明は、リソグラフィ製造の分野に関する。より具体的には、本発明は、複数の照明
源を有する照明の寿命を向上させるためのシステム及び方法に関する。
リソグラフィ製造法は、例えば半導体集積回路（ＩＣ）、プリント基板（ＰＣＢ）、発
光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザダイオード（ＬＤ）、フラットパネルディスプレイ（Ｆ
ＰＤ）、水晶振動子（ＱＯ）、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）部品などの電子デバイ
スの製造、並びに、例えばバンプボンディング、薄膜ヘッド（ＴＦＨ）及びマルチチップ
モジュール製造、シリコン貫通電極を用いた３Ｄパッケージング、及び関連する現代の電
子デバイス及び／または光学デバイスなどの他の電子用途のための大量生産方法として選
択されてきた。
リソグラフィプロセスにおける大量生産についての問題の１つは、基板間、ロット間及
び日々の間で、仕様範囲内での安定的かつ一定的なパターニング性能を確実にすることで
ある。目標は、よく設定されたプロセスウィンドウを維持し、それにより、製造に使用さ
れるリソグラフィツールの望ましくない装置休止時間を最小限に抑えながら、有益な製造
歩留まりを確実にすることである。
従来、現代の電子デバイス及び光学デバイスを製造するためのリソグラフィ技術は、半
導体ＩＣを作製するためのリソグラフィプロセス技術に由来していた。様々な種類の基板
のパターニングに使用されるリソグラフィ露光ツールの大部分は、接触アライナまたは近
接アライナ、プロジェクションステッパ、またはスキャナーシステムである。ツールの種
類に関わらず、大体の目安としての、プロセスウィンドウ制御仕様に応じて、照射野内で
は照明強度を約１〜２％以下で均一に保つことが望ましい。
そのような厳しい照明制御条件の理由は、主に、総露光エネルギーに大きく左右される
というフォトレジストの画像形成特性に起因する。化学線露光波長については、露光エネ
ルギー（ミリジュール（ｍＪ））は、光強度（ミリワット／平方ｃｍ）と時間（秒）の積
である。プリントされたフィーチャの線幅の均一性が仕様範囲内になるように制御するた
めには、まず考慮すべきことは、照明強度が一定的かつ安定的になることを確実にするこ
とである。公称露光エネルギーについては、強度レベルを高くすると、露光時間を短くす
ることができ、露光スループットを高めることができる。もしも照明強度が低くなったら
、同じ公称露光エネルギーを得るためには、露光時間を増加させることによって補償する
ことができる。従って、公称露光エネルギーを用いる一般的なリソグラフィ製造法では、
光強度レベルをモニタすることが望ましい。
従来のリソグラフィ露光ツールは、例えば水銀短アークランプまたはエキシマレーザを
用いる単一照明源を想定して設計されてきた。水銀アークランプの寿命は、数百時間であ
る。エキシマレーザの場合、レーザ発光に用いられるガスを、動作後の１年以内に再充填
する必要がある。両タイプの照明源の寿命及び故障モードはよく特徴付けられているので
、単一照明源の光強度をモニタすることは比較的容易である。
従来は、実行可能な代案がないため、産業界は、限られた寿命及び水銀アークランプに
用いられる過剰な電気エネルギーに慣れている。露光スループットを向上させるためには
、より高い光強度を生成する必要がある。一般的に、１Ｋワットの入力電力の仕様を有す
る水銀アークランプでは、所望の化学線露光波長、例えば３６５ｎｍを生成するためには
、インライン光学フィルタを通過させる。使用する光学システムに応じて、約１００〜２
００ｍワットの光強度を、フォトレジスト面に供給することができる。１００ｍＪの公称
露光エネルギーについては、０．５〜１秒の露光時間が用いられる。
前記ランプが劣化すると、化学線光出力が減少し、より長い露光時間が用いられる。数
百時間の動作後は、前記ランプの出力は非常に低くなるか、または出力が完全になくなる
。水銀アークランプを用いるこのようなリソグラフィ製造法では、一般的に行われるリソ
グラフィモニタプロセスは、光強度レベルを毎日検査することである。各プロセスロット
では、テスト露光が行われる。レジストの現像後、仕様範囲を対照として、フィーチャの
線幅を測定する。その後、目標線幅がプリントされるように、露光時間を調節するか、ま
たは露光エネルギー設定を変更する。
高圧水銀アークランプ光源の交換は、迅速なランプ交換プロセスではない。前記ランプ
は、扱うためには、オフにして冷却させる必要がある。新しいランプを取り付けた後、ア
ーク光源は、光強度及び均一性が最良となるように最適化するために、焦点合わせ及び調
節を行う必要がある。この作業を達成して、前記ツールが製造を再開することが可能にな
るまでに、通常数時間かかる。動作中は、２〜４週間毎に、ランプ交換のために、同じ作
業を繰り返す必要がある。主要光出力帯域がＵＶ付近から可視領域である水銀アークラン
プとは異なり、エキシマレーザでは、光出力波長は、２４８ｎｍまたは１９３ｎｍの深Ｕ
Ｖ領域である。エキシマ照明システムのコストは、１００万ＵＳドルの範囲である。照明
メンテナンスは、はるかに複雑であり、数日を要する。一般的に、エキシマガスの再充填
及び調節を、半年毎または１年毎に行う必要がある。
そのため、従来の照明システムの上記の問題点を解決することが求められている。
本発明は、照明源を有する照明システムの要求を解決する方法であって、例えばＬＥＤ
、ダイオードレーザまたは固体レーザなどを有する照明システムの出力強度の調節及び寿
命の予測をすることができる方法を提供する。本発明は、最大寿命を実現するべく、マル
チエミッタ照明システムを制御及びモニタし、前記照明システムの予測寿命を立ててリフ
ァイン（精密化）し、１以上の照明源のランダムな予想外の故障を補償し、そして、前記
補償が実現不能である場合に警告を発し、画像化システムのアクティブ動作時間をほとん
どまたは全く犠牲にすることなく、画像化システムの動作中に照明システムをモニタする
方法を含む。別の実施形態では、本発明は、所望の照明形状に形成することができ、アラ
イメント用途または多波長露光用途にかかわらず多波長放射源と組み合わせることができ
るマルチエミッタベース照明源の使用を提供する。
本発明は、照明システム及び該照明システムを制御するための方法を提供する。一実施
形態では、本発明の方法は、複数の照明源を提供するステップと、前記複数の照明源の光
出力を或る期間にわたってモニタするステップと、予め定められたレベルの光出力を維持
するべく、前記複数の照明源を制御するステップとを含む。本発明の方法は、前記予め定
められたレベルの光出力を維持するべく、前記複数の照明源のうちの１以上の光源の劣化
を補償するステップと、前記照明システムの寿命を前記複数の照明源のパラメータに基づ
いて予測するステップと、前記複数の照明源の定期メンテナンスを品質管理スケジュール
に従って実行するステップとをさらに含む。
別の実施形態では、本発明は、少なくとも１つのプロセッサと、前記少なくとも１つの
プロセッサと協働するように構成された制御装置とを含む照明システムを提供する。前記
制御装置は、複数の照明源を提供するように構成されたロジックと、前記複数の照明源の
光出力を或る期間にわたってモニタするように構成されたロジックと、予め定められたレ
ベルの光出力を維持するべく、前記複数の照明源を制御するように構成されたロジックと
を含む。
さらに別の実施形態では、本発明は、１以上のコンピュータシステムにより実行するた
めのコンピュータプログラムを格納する非一時的な媒体を含むコンピュータプログラム製
品を提供する。本発明のコンピュータプログラム製品は、複数の照明源を提供するように
構成されたコードと、前記複数の照明源の光出力を或る期間にわたってモニタするように
構成されたコードと、前記光出力を予め定められたレベルに維持するべく、前記複数の照
明源を制御するように構成されたコードとを含む。
上述した本発明の特長及び利点、並びにさらなる特長及び利点は、以下の図面と併せて
本発明のいくつかの態様の詳細な説明を読んだ後により明確に理解できるであろう。
本発明のいくつかの態様による、照明源の光出力対注入電力の例示的なグラ フを示す。 本発明のいくつかの態様による、長時間にわたって一定の光出力を提供する ために用いられる電流の例示的な説明を示す。 本発明のいくつかの態様による、エミッタの劣化過程の例示的なシナリオを 示す。 本発明のいくつかの態様による、エミッタの寿命にわたる消耗の確率のプロ ットを示す 本発明のいくつかの態様による、光出力対順方向電流のプロットを示す。 本発明のいくつかの態様による、レーザダイオードをファイバに結合させる 例示的な方法を示す。 本発明のいくつかの態様による、ファイバ束モジュールを形成する例示的な 方法を示す。 本発明のいくつかの態様による、ブレンド多重露光の例示的な方法の画像出 力を示す。 本発明のいくつかの態様による、照明システムを制御する方法を示す。
以下の説明は、当業者が本発明を製造及び作成することを可能にするように記載されて
いる。いくつかの態様および用途の具体的な説明は例としてのみ提供される。本明細書に
記載の実施例の種々の改変および組み合わせは当業者には容易に明らかであり、本明細書
に定義される一般原理は、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、他の実施例お
よび用途に適用することができる。従って、本発明は、説明及び図示した例に限定される
ものではなく、本明細書に開示した原理及び特徴と一致する最も広い範囲を与えられる。
本発明のいくつかの態様によれば、リソグラフィ製造におけるコスト効率の高い照明の
ために、従来の水銀アークランプを、ＬＥＤやレーザダイオードなどの固体光子放射源で
置き換えることができる。これらの固体光子源のフォームファクタは、従来の水銀アーク
ランプとは全く異なる。例えば、窒化ガリウム（ＧａＮ）レーザダイオードを例にとると
、この光子放射デバイスは、非常に小さく、数ミリメートルの寸法を有する。最近の開発
進歩からすると、単一のＧａＮレーザダイオードについての電力により、約１ワットの出
力を生成することができる。この値は、キロワットの出力を生成することができるキロワ
ット水銀アークランプと比較すると、非常に小さく見えるであろう。
従来の水銀アークランプの発光は複数の波長帯域からなり、単一波長露光のためにフィ
ルタ除去する必要がある。一方、ＧａＮレーザダイオードは、単色露光波長を効率的に放
射する。注意深い設計によってダイオードレーザ源を光ファイバに結合させた場合、光伝
搬における光子損失はほんのわずかしか生じない。１０〜１２ワットの単一の放射源を模
倣するべく、対応するＧａＮエミッタ（emitter）に各々接続された光ファイバ束を組み
合わせると、水銀アークランプの４〜５キロワットに相当する所望の露光エネルギーのた
めの十分すぎるほどの光照明強度を生成することができる。
固体光子エミッタは、１万時間の動作寿命を超える範囲の長い寿命を有することが知ら
れている。これは、時間とともに、装置休止時間が大幅に減少すること、及び、電力が大
幅に節約されること示すので、製造業者にとって魅力的である。このようなマルチエミッ
タ（multi-emitter）照明源では、長い寿命にわたって、光強度レベルを安定かつ一定に
最良に維持するための方法が課題となる。
いくつかのリソグラフィ用途では、特に、例えば３ミクロンを超えるフィルム厚さを有
する厚いフォトレジストフィルムを露光する場合は、総強度レベルを高めるために複数の
露光波長を用いることが好ましい。加えて、このことにより、定常波を最小限に抑えるこ
とができ、それにより、より厚いレジストフィルムのときにより大きい焦点距離（ＤＯＦ
）を達成することができる。この場合、広帯域幅の光学フィルタが、照明源としての水銀
アークランプに適用される。しかしながら、或る化学線波長と別の化学線波長とのピーク
強度比は、水銀アーク放射源の特性によって決定される。マルチエミッタ照明光源を用い
る場合、本発明の照明システムは、互いに異なる波長を放射するダイオードレーザ及び／
またはＬＥＤを含むファイバ束を組み合わせた場合、或る露光波長と別の露光波長とのピ
ーク強度比を最適化するように構成することができる。加えて、本発明の照明システムは
、ＬＥＤ照明源を用いたアライメント波長を含むように構成することができる。状態スラ
イド（state slide）エミッタを用いることにより、混合比波長露光をどのように適用す
るかという選択を、露光中に選択的に調節することができる。
照明システムが複数の照明源、例えばＬＥＤやレーザに基づいている、例えばフォトリ
ソグラフィ用のシステムでは、総照明強度を或る期間にわたって安定かつ正確に保つこと
が望ましい。また、製造環境の経時的変化に起因する、照明源を劣化させて寿命を短くす
る様々な因子を制御することが望ましい。そのような因子としては、これに限定しないが
、例えば、（１）照明源の光出力が経時的に変化すること、（２）光及び電力の閾値を超
えて動作させたときに損傷を受けやすいこと、（３）様々な最小駆動レベルを有すること
、（４）出力が入力電流または電力に対して、あるいは特定の動作パラメータに対して一
定の関係を維持しないことがある。加えて、製造工程は、より長いかつ予測可能なメンテ
ナンスサイクルの利益を享受することができる。よって、照明寿命を最適化及び最大化す
るように構成されたシステムは有益である。
図１は、本発明のいくつかの実施形態による、照明源の光出力対注入電流の例示的なグ
ラフを示す。このグラフは、Ｐ／Ｉ曲線１０２とも呼ばれる。垂直軸はミラーファセット
（mirror facet）あたりの光出力（Ｗ）を示し、水平軸は注入電流（Ａ）を示す。光出力
は、ダイオードを通過する電流を関数として変化する。閾値電流Ｉｔｈよりも低くバイア
スした場合、出力は低くなる。電流が閾値Ｉｔｈを超えて増加する場合、出力はｄＰ／ｄ
Ｉの割合で増加する。閾値電流の上側でのＰ／Ｉ曲線の勾配は、レーザダイオードの勾配
率と呼ばれ、ｄＰ／ｄＩと定義される。ｄＰは、光出力の変化量であり、ｄＩは、ダイオ
ードを通過する順方向電流の変化量である。勾配率の単位は、ｍＷ／ｍＡである。閾値電
流は一般的に、２５〜２５０ｍＡの範囲内であり、光出力は一般的に、１〜１０ｍＷの範
囲内である。
いくつかのエミッタ、例えばＧａＮレーザダイオード、及びいくつかの形態の固体レー
ザは、壊滅的に故障することはないが、経年劣化により故障する傾向にある。経年劣化過
程中は、所与の出力を提供するためには、電流を増加させることが望ましい。図２は、本
発明のいくつかの態様による、或る期間にわたって一定の光出力を提供するために用いら
れる電流の例示的な説明を示す。垂直軸は、一定の出力を提供するための電流を示し、水
平軸は時間を示す。図２に示すように、電流対出力の比率２０２は、Ｔ０からＴ１までは
、実質的に同一に保たれる。しかし、時間が経つと（Ｔ１後は）、同一の光出力を提供す
るためには、システムにとっては、電流レベルを増加させることが望ましい。例えば、Ｔ
２の時点では、順方向電流レベルは、初期電流値の１．２倍が必要となる。いくつかの用
途では、このより高い順方向電流レベルによって、Ｔ２でレーザダイオードの寿命末期に
達したと判断することができる。いくつかの別の用途では、別の寿命末期の電流レベルが
、装置の自動出力制御回路の制限に従って定義される。
レーザダイオードは、サージ電流に起因する壊滅的光学損傷（catastrophic optical d
amage：ＣＯＤ）を受けるおそれがある。光出力を高めるために電流レベルを増加させる
と、レーザダイオードの縁部でショートが発生し得る。ショートが発生した場合、出力の
急激な低下、及び回復不能な損傷が生じる。照明システムのレーザダイオードを損傷させ
るおそれがある瞬間的なまたは短時間の電流スパイクを防ぐことが望ましい。多くの場合
、前記サージは、レーザダイオードを完全に破壊しないが、レーザダイオードの動作寿命
を短くする。照明システムまたはレーザダイオードの寿命を向上させるためには、レーザ
ダイオードを低電流レベルで動作させることが望ましい。
図３は、本発明のいくつかの態様による、エミッタの経年劣化過程の例示的なシナリオ
を示す。垂直軸は、出力電流ＩＯＰ（ｍＡ）を示し、水平軸は、劣化時間（時間）を示す
。本発明のいくつかの態様によれば、本発明の照明システムは、劣化メカニズム及び特徴
の割合を厳密にモニタし、パラメータを能動的に制御調節するように構成される。その結
果、本発明の照明システムは、現状下での所与のエミッタの予測寿命をリファイン（精密
化）することが可能となり、また、既知モデルへの外挿により、変更された動作下での寿
命を予測するのに役立つ。或るアプローチでは、変更に利用可能なパラメータの１つは、
電流である。別のアプローチでは、他の変数、例えばエミッタの個数が、変更に利用可能
である。いくつかの実施では、温度、照明強度、電圧降下、及び駆動電流などの特徴をモ
ニタしてもよい。
本発明のいくつかの態様によれば、個々のデバイスの寿命は、次の条件の１つに少なく
とも基づく消耗の程度として求められる。前記条件には、これに限定しないが、例えば、
（１）出力の安定的な維持に、駆動電流（または電力）の一定の割合の増加が必要な時点
、（２）安定的な駆動電流（または電力）で、強度が一定の割合で減少する時点、が含ま
れる。図４は、本発明のいくつかの態様による、エミッタの寿命を通じての、消耗の確率
のプロットを示す。垂直軸は、確率（パーセンテージ）を示し、水平軸は、時間（使用時
間）を示す。
これらの変化は、数分ではなくて数時間にわたって起こるので、個々のエミッタの特徴
は、画像化工程間で測定することができる。モニタ及び制御に利用可能な画像化工程間の
時間は、全てのエミッタについてのモニタ／制御動作を完了するのに用いられる時間より
も短い。本発明のいくつかの態様によれば、これらの測定値は、複数のインターイメージ
ング期間（inter-imaging period）に分布している。
１つのアプローチは、全てのエミッタの消耗時点が等しくなるように照明レベルを設定
することである。現状下での各エミッタの個々の寿命は、最初は、特徴または他のプログ
ラムされたデータを用いたモデルに基づいて、その後は、工程の過程中に得られた測定値
を加えることにより、予測することができる。制御装置は、全てのエミッタについての新
しい動作パラメータを、各エミッタの出力対電流比に基づいて計算する。
図５は、本発明のいくつかの態様による、光出力対順方向電流のプロットを示す。図５
に示すように、垂直軸は、光出力Ｐｏ（ｍＷ）を示し、水平軸は、順方向電流のＩｆ（ｍ
Ａ）を示す。このプロットは、照明システムの目標電力での、全てのエミッタについての
等しい予測寿命をもたらす閾値及び効率の例を含む。これは、互いに異なる動作温度下で
は、閾値及び望ましい順方向電流がシフトされることを示す。システム信頼性の向上した
確実さを提供するために、制御装置は、１以上のエミッタの故障を推定する新しい動作パ
ラメータの同様の計算を行う。これらの新しいパラメータが、消耗または最大スペック限
度に違反する場合、冗長性が失われたことを示す警報が発せられる。
本発明のいくつかの態様によれば、本発明の照明システムは、複数の照明源（例えば、
エミッタ）を含む。各エミッタの強度は、個別に遠隔制御することができる。個々のエミ
ッタは、例えば照明センサによるビームスプリッタを通じてサンプリングされ記録される
。いくつかのアプローチでは、記録されたデータは、電流対光出力モデル及び劣化予測モ
デルへの適用に用いることができる。劣化予測モデルは、新しい動作パラメータを計算す
ることにより、エミッタの予測寿命を均等化するのに用いることができる。動作パラメー
タを積極的に適用することにより、頻繁な測定を行わないでも、照明を一定に保つことが
できる。いくつかの別のアプローチでは、１以上のエミッタの損失を補償しながら、冗長
性に対処するために、及び照明システムの寿命を予測するために、同一のモデルを使用す
ることができる。制御装置は、光出力の限度、電力の限度、及び各エミッタの範囲をモニ
タするように構成することができる。制御装置はまた、エミッタの照明出力に関連して、
照明装置の予測寿命を見直す（またはリレベル（re-level）する）ように構成することが
できる。
本発明のいくつかの態様によれば、画像化プロセスの最後に、光経路上に物体が存在す
る場合はシャッタをアクティブにし、劣化に関しての既存モデルパラメータに基づいて新
しいエミッタ電流を計算して適用する。このやり方によれば、各エミッタを毎回サンプリ
ングすることなく、照明を実質的に一定に保つことができる。時間が許せば、その後、個
別のエミッタをオン、他のエミッタをオフにして、出力レベルを測定し記録する。前記出
力レベルが電流モデルパラメータに適合せず、差が著しいと制御装置によって判断された
場合、照明システムの照明源の新しい制御設定を決定するために、新しい出力レベルが制
御装置によって計算される。
いくつかの実施では、露光間の処理時間の利点を利用して、次回の画像化プロセスの開
始前に、測定、記録及び計算のサイクルを所望に応じて何度でも繰り返すことができる。
このプロセスは、各エミッタまたは各エミッタ群について繰り返される。次回の画像化プ
ロセスの最後には、次のエミッタまたは次のエミッタ群について、測定／記録／計算のプ
ロセスを再び開始してもよい。
本発明の照明システムは、これに限定しないが下記の条件（１）〜（３）に従って照明
源を制御及び管理するように構成することができることに留意されたい。（１）新しい電
流は予測的に適用しないが、測定後に、測定レベルと所望のレベルとの差が著しかった場
合に適用される。（２）照明が単一のエミッタであるが、各調節のための測定を必要とせ
ずに照明駆動レベルを積極的に設定するために、劣化予測モデルを用いることができる。
（３）１以上のエミッタの故障に基づいた予測寿命に従って、冗長性を評価することがで
きる。
図６は、本発明のいくつかの態様による、レーザダイオードをファイバに結合させる例
示的な方法を示す。図６ａに示すように、球形レンズまたはレンズダブレット２０２を、
レーザダイオードファセット６０４をファイバコア６０６にイメージングするのに使用す
ることができる。図６ｂは、ファイバレンズ６１０を用いて、レーザダイオードファセッ
ト６０４からマルチモードファイバ６１２への光線を速軸方向へコリメートする、別の形
態の結合を示す。
図７は、本発明のいくつかの態様による、ファイバ束モジュールを形成する例示的な方
法を示す。説明を簡単にするために、図７では、ファイバコアのみを示しており、ファイ
バクラッド、またはファイバコアを取り囲む外層は示していないことに留意されたい。ま
た、各円は、本発明のいくつかの例における照明源を示す。また、このタイプのファイバ
束は、光通信産業では一般的に用いられている従来のタイプのファイバコンバイナ（fibe
r combiner）とは異なることに留意されたい。従来のタイプのファイバコンバイナでは、
複数の入力ファイバが、互いに「融合されて（fused）」１本のファイバにされているか
、または、「コア内で接触結合されて（touch joined）」出力として一本のファイバを有
するようにされる。
この例では、図７（ａ）は、同一タイプのエミッタ（円として示されている）を有する
例示的なファイバ束モジュール７０２を示す。このモジュールは、エミッタ（またはライ
トパイプ）にフル実装されておらず、中央部分は空である。図７（ｂ）は、フル実装され
た別の例示的なファイバ束モジュール７０４を示す。ファイバ束モジュール７０２及び７
０４は、特定用途の要件に従って、互換的に用いることができる。言い換えれば、ファイ
バ束モジュール７０４は、照明システムにおいて、ファイバ束モジュール７０２と交換す
るために用いることができる。また、その逆も可能である。図７（ｃ）は、アクティブな
状態にある第１のセットの照明源７０８（円として示されている）と、非アクティブな状
態にある第２のセットの照明源７１０（破線円として示されている）とを含むさらに別の
例示的なファイバ束モジュール７０６を示す。図７（ｄ）は、アクティブな状態にある第
１のセットの照明源７１４（円として示されている）と、非アクティブな状態にある第２
のセットの照明源７１６（破線円として示されている）とを含むさらに別の例示的なファ
イバ束モジュール７１２を示す。
図７（ｅ）は、化学線照明源７２２（円として示されている）と、非化学線照明源７２
４（破線円として示されている）とを含むさらに別の例示的なファイバ束モジュール７２
０を示す。ファイバ束モジュール７２０は、６×１０アレイの照明源を含むが、図７（ａ
）〜（ｄ）に示したファイバ束モジュールは、４×８アレイの照明源を含むことに留意さ
れたい。本発明のいくつかの態様によれば、物理的空間及び、特定用途の光出力要求に適
合するように、ファイバ束モジュール及びコネクタモジュールの別の構成が設計され得る
。図７（ｆ）は、第１の露光波長を有する第１のセットの照明源７２８（白色の円として
示されている）と、第２の露光波長を有する第２のセットの照明源７３０（灰色の円とし
て示されている）とを含むさらに別の例示的なファイバ束モジュール７２６を示す。図７
（ｇ）は、複数のタイプの照明源を含むさらに別の例示的なファイバ束モジュール７３２
を示す。例えば、ファイバ束モジュール７３２は、第１の露光波長を有する第１のセット
の照明源７３４（黒色の円として示されている）と、第２の露光波長を有する第２のセッ
トの照明源７３６（灰色の円として示されている）と、第３の露光波長を有する第３のセ
ットの照明源７３８（白色の円として示されている）とを含み得る。
また図７では、照明出力及び性能を向上させるための、所望の出力形状になるように束
にされた複数のファイバが示されている。クラッド層は、ファイバコア間での光出力を引
き起こさないため、各ファイバコアの周囲に「黒色のリング」が形成される。これは、フ
ァイバ束の総光出力強度を低下させることになる。しかし、このことは、クラッド層をフ
ァイバコアの直径に対して非常に薄くすることができる光ファイバ材料を用いることによ
って、極力最小限に抑えることができる。
本発明のいくつかの態様によれば、本発明の照明システムは、リソグラフィ照明用の固
体マルチエミッタ光源を制御及びモニタするように構成することができる。加えて、マル
チエミッタ照明装置は、複数の化学線波長比に関して、デジタルステップ調節制御を可能
にするように構成することができる。ファイバ束の形状は、リソグラフィイメージング性
能を高めるように構成することができる。このことは、固体照明源により実施することが
できる。各エミッタは、電気的にオン／オフすることができるからである。
本発明の照明システムは、実質的に一定の照明出力を生成するために制御可能な態様で
使用することができる複数の照明源、例えばＬＥＤ、ダイオードレーザまたは他の発光デ
バイスなどの固体デバイスにより実施することができる。
本発明を効果的に実施するためには、ランバートの余弦法則に厳密に従わない照明源を
選択する。この法則によれば、或る表面上の任意の位置での照明は、その位置での法線と
光束の方向とがなす角度の余弦（コサイン）に比例する。ＬＥＤ及び水銀アークランプが
、そのようなタイプの照明源の例である。言い換えれば、「余弦」照明は、指向性を有し
ていない。例えば楕円形状を有する指定リフレクタに適用した場合、本発明の照明システ
ムは、光線を平行化するように構成することができる。「余弦」照明の特性に起因して、
いくつかの特定の用途において照明光学系の入射瞳が比較的コンパクトである場合は光を
集めるのはかなり非効率的である。この場合、大量の照明エネルギーが無駄になるため、
少量の光しか集めることができない。それどころか、ダイオードレーザの場合、「余弦」
照明タイプでは通常見られない、比較的小さい円錐広がり角を有する指向性ビームを放射
する。本発明の照明システムは、レーザ出力を、光ファイバの入口に入れるための発光波
長に近いスポットサイズに集束させるように構成することができる。このことにより、光
ファイバを通じて伝搬される光の損失を最小限に抑えることが可能となる。
ダイオードレーザを使用することの問題の１つは、受照面上の光と暗いスポットのラン
ダムな分布として目に見える、レーザスペックルの存在である。このレーザスペックルは
、光学顕微鏡で適切な倍率により観察することができる、画像化されたフィーチャ（feat
ure）の縁部に視覚的に非一様及び非一貫的に見える印刷パターンを生じさせ得る。これ
は、単色コヒーレンス照明の建設的及び破壊的な影響の避けられない結果である。照明用
のダイオードレーザを選択するために、スペックルを最小限に抑えるためのメカニズムが
考案された。これは、レーザ源の前にディフューザを配置することにより実施される。こ
れは、本質的には、「余弦」照明源を模倣しようとする試みであり、そのため、多くの光
損失が生じる。そのため、本出願には望ましくない。上記の問題を解決するために、本発
明の照明システムは、光ファイバ束を集めたものを、それ自体のダイオードレーザ源に組
み合わせ、それによりレーザスペックルをある程度まで最小化することができる。次に、
本発明の照明システムは、フォトレジスト上に画像パターンを一括的に形成するために何
百もの露光フラッシュを用いるピクセルブレンド画像化方法を用いる。
本発明のいくつかの態様によれば、ピクセルブレンド画像化方法の一実施は、基板を定
位置から、かつＤＭＤに対して移動させることである。基板を移動させると、一連の短時
間の露光フラッシュが適用される。各露光フラッシュの持続時間は、画像の汚れ（image
smudging）を防ぐために、十分に短くする。基板を次の位置に移動させると、基板がＤＭ
Ｄに対してどの位置に存在しているかに応じて、別のセットのマイクロミラーピクセルを
オンにして露光フラッシュを行う。いくつかの実施では、フォトレジストにとって望まし
い公称露光を実現するために、何百もの露光フラッシュが用いられる。従って、公称露光
は、様々なマイクロミラーの多数のフラッシュの合計であり得る。図８は、本発明のいく
つかの態様による、ブレンド多重露光の例示的な方法の画像出力を示す。この例示的な画
像は、上述したピクセルブレンド露光方法を用いて生成した。図示のように、画像フィー
チャの縁部は、滑らかでありかつ一様である。レーザスペックルの影響は観察されない。
複数の固体光源の各々が、光ファイバに接続されている。各固体光源に対応する光ファ
イバ束の集合体が、リソグラフィ露光用途のための単一の均一な照明源を形成するように
構成される。各光ファイバは、光ファイバ束内に含まれているが、本発明の照明システム
は、各光ファイバの光出力が、その光源と一致するように識別することができるように構
成することができる。従って、各光源を個別に制御することができる。
各エミッタ光源を定期的に検査することができ、該検査は、露光フラッシュ、ウエハロ
ット変化、基板の装填及び排出、機械が動作していないときの特定の時間、または、光強
度及び／または寿命の品質チェックに適する任意の持続時間についてプログラムすること
ができる。寿命及び／または強度レベルの検査は、各エミッタが所定期間内に均一に検査
される限りは、全てのエミッタについて一度に行ってもよいし、または、個々のエミッタ
を順番に行ってもよい。
マルチエミッタリソグラフィ照明についての強度レベルステップをデジタル的に調節す
る１つの方法は、総強度レベルを減少させるために、いくつかのエミッタを選択的にフラ
ッシュさせないことである。ステップダウンレベル露光中に特定のエミッタをフラッシュ
させないという選択は、仕様下で照明の均一性が制御される限りは、ソフトウエアプログ
ラムによって自動的に判断してもよいし、または人間のオペレータによって判断してもよ
い。
マルチエミッタ光源を用いるリソグラフィ照明システムでは、該システムを、互いに異
なる露光波長を有するいくつかのエミッタを選択的にオンにするように構成することがで
きる。複数の露光波長を用いることにより、本発明の照明システムを、単色露光波長に起
因するフォトレジストフィルムにおける定在波効果を最小限に抑えるように構成すること
ができる。定在波は、フィーチャのＣＤ変異を引き起こす原因の１つである。マルチエミ
ッタ光源を用いるリソグラフィ照明システムでは、リソグラフィイメージングの全体目的
を実現するために、公称露光を、各々互いに異なる化学線波長を有する多数の露光フラッ
シュにより形成することができる。アライメント目的のための複数の非化学線エミッタは
、ファイバ束に含めることもでき、それらは、品質制御目的のための同じ調節用途に用い
ることもできる。
図９は、本発明のいくつかの態様による、照明システムを制御する方法を示す。図９に
示す例示的な実施形態では、制御装置は、複数の照明源を提供するように構成されたロジ
ック（logic）を含む（ブロック９０２）。ブロック９０４では、制御装置は、前記複数
の照明源の光出力を或る期間にわたってモニタするように構成されたロジックを含む。ブ
ロック９０６では、制御装置は、予め定められたレベルの光出力を維持するべく、前記複
数の照明源を制御するように構成されたロジックを含む。前記複数の照明源は、化学線照
明源及び非化学線照明源の組み合わせ、または、第１の露光波長を有する第１のセットの
照明源及び第２の露光波長を有する第２のセットの照明源の組み合わせのうちの少なくと
も１つの組み合わせを含む。
本発明の実施形態によれば、ブロック９０４で実施されるロジックは、ブロック９０８で実施されるロジックをさらに含み得る。例えば、ブロック９０８は、前記複数の照明源のサブセットの較正された光出力を求めるべく、前記複数の照明源のサブセットを順次較正するように構成されたロジックを含むことができる。
ブロック９０６で実施されるロジックは、ブロック９１０で実施されるロジックをさら
に含み得る。ブロック９１０は、前記予め定められたレベルの光出力を維持するべく、前
記複数の照明源のうちの１以上の照明源の劣化を補償するように構成されたロジックを含
むことができる。前記複数の照明源のうちの１以上の照明源の劣化を補償するように構成
された前記ロジックは、ブロック９１２に示すように、前記光出力を増加させるべく前記
複数の照明源へ印加する電流を増加させるように構成されたロジック、または、前記光出
力を増加させるべくアクティブな照明源の数を増加させるように構成されたロジックのう
ちの少なくとも１つのロジックを含む。
ブロック９１４は、前記複数の照明源の第１のセットをアクティブな状態に維持するよ
うに構成されたロジックと、前記複数の照明源の第２のセットを非アクティブな状態に維
持するように構成されたロジックと、前記複数の照明源の前記第１のセットにおける少な
くとも１つの故障した照明源を補償するべく、前記複数の照明源の前記第２のセットのう
ちの少なくとも１つの照明源を前記複数の照明源の前記第１のセットへ転換するように構
成されたロジックとを含む。
ブロック９１６は、前記複数の照明源における少なくとも１つの故障した照明源を検出
するように構成されたロジックと、前記少なくとも１つの故障した照明源に取って代わる
べく、前記複数の照明源における少なくとも１つの故障していない照明源を制御するよう
に構成されたロジックとを含む。ブロック９１８は、前記照明システムの寿命を前記複数
の照明源のパラメータに基づいて予測するように構成されたロジック、及び前記複数の照
明源の定期メンテナンスを品質管理スケジュールに従って実行するように構成されたロジ
ックを含む。
上記の説明では、明確にするために、様々な機能ユニット及びプロセッサに関連して、
本発明のいくつかの態様を説明したことが理解されるであろう。しかしながら、様々な機
能ユニットまたはプロセッサ間の機能の任意の適切な分配も、本発明から逸脱することな
く用いることができることは明らかであろう。例えば、別々のプロセッサまたは制御装置
により実行されるように説明された機能は、同じプロセッサまたは制御装置によって実行
してもよい。従って、特定の機能ユニットへの言及は、厳密なロジック的または物理的構
造または構成ではなく、説明された機能を提供するための適切な手段への言及と見なされ
る。
本開示の方法およびシステムは、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、また
はこれらの任意の組み合わせを含む、任意の適切な形態で実施することができる。本発明
は、任意選択で、１以上のデータプロセッサ及び／またはデジタル信号プロセッサ上で実
行するコンピュータソフトウェアとして部分的に実施してもよい。本発明の実施形態の構
成要素および部品は、任意の適切な方法で、機能的、物理的に、及びロジック的に実施し
てもよい。実際には、前記機能は、単一のユニット、複数のユニット、または他の機能ユ
ニットの一部として実施することができる。このように、本発明は、単一のユニットで実
施してもよいし、物理的及び機能的に異なるユニット及びプロセッサ間に分散させてもよ
い。
同一の基礎となる根底メカニズム及び方法論を依然として用いながら、様々な可能な修
正及び開示したいくつかの態様の組み合わせを用いることができることは、当業者であれ
ば認識できるであろう。前述の説明は、説明目的のために、いくつかの特定の態様に関連
して書かれている。しかしながら、上記の例示的な議論は、包括的であることまたは開示
された正確な形態に本発明を限定することを意図するものではない。上記の教示を考慮し
て、様々な修正及び変形が可能である。本発明の原理及びその実際的な適用を説明するた
めに、及び、当業者が本発明及び様々な態様を、考えられる特定の使用に適するように、
様々な変形例に最適に用いることを可能にするために、いくつかの態様を選択して説明し
た。

Claims (15)

  1. 照明システムを制御するための方法であって、
    複数の照明源の光出力を或る期間にわたってモニタするステップであって、
    前記複数の照明源のサブセットの較正された光出力を求めるべく、前記複数の照明源のサブセットの光出力を順次較正するステップを含むモニタするステップと、
    予め定められたレベルの光出力を維持するべく、前記複数の照明源を制御するステップとを含むことを特徴とする方法。
  2. 前記複数の照明源が、
    化学線照明源及び非化学線照明源、及び、
    第１の露光波長を有する第１のセットの照明源及び第２の露光波長を有する第２のセットの照明源のうちの少なくとも１つを含む、請求項１記載の方法。
  3. 前記複数の照明源を制御するステップが、
    前記予め定められたレベルの光出力を維持するべく、前記複数の照明源のうちの１以上の照明源の劣化を補償するステップを含む、請求項１記載の方法。
  4. 前記複数の照明源のうちの１以上の照明源の劣化を補償する前記ステップが、
    前記光出力を増加させるべく前記複数の照明源へ印加する電流を増加させるステップ、及び
    前記光出力を増加させるべくアクティブな照明源の数を増加させるステップのうちの少なくとも１つのステップを含む、請求項３記載の方法。
  5. 前記複数の照明源を制御する前記ステップが、
    前記複数の照明源の第１のセットをアクティブな状態に維持するステップと、
    前記複数の照明源の第２のセットを非アクティブな状態に維持するステップと、
    前記複数の照明源の前記第１のセットにおける少なくとも１つの故障した照明源を補償するべく、前記複数の照明源の前記第２のセットのうちの少なくとも１つの照明源を前記複数の照明源の前記第１のセットへ転換するステップとを含む、請求項１記載の方法。
  6. 前記複数の照明源における少なくとも１つの故障した照明源を検出するステップと、
    前記少なくとも１つの故障した照明源の照明に取って代わるべく、前記複数の照明源における少なくとも１つの故障していない照明源を制御するステップとを含む、請求項１記載の方法。
  7. 前記照明システムの寿命を前記複数の照明源のパラメータに基づいて予測するステップ、及び
    前記複数の照明源の定期メンテナンスを品質管理スケジュールに従って実行するステップのうちの少なくとも１つのステップをさらに含む、請求項１記載の方法。
  8. 照明システムであって、
    少なくとも１つのプロセッサと、
    前記少なくとも１つのプロセッサと協働するように構成された制御装置とを含み、
    前記制御装置が、
    前記複数の照明源の光出力を或る期間にわたってモニタするように構成された第１ロジックであって、 前記複数の照明源のサブセットの較正された光出力を求めるべく、前記複数の照明源のサブセットを順次較正するように構成された第２ロジックを含む第１ロジックと、
    予め定められたレベルの光出力を維持するべく、前記複数の照明源を制御するように構成された第３ロジックとを含むシステム。
  9. 前記複数の照明源が、
    化学線照明源及び非化学線照明源、及び
    第１の露光波長を有する第１のセットの照明源及び第２の露光波長を有する第２のセットの照明源のうちの少なくとも１つを含む、請求項８記載のシステム。
  10. 前記複数の照明源を制御するように構成された前記第３ロジックが、
    前記予め定められたレベルの光出力を維持するべく、前記複数の照明源のうちの１以上の照明源の劣化を補償するように構成された第４ロジックを含む、請求項８記載のシステム。
  11. 前記複数の照明源のうちの１以上の照明源の劣化を補償するように構成された前記第４ロジックが、
    前記光出力を増加させるべく前記複数の照明源へ印加する電流を増加させるように構成された第５ロジック、及び
    前記光出力を増加させるべくアクティブな照明源の数を増加させるように構成された第６ロジックのうちの少なくとも１つのロジックを含む、請求項１０記載のシステム。
  12. 前記複数の照明源の光出力を制御するように構成された前記第３ロジックが、
    前記複数の照明源の第１のセットをアクティブな状態に維持するように構成された第７ロジックと、
    前記複数の照明源の第２のセットを非アクティブな状態に維持するように構成された第８ロジックと、
    前記複数の照明源の前記第１のセットにおける少なくとも１つの故障した照明源を補償するべく、前記複数の照明源の前記第２のセットのうちの少なくとも１つの照明源を前記複数の照明源の前記第１のセットへ転換するように構成された第９ロジックとを含む、請求項８記載のシステム。
  13. １以上のコンピュータシステムにより実行するためのコンピュータプログラムを格納する非一時的な媒体を含むコンピュータプログラム製品であって
    複数の照明源の光出力を或る期間にわたってモニタするように構成された第１コードであって、前記複数の照明源のサブセットの較正された光出力を求めるべく、前記複数の照明源のサブセットを順次較正するように構成された第２コードを含む第１コードと、
    予め定められたレベルの光出力を維持するべく、前記複数の照明源を制御するように構成された第３コードとを含むことを特徴とする製品。
  14. 前記複数の照明源が、
    化学線照明源及び非化学線照明源、及び
    第１の露光波長を有する第１のセットの照明源及び第２の露光波長を有する第２のセットの照明源のうちの少なくとも１つを含む、請求項１３記載のコンピュータプログラム製品。
  15. 前記複数の照明源を制御するように構成された前記第３コードが、
    前記予め定められたレベルの光出力を維持するべく、前記複数の照明源のうちの１以上の照明源の劣化を補償するように構成された第４コードを含む、請求項１３記載のコンピュータプログラム製品。
JP2016092896A 2011-09-30 2016-05-05 照明システム Active JP6419104B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201161541484P 2011-09-30 2011-09-30
US61/541,484 2011-09-30
US13/629,382 US20130207544A1 (en) 2011-09-30 2012-09-27 Illumination system
US13/629,382 2012-09-27

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014533399A Division JP6268092B2 (ja) 2011-09-30 2012-09-28 照明システム

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018150151A Division JP2019003202A (ja) 2011-09-30 2018-08-09 照明システム

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2016180987A true JP2016180987A (ja) 2016-10-13
JP2016180987A5 JP2016180987A5 (ja) 2018-03-22
JP6419104B2 JP6419104B2 (ja) 2018-11-07

Family

ID=47996437

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014533399A Active JP6268092B2 (ja) 2011-09-30 2012-09-28 照明システム
JP2016092896A Active JP6419104B2 (ja) 2011-09-30 2016-05-05 照明システム
JP2018150151A Pending JP2019003202A (ja) 2011-09-30 2018-08-09 照明システム

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014533399A Active JP6268092B2 (ja) 2011-09-30 2012-09-28 照明システム

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018150151A Pending JP2019003202A (ja) 2011-09-30 2018-08-09 照明システム

Country Status (6)

Country Link
US (2) US20130207544A1 (ja)
JP (3) JP6268092B2 (ja)
KR (2) KR20160075579A (ja)
CN (2) CN103875311B (ja)
SG (1) SG11201401092QA (ja)
WO (1) WO2013049584A1 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10140394B2 (en) * 2014-09-25 2018-11-27 Applied Materials, Inc. Method for rejecting tuning disturbances to improve lamp failure prediction quality in thermal processes
US9927723B2 (en) 2015-03-24 2018-03-27 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for on-the-fly digital exposure image data modification
US11776989B2 (en) 2016-06-10 2023-10-03 Applied Materials, Inc. Methods of parallel transfer of micro-devices using treatment
CN109196424A (zh) 2016-06-10 2019-01-11 应用材料公司 微型装置的无掩模并行取放转印
US11756982B2 (en) 2016-06-10 2023-09-12 Applied Materials, Inc. Methods of parallel transfer of micro-devices using mask layer
US10032827B2 (en) 2016-06-29 2018-07-24 Applied Materials, Inc. Systems and methods for transfer of micro-devices
MX2020007262A (es) 2018-01-08 2020-12-10 Ubicquia Llc Modelado y manejo de falla de artefacto aereo de iluminacion.
CN109635345B (zh) * 2018-11-14 2023-04-07 重庆城市管理职业学院 一种基于云计算的照明设备预警方法
US11019276B1 (en) * 2019-11-14 2021-05-25 Hand Held Products, Inc. Apparatuses and methodologies for flicker control
JP2023148031A (ja) * 2022-03-30 2023-10-13 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 メンテナンス方法

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4135116A (en) * 1978-01-16 1979-01-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Constant illumination control system
JP2003337427A (ja) * 2002-05-20 2003-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2004039871A (ja) * 2002-07-03 2004-02-05 Hitachi Ltd 照明方法並びに露光方法及びその装置
JP2004146793A (ja) * 2002-08-30 2004-05-20 Nichia Chem Ind Ltd 露光用半導体レーザ光源装置
WO2004077533A1 (ja) * 2003-02-28 2004-09-10 Kabushiki Kaisha Hayashi Soken 露光装置
JP2004310081A (ja) * 2003-03-25 2004-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 合波レーザ光調芯方法、レーザ光合波光源、および露光装置
JP2004327823A (ja) * 2003-04-25 2004-11-18 Nikon Corp 照明装置、露光装置及び露光方法
US6963175B2 (en) * 2001-08-30 2005-11-08 Radiant Research Limited Illumination control system
JP2006095911A (ja) * 2004-09-30 2006-04-13 Konica Minolta Medical & Graphic Inc マルチビーム露光装置及びマルチビーム露光方法
JP2006278907A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Ushio Inc 光照射装置および光照射装置における光源ユニットの交換方法
JP2008241876A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Phoenix Denki Kk 光源装置ならびにこれを用いた露光装置
JP2008241877A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Phoenix Denki Kk 光源装置ならびにこれを用いた露光装置
JP2009236983A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Hitachi Via Mechanics Ltd レーザーダイオード出力調整方法
US20100148677A1 (en) * 2008-12-12 2010-06-17 Melanson John L Time division light output sensing and brightness adjustment for different spectra of light emitting diodes
WO2011096365A1 (ja) * 2010-02-05 2011-08-11 日本精工株式会社 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法、並びに露光装置、露光方法及び基板

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0669014B2 (ja) * 1986-02-24 1994-08-31 株式会社ニコン 露光装置
JP2768670B2 (ja) * 1987-02-13 1998-06-25 株式会社東芝 パターン形成方法
DE4104609A1 (de) * 1991-02-15 1992-08-20 Wild Heerbrugg Ag Beleuchtungseinrichtung fuer optische geraete mit separaten beleuchtungsstrahlengaengen
JP2894914B2 (ja) * 1993-01-27 1999-05-24 日本電気株式会社 投影露光方法および装置
US5684566A (en) * 1995-05-24 1997-11-04 Svg Lithography Systems, Inc. Illumination system and method employing a deformable mirror and diffractive optical elements
CA2336497A1 (en) * 2000-12-20 2002-06-20 Daniel Chevalier Lighting device
US6495973B1 (en) * 2001-07-17 2002-12-17 Charles W. Allen, Jr. Lighting control system and method
KR20060012276A (ko) * 2003-04-25 2006-02-07 비저니어드 이미지 시스템스 인코포레이티드 개별적인 ｌｅｄ 휘도 감시 능력을 갖는 ｌｅｄ조명소스/디스플레이 및 교정 방법
US6995519B2 (en) * 2003-11-25 2006-02-07 Eastman Kodak Company OLED display with aging compensation
US7375473B2 (en) * 2005-04-15 2008-05-20 Eastman Kodak Company Variable power control for OLED area illumination
CA2556961A1 (en) * 2006-08-15 2008-02-15 Ignis Innovation Inc. Oled compensation technique based on oled capacitance
US8253923B1 (en) * 2008-09-23 2012-08-28 Pinebrook Imaging Technology, Ltd. Optical imaging writer system
US8624527B1 (en) * 2009-03-27 2014-01-07 Oree, Inc. Independently controllable illumination device
CN102252226B (zh) * 2011-04-14 2013-01-09 深圳市华星光电技术有限公司 Led组件及采用led组件的led灯串

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4135116A (en) * 1978-01-16 1979-01-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Constant illumination control system
US6963175B2 (en) * 2001-08-30 2005-11-08 Radiant Research Limited Illumination control system
JP2003337427A (ja) * 2002-05-20 2003-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2004039871A (ja) * 2002-07-03 2004-02-05 Hitachi Ltd 照明方法並びに露光方法及びその装置
JP2004146793A (ja) * 2002-08-30 2004-05-20 Nichia Chem Ind Ltd 露光用半導体レーザ光源装置
WO2004077533A1 (ja) * 2003-02-28 2004-09-10 Kabushiki Kaisha Hayashi Soken 露光装置
JP2004310081A (ja) * 2003-03-25 2004-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 合波レーザ光調芯方法、レーザ光合波光源、および露光装置
JP2004327823A (ja) * 2003-04-25 2004-11-18 Nikon Corp 照明装置、露光装置及び露光方法
JP2006095911A (ja) * 2004-09-30 2006-04-13 Konica Minolta Medical & Graphic Inc マルチビーム露光装置及びマルチビーム露光方法
JP2006278907A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Ushio Inc 光照射装置および光照射装置における光源ユニットの交換方法
JP2008241876A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Phoenix Denki Kk 光源装置ならびにこれを用いた露光装置
JP2008241877A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Phoenix Denki Kk 光源装置ならびにこれを用いた露光装置
JP2009236983A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Hitachi Via Mechanics Ltd レーザーダイオード出力調整方法
US20100148677A1 (en) * 2008-12-12 2010-06-17 Melanson John L Time division light output sensing and brightness adjustment for different spectra of light emitting diodes
WO2011096365A1 (ja) * 2010-02-05 2011-08-11 日本精工株式会社 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法、並びに露光装置、露光方法及び基板

Also Published As

Publication number Publication date
SG11201401092QA (en) 2014-04-28
JP2019003202A (ja) 2019-01-10
CN106028581B (zh) 2019-10-25
US9907152B2 (en) 2018-02-27
CN106028581A (zh) 2016-10-12
KR20140080510A (ko) 2014-06-30
KR20160075579A (ko) 2016-06-29
JP6268092B2 (ja) 2018-01-24
CN103875311B (zh) 2017-07-14
US20160219684A1 (en) 2016-07-28
US20130207544A1 (en) 2013-08-15
WO2013049584A1 (en) 2013-04-04
JP6419104B2 (ja) 2018-11-07
JP2014534613A (ja) 2014-12-18
CN103875311A (zh) 2014-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6419104B2 (ja) 照明システム
TW201734414A (zh) 用於相依於重複率的效能變數之線上校準
TWI448026B (zh) 驅動半導體雷射的方法及設備、用於導出半導體雷射之驅動電流圖形的方法及設備
US7961378B2 (en) Wavelength conversion light source apparatus and wavelength conversion method
JP7258028B2 (ja) リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法、メインテナンス管理装置、及びコンピュータ可読媒体
JP2014521991A (ja) 光源持続プラズマセルにおける収差を補正するための適応光学系
CN108205242B (zh) 光处理装置、涂敷、显影装置、光处理方法和存储介质
WO2006004135A1 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
KR102213153B1 (ko) 광빔의 코히어런스의 양의 조정 방법
JP7254098B2 (ja) ガス監視システム
TWI617892B (zh) 照明系統及控制此照明系統之方法及電腦程式產品
JP2018084804A (ja) 露光装置、露光装置の調整方法及び記憶媒体
KR102560079B1 (ko) 복수의 심자외 광학 발진기를 위한 제어 시스템
TWI804817B (zh) 深紫外線（ｄｕｖ）光源、用於光源之控制器、及用於控制一光源之方法
JP2004327823A (ja) 照明装置、露光装置及び露光方法
KR101586062B1 (ko) 광 출력제어 기능을 구비한 led 노광 장치 및 그 제어 방법
KR100660542B1 (ko) 반도체 제조용 오버레이 계측설비
KR20060037771A (ko) 노광설비 및 그 제어방법
KR100922554B1 (ko) 노광 장치의 조명 세기 자동 모니터링 장치 및 방법
KR20040012051A (ko) 반도체 제조용 오버레이 계측설비

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170228

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20170526

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170622

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171017

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20180116

A524 Written submission of copy of amendment under article 19 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524

Effective date: 20180202

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180410

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180809

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20180820

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180911

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181009

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6419104

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250