CN105045043B - 曝光装置和曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种曝光装置和曝光方法，即使在校正了反射镜的曲率的情况下，也能够改善曝光光的曝光区域的照度分布而提高曝光精度。曝光装置(PE)包括对照射到工件(W)的曝光光的照度进行测定的照度计(40)，在将工件(W)曝光前，使用照度计(40)来测定经由平面镜(68)照射到工件(W)的曝光光的曝光区域(A)的照度分布。

Description

曝光装置和曝光方法

技术领域

本发明涉及曝光装置和曝光方法，更详细而言，涉及通过将曝光光隔着形成有掩模图案的掩模照射到涂布有感光剂的工件来进行曝光，从而将掩模图案转印到工件上的曝光装置和曝光方法。

背景技术

以往，公开了包括光学系统的曝光装置，该光学系统包括：镜要素，其具有反射照明光的反射面；及多个驱动单元，其对镜要素的背面施加力而使反射面变形，该光学系统能将反射面变形为各种形状(例如参照专利文献1和2。)。如图8所示，在专利文献1的曝光装置中，包括：镜要素101，其具有反射照射光IL的反射面101a；多个驱动单元102，其配置在镜要素101的背面；及保持块103，其保持镜要素101的周边部的保持部101b，该曝光装置利用多个驱动单元102使镜要素101的反射面101a变形为各种形状，对难以用通常的成像特性校正机构来校正的光轴上的像散这样的非旋转对称的像差成分进行校正。

在专利文献2的曝光装置中，经由多个支承部件、球接头和垫将平面镜的背面支承于保持框，利用驱动装置来驱动支承部件，与工件的形变对应地校正平面镜的曲率，从而根据工件的被曝光区域的形状将掩模的图案曝光。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-161992号公报

专利文献2：日本特开2011-123461号公报

发明内容

本发明要解决的问题

可是，在专利文献2所记载的曝光装置中，与工件的形变对应地校正平面镜的曲率时，由于曝光光的照度分布恶化，因此需要改善照度分布的恶化。

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种曝光装置和曝光方法，即使在校正了反射镜的曲率的情况下，也能够改善曝光光的曝光区域的照度分布而提高曝光精度。

解决问题的方法

本发明的上述目的由下述的构成实现。

(1)一种曝光装置，包括：

工件支承部，所述工件支承部支承工件；

掩模支承部，所述掩模支承部支承掩模；

照明光学系统，所述照明光学系统具有光源和将来自该光源的曝光光反射的反射镜；及

镜弯曲机构，所述镜弯曲机构能校正所述反射镜的曲率，

所述曝光装置将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，所述曝光装置的特征在于，

包括对照射到所述工件的曝光光的照度进行测定的照度计，

在曝光所述工件前，使用所述照度计测定经由所述反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布。

(2)如(1)所述的曝光装置，其特征在于，包括移动所述工件支承部以便使所述工件与所述掩模在水平方向相对移动的输送机构，

驱动所述输送机构，能够使所述照度计在所述曝光区域的整个范围移动。

(3)如(1)或(2)所述的曝光装置，其特征在于，

根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布，驱动所述镜弯曲机构，从而校正所述反射镜的曲率。

(4)如(1)或(2)所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统包括多个所述反射镜，并且，

所述镜弯曲机构包含分别能校正所述多个反射镜的曲率的多个镜弯曲机构，

对于所述多个反射镜的任意1个，驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率，

对于所述多个反射镜的任意另1个，在校正了所述任意1个反射镜的曲率的状态下，根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率。

(5)一种曝光方法，使用(3)所述的曝光装置，将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，其特征在于，包括如下的工序：

使用所述照度计测定经由所述反射镜将照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布；及

根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正所述反射镜的曲率。

(6)一种曝光方法，使用(4)所述的曝光装置，将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，其特征在于，包括如下的工序：

对于所述多个反射镜的任意1个，驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率的工序；

使用所述照度计，测定经由所述曲率由所属镜弯曲机构进行了校正的所述任意1个反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布；及

对于所述多个反射镜的任意另1个，在校正了所述任意1个反射镜的曲率的状态下，根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率。

发明的效果

根据本发明的曝光装置和曝光方法，包括对照射到工件的曝光光的照度进行测定的照度计，在曝光工件前，使用照度计测定经由曲率由镜弯曲机构进行了校正的反射镜照射到工件的曝光光的曝光区域的照度分布。由此，能够获取曝光区域的照度分布，在未到达目标照度分布的情况下，再次驱动进行了曲率校正的反射镜、或者其他反射镜的镜弯曲机构，进行微调以便到达目标照度分布，从而能够改善曝光光的曝光区域的照度分布而提高曝光精度。

附图说明

图1是本发明所涉及的曝光装置的主视图。

图2是示出本发明的第1实施方式所涉及的照明光学系统的图。

图3(a)是示出照明光学系统的反射镜支承构造的平面图，(b)是沿着(a)的III-III线的剖视图，(c)是沿着(a)的III’-III’线的剖视图。

图4(a)～(d)是说明测定曝光区域的照度分布的过程的概要图。

图5是图1的V部放大图。

图6是示出本实施方式的曝光方法的流程图的图。

图7是示出本发明的第2实施方式所涉及的照明光学系统的图。

图8是示出以往的反射镜支承构造的图。

附图标记说明

1 掩模台(掩模支承部)

2 工件台(工件支承部)

3 照明光学系统

5 X轴台输送机构

6 Y轴台输送机构

40 照度计

60 复合灯单元(光源)

65 光学积分器

66、68 平面镜(包括镜弯曲机构的反射镜)

70 镜变形单元(镜弯曲机构)

EL 光路

M 掩模

PE 曝光装置

W 工件

具体实施方式

(第一实施方式)

下面，基于附图详细说明本发明所涉及的曝光装置的一个实施方式。图1是示出本发明的曝光装置的图。

如图1所示，接近曝光装置PE使用比作为被曝光件的工件W小的掩模M，用掩模台1保持掩模M，并且用工件台(工件支承部)2保持工件W，使掩模M与工件W接近，以预定的曝光间隙对置配置，在该状态下，从照明光学系统3向掩模M照射图案曝光用的光，从而将掩模M的图案曝光转印到工件W上。另外，使工件台2相对于掩模M在X轴方向和Y轴方向这两轴方向步进移动，在每一步中进行曝光转印。

为了使工件台2在X轴方向步进移动，在装置底座4上设置有X轴台输送机构5，该轴台输送机构5使X轴输送台5a在X轴方向步进移动。为了使工件台2在Y轴方向步进移动，在X轴台输送机构5的X轴输送台5a上设置有Y轴台输送机构6，该Y轴台输送机构6使Y轴输送台6a在Y轴方向步进移动。在Y轴台输送机构6的Y轴输送台6a上设置有工件台2。在工件台2的上表面，工件W在被工件卡盘等真空吸引的状态下被保持。另外，在工件台2的侧部配设有用于测定掩模M的下表面高度的基板侧变位传感器15。所以，基板侧变位传感器15能够与工件台2一起在X、Y轴方向移动。

在装置底座4上，沿X轴方向配置有多个(图示的实施方式中为4条)X轴直线导轨的导轨51，在各导轨51上跨架有固定在X轴输送台5a的下表面的滑动件52。由此，X轴输送台5a被X轴台输送机构5的第1直线马达20驱动，能够沿着导轨51在X轴方向往返移动。另外，在X轴输送台5a上，沿Y轴方向配置有多个Y轴直线导轨的导轨53，在各导轨53上跨架有固定在Y轴输送台6a的下表面的滑动件54。由此，Y轴输送台6a被Y轴台输送机构6的第2直线马达21驱动，能够沿着导轨53在Y轴方向往返移动。

在Y轴台输送机构6与工件台2之间，为了使工件台2在上下方向移动，设置有：上下粗动装置7，其相对而言定位分辨能力粗糙，但是移动行程和移动速度大；及上下微动装置8，其与上下粗动装置7相比能以高分辨能力来进行定位，使工件台2上下微动而将掩模M与工件W的对置面间的间隙微调为预定量。

上下粗动装置7利用设在后述的微动台6b上的适当的驱动机构，使工件台2相对于微动台6b上下移动。固定在工件台2的底面的4个部位的台粗动轴14与在微动台6b上固定的直线移动轴承14a卡合，相对于微动台6b被在上下方向引导。此外，优选的是上下粗动装置7即使分辨能力低，反复定位精度也较高。

上下微动装置8包括：固定台9，其固定于Y轴输送台6a；及直线导轨的引导轨道10，其以内端侧向斜下方倾斜的状态安装于固定台9，在借助跨架在该引导轨道10上的滑动件11沿着引导轨道10往返移动的滑动体12上连结有滚珠丝杠的螺母(未图示)，并且滑动体12的上端面相对于固定在微动台6b上的法兰12a在水平方向自由滑动地相接。

而且，利用安装在固定台9上的马达17使滚珠丝杠的螺纹轴旋转驱动时，螺母、滑动件11和滑动体12成为一体地沿着引导轨道10在倾斜方向移动，由此，法兰12a上下微动。

此外，上下微动装置8也可以不利用马达17和滚珠丝杠来驱动滑动体12，而代替为利用直线马达来驱动滑动体12。

该上下微动装置8在Z轴输送台6a的Y轴方向的一端侧(图1的左端侧)设置1台，在另一端侧设置2台，合计设置3台，分别独立地被驱动控制。由此，上下微动装置8基于由间隙传感器27得到的多个部位的掩模M与工件W的间隙量的计测结果，独立地微调3个部位的法兰12a的高度，微调工件台2的高度和倾斜度。

此外，在能够利用上下微动装置8充分调整工件台2的高度的情况下，也可以省略上下粗动装置7。

另外，在Y轴输送台6a上设置有：条状镜19，其与对工件台2的Y方向的位置进行检测的Y轴激光干涉仪18对置；及条状镜(都未图示)，其与对工件台2的X轴方向的位置进行检测的X轴激光干涉仪对置。与Y轴激光干涉仪18对置的条状镜19在Y轴输送台6a的一侧沿着X轴方向配置，与X轴激光干涉仪对置的条状镜在Y轴输送台6a的一端侧沿着Y轴方向配置。

Y轴激光干涉仪18和X轴激光干涉仪分别被配置为始终与所对应的条状镜对置并被支承于装置底座4。此外，Y轴激光干涉仪18在X轴方向分隔地设置有2台。利用2台Y轴激光干涉仪18，借助条状镜19，检测Y轴输送台6a、进而工件台2的Y轴方向的位置和偏转误差。另外，利用X轴激光干涉仪，借助对置的条状镜检测X轴输送台5a、进而工件台2的X轴方向的位置。

掩模台1包括：掩模基框24，其由近似长方形的框体构成；及掩模框架25，其隔着间隙地插入到该掩模基框24的中央部开口，被支承为能在X、Y和θ方向(X、Y平面内)移动，掩模基框24由从装置底座4突出设置的支柱4a保持在工件台2的上方的固定位置。

在掩模框架25的中央部开口的下表面设有框状的掩模托架(掩模支承部)26。即，在掩模框架25的下表面设有与未图示的真空式吸附装置连接的多个掩模托架吸附槽，掩模托架26借助多个掩模托架吸附槽被吸附保持于掩模框架25。

在掩模托架26的下表面开设有用于对掩模M的未描绘掩模图案的周缘部进行吸附的多个掩模吸附槽(未图示)，掩模M借助掩模吸附槽由未图示的真空式吸附装置自由装拆地保持在掩模托架26的下表面。

如图2所示，本实施方式的曝光装置PE的照明光学系统3包括：复合灯单元60，其具有作为紫外线照射用的光源的、例如高压水银灯61、和将从该高压水银灯61照射的光聚光的反射体62；平面镜63，其用于改变光路EL的朝向；曝光控制用遮光器单元64，其对照射光路进行开关控制；光学积分器65，其配置在曝光控制用遮光器单元64的下游侧，将由反射体62聚光的光以在照射区域中尽可能成为均一的照度分布的方式射出；平面镜66，其用于改变从光学积分器65射出的光路EL的朝向；准直镜67，其使来自高压水银灯61的光成为平行光并照射该光；及平面镜68，其将该平行光朝向掩模M照射。此外，在光学积分器65与曝光面之间也可以配置有DUV截止滤光片、偏振滤光片、带通滤光片。另外，光源的高压水银灯既可以是单独的灯，或者光源也可以由LED构成。

而且，在曝光时对该曝光控制用遮光器单元64进行开控制时，从复合灯单元60照射的光经由平面镜63、光学积分器65、平面镜66、准直镜67、平面镜68，作为图案曝光用的光，被照射到保持于掩模托架26的掩模M、进而工件W的表面，掩模M的曝光图案被曝光转印到工件W上。

此处，如图3所示，平面镜68由被形成为主视矩形的玻璃原材料构成。平面镜68由设在平面镜68的背面侧的多个镜变形单元(镜弯曲机构)70支承于镜变形单元保持框71。

各镜变形单元70包括：垫72，其被用粘接剂固定在平面镜68的背面；支承部件73，其一端固定于垫72；及驱动装置即致动器74，其驱动支承部件73。

在支承部件73上，在比保持框71靠近垫72的位置设有容许±0.5deg以上的弯曲的作为弯曲机构的球接头76，在相对于保持框71成为相反侧的另一端安装有致动器74。

并且，在向掩模侧的对准标记(未图示)的位置，在反射曝光光的平面镜68的各位置的背面安装有多个接触式传感器81。

由此，平面镜68能够通过一边利用接触式传感器81感测平面镜68的变位量，一边驱动各镜变形单元70的致动器74，改变各支承部件73的长度，从而局部地校正平面镜68的曲率，校正平面镜68的偏角。

此时，由于在各镜变形单元70设有球接头76，因此能够使支承部侧的部分三维转动，能够使各垫72沿着平面镜68的表面倾斜。因此，防止各垫72与平面镜68粘接的剥落，并且抑制移动量不同的各垫72间的平面镜68的应力，即使在由平均破坏应力值小的玻璃原材料构成的情况下，在局部地校正平面镜68的曲率时，也能够不损坏平面镜68，以10mm数量级弯曲平面镜68，能够大幅变更曲率。

返回图2，在本实施方式中设有曲率校正量检测系统90，该曲率校正量检测系统90用于在校正平面镜68的曲率时，判断是否对于工件W的形变量、与目标照度分布相应的目标变位量适当进行了平面镜68的曲率校正。曲率校正量检测系统90具有：作为激光源的多个(在本实施方式中为4个)激光指示器91，其照射激光L，作为从在曝光光的光束的光路EL中比平面镜68靠曝光面侧(本实施方式中从掩模附近)朝向平面镜68地具有方向性的光；反射板92，其能从曝光光的光束的光路EL退避地配置在光学积分器65的附近；作为拍摄部件的照相机93，其对经由平面镜68映入反射板92的激光L进行拍摄；控制部94，其设在照相机93与平面镜68的镜变形单元70的致动器74之间，检测在校正平面镜68的曲率时拍摄的激光L的变位量，控制镜变形单元70的致动器74使得该变位量与目标变位量对应。

激光指示器91安装在用于检测对准的例如未图示的CCD照相机的上部，与CCD照相机向能够识别掩模侧的对准标记的位置的进退同步地移动。

反射板92配置在光由于被准直镜67反射而最聚光的积分器附近，因此能够用面积比较小的反射板92捕捉被平面镜68、准直镜67、平面镜66反射的来自4个激光指示器91的激光L。另外，反射板92被配置为：在通常曝光时，在将来自光源的曝光光的光束照射到掩模M时，能利用未图示的驱动机构从该光束的光路EL退避。并且，反射板92通过做成为低反射率的反射面，从而能够提高用照相机93对激光L的可见性。

照相机93配置在从来自光源的该光束的光路EL上离开的位置，以便不对曝光光的光束施加影响。

另外，控制部94将由照相机93拍摄的激光L的位置作为曲率校正前与曲率校正后的变位量进行检测，确认该变位量是否与目标变位量对应，对平面镜68的镜变形单元70的致动器74施加控制信号。

如图1所示，还在工件台2的侧方安装有对照射到工件W的曝光光的照度进行测定的照度计40，利用X轴台输送机构5、Y轴台输送机构6，与工件台2的移动一起在水平方向移动。

具体而言，如图4(a)～(d)所示，使照度计40与工件台2一起移动，使得照度计40移动到将照射到工件W的曝光光的曝光区域A进行16分割而成的四边形的各顶点，利用照度计40测定各顶点的照度，从而获取曝光区域整体的照度分布。

此外，如图5所示，在照度计40的侧方设有驱动机构42，该驱动机构42驱动能在照度计40的上方进退的遮挡件(遮光器)41。由此，在照度测定时以外，利用遮挡件41将照度计40从曝光光遮挡，从而能够抑制曝光光所导致的照度计40的劣化。

另外，照度计40在照度测定开始前通过利用遮挡件41遮断向照度计40的光，从而进行零点调整。

接下来，参照图6所示的流程图说明本实施方式的曝光方法。

首先，运送工件W到曝光位置，照射曝光用光(步骤S1)。接下来，进行平面镜68的曲率校正(步骤S2)。接下来，利用照度计40，测定曝光区域A整体的照度分布(步骤S3)。此处，初始状态的各镜66、67、68在反射率、曲率方面容易产生若干偏差，在该情况下，由各镜66、67、68反射的曝光光的照度分布也产生偏差。

另外，在步骤S3中，也可以在测定照度分布前，初次进行平面镜68的曲率校正(步骤S2’)。在该情况下，致动器74的驱动量也可以如下这样决定：用多个CCD照相机30检测工件W的对准标记和掩模M的对准标记，基于各CCD照相机30所检测的两个对准标记Wa、Ma的偏离量，分别计算掩模M的中心和工件W的中心的位置偏离量、和工件W的形变量，根据该工件W的形变量来决定致动器74的驱动量。在该情况下，掩模M的中心与工件W的中心的位置偏离量是通过对掩模M侧的对准机构进行驱动控制来进行的。另外，在该情况下，步骤S7中的基于差分运算的平面镜68的曲率校正是以校正后的工件W的形变量在容许范围内的方式进行的。

或者，步骤S2’的初次的平面镜68的曲率校正也可以通过以预先调整照明光学系统3、曝光装置的装置固有的误差的方式设定致动器74的驱动量来进行。

因此，比较测定的照度分布、与目标照度分布(步骤S4)。在步骤S4中，在测定的照度分布到达目标照度分布的情况下，开始实际的曝光(步骤S5)。另一方面，在测定的照度分布未到达目标照度分布的情况下，进行差分运算(步骤S6)。

接下来，在步骤S7中，基于差分运算来驱动控制各镜变形单元70的致动器74，一边利用接触式传感器81、曲率校正量检测系统90确认平面镜68的变位量，一边校正平面镜68的曲率。

以后，反复步骤S3～S7，反复进行直到测定的照度分布到达目标照度分布。其结果是，能够改善曝光光的曝光区域的照度分布而提高曝光精度。

此外，所述照度分布的校正是在每次镜弯曲的偏移量变化时进行的。并且，对于每片工件，每4～8个照射区(shot)的镜弯曲的偏移量不同，因此，在每次偏移量变化时，进行照度分布的校正。

另外，在步骤S3中，在测定照度分布前，也可以不进行平面镜的曲率校正(步骤S2)。

如以上说明，根据本实施方式的曝光装置PE，包括对照射到工件W的曝光光的照度进行测定的照度计40，在将工件W曝光前，使用照度计40来测定经由平面镜68照射到工件W的曝光光的曝光区域A的照度分布。由此，能够获取曝光区域A的照度分布，在未到达目标照度分布的情况下，再次驱动进行了曲率校正的平面镜68的镜变形单元70，进行微调直至到达目标照度分布，从而能够改善曝光光的曝光区域A的照度分布而提高曝光精度。

另外，曝光装置为了使工件W与掩模M在水平方向相对移动而包括移动工件台2X的轴台输送机构5和Y轴台输送机构6，能够驱动这些输送机构5、6，而使照度计40在曝光区域A的整个范围移动。由此，能够削减照度计40的数量并测定曝光区域A的整个范围的照度。

此外，在本发明中，照度计40的数量也可以是多个，也可以利用多个照度计40同时测定曝光区域A的各位置的照度，缩短测定时间。

另外，根据本实施方式的曝光方法，包括如下的工序：使用照度计40来测定利用镜变形单元70经由平面镜68照射到工件W的曝光光的曝光区域A的照度分布；及根据由照度计40测定的曝光区域A的照度分布，驱动镜变形单元70从而校正平面镜68的曲率。由此，能够获取曝光区域A的照度分布，在未到达目标照度分布的情况下，再次驱动曲率校正的平面镜68的镜变形单元70，进行微调直至到达目标照度分布，从而能够改善曝光光的曝光区域A的照度分布而提高曝光精度。

(第二实施方式)

接下来，参照图7说明本发明的第2实施方式所涉及的曝光装置。此外，本实施方式的照明光学系统3由于具有与第1实施方式的照明光学系统同样的构成，因此对于与第1实施方式相同或者等同的部分在附图中标注相同的附图标记，省略或者简化其说明。

本实施方式的照明光学系统3如图7所示，镜变形单元70还安装在平面镜68的背面侧、以及另一平面镜66的背面侧，能局部地校正平面镜68及另一平面镜66的曲率。

即，在第1实施方式中，利用1个部位的平面镜68的曲率校正，抑制因多个各镜66、67、68的反射率、曲率的偏差引起的照度分布的恶化。然而，如本实施方式所示，如果利用多个镜66、68的曲率校正来抑制照度分布的恶化，那么能够使各镜66、68的每一个为期望的曲率，能够更容易改善照度分布。

此外，在第1实施方式的图6的流程图中，步骤S7中的镜66、68的曲率校正可以由两个镜66、68进行，或者也可以适当进行镜66、68的任意一个的曲率校正。

例如，在步骤S7中，对于平面镜68，通过驱动镜变形单元70来校正其曲率，在下一工序的步骤S3中，使用照度计40来测定经由平面镜68照射到工件W的曝光光的曝光区域A的照度分布，在步骤S4中未到达目标照度分布的情况下，在步骤S6进行差分运算，在下面的步骤S7中，对于另一平面镜66，在校正了平面镜68的曲率的状态下，根据由照度计40测定的曝光区域A的照度分布，驱动镜变形单元70从而校正其曲率。由此，能够获取曝光区域A的照度分布，在未到达目标照度分布的情况下，驱动另一平面镜66的镜变形单元70，进行微调直至到达目标照度分布，从而能够改善曝光光的曝光区域A的照度分布而提高曝光精度。

所以，在具有如上所述的构成的本实施方式的照明光学系统3中，通过对平面镜68及另一平面镜66的曲率局部地进行曲率校正，从而能够变更曝光光的偏角，改善照度分布。

此外，镜变形单元70也可以安装在准直镜67的背面侧。

关于其他构成和作用效果与所述第1实施方式同样。

另外，作为本实施方式的变形例，例如，在工件W形变的情况下，也可以根据工件W的被曝光区域的形状，用平面镜68的镜变形单元70来校正曲率，从而高精度地曝光转印掩模M的图案，通过变更另一平面镜66的曲率来改变偏角，从而抑制因用平面镜68的镜变形单元70来校正曲率而产生的曝光光的照度分布的恶化，改善照度分布而进行高分辨率的曝光。

另外，本发明不限于上述的各实施方式，能够适当进行变形、改良等。

Claims (5)

1.一种曝光装置，包括：

工件支承部，所述工件支承部支承工件；

掩模支承部，所述掩模支承部支承掩模；

照明光学系统，所述照明光学系统具有光源和将来自该光源的曝光光反射的反射镜；及

镜弯曲机构，所述镜弯曲机构能校正所述反射镜的曲率，

所述曝光装置将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，

所述曝光装置的特征在于，

包括对照射到所述工件的曝光光的照度进行测定的照度计，

在曝光所述工件前，使用所述照度计测定被所述反射镜反射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布，

比较曝光前测定的照度分布与目标照度分布，利用所述镜弯曲机构校正所述反射镜的曲率后，再次测定照度分布，反复进行直到到达目标照度分布。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

包括移动所述工件支承部以便使所述工件与所述掩模在水平方向相对移动的输送机构，

驱动所述输送机构，能够使所述照度计在所述曝光区域的整个范围移动。

3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统包括多个所述反射镜，并且，

所述镜弯曲机构包含分别能校正所述多个反射镜的曲率的多个镜弯曲机构，

对于所述多个反射镜的任意1个，驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率，

对于所述多个反射镜的任意另1个，在校正了所述任意1个反射镜的曲率的状态下，根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率。

4.一种曝光方法，使用权利要求1所述的曝光装置，将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，其特征在于，包括如下的工序：

使用所述照度计测定经由所述反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布；及

根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正所述反射镜的曲率。

5.一种曝光方法，使用权利要求3所述的曝光装置，将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，其特征在于，包括如下的工序：

对于所述多个反射镜的任意1个，驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率；

使用所述照度计，测定经由所述曲率由所述镜弯曲机构进行了校正的所述任意1个反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布；及

对于所述多个反射镜的任意另1个，在校正了所述任意1个反射镜的曲率的状态下，根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率。