JP2008238416A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008238416A5 JP2008238416A5 JP2007078019A JP2007078019A JP2008238416A5 JP 2008238416 A5 JP2008238416 A5 JP 2008238416A5 JP 2007078019 A JP2007078019 A JP 2007078019A JP 2007078019 A JP2007078019 A JP 2007078019A JP 2008238416 A5 JP2008238416 A5 JP 2008238416A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- fine structure
- film
- group
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Claims (11)
- 側鎖にラジカル反応性基と酸基とを有する樹脂（Ａ）を含むナノインプリント用樹脂組成物。
- 側鎖にラジカル反応性基と酸基とを有する樹脂（Ａ）が、酸基含有(メタ)アクリル樹脂（ｉ）と、ラジカル重合性基及びエポキシ基を有する化合物（ii）との反応生成物である請求項１の樹脂組成物。
- さらに、硬化性モノマー（Ｂ）及び／又は重合開始剤（Ｃ）を含む請求項１記載の樹脂組成物。
- さらに、ナノスケール粒子（Ｄ）として、酸化物類、硫化物類、セレン化物類、テルル化物類、ハロゲン化物類、炭化物類、ヒ化物類、アンチモン化物類、窒化物類、リン化物類、炭酸塩類、カルボン酸塩類、リン酸塩類、硫酸塩類、ケイ酸塩類、チタン酸塩類、ジルコン酸塩類、アルミン酸塩類、スズ酸塩類、鉛酸塩類およびこれらの混合酸化物からなる群から選択される少なくとも一つを素材とするナノスケール粒子を含む請求項１〜３の何れかの項に記載の樹脂組成物。
- 請求項１〜４の何れかの項に記載の樹脂組成物を硬化して形成された硬化物。
- 請求項１〜４の何れかの項に記載の樹脂組成物にナノインプリント加工を施して微細構造物を得る微細構造物の製造方法。
- （１）請求項１〜４の何れかの項に記載の樹脂組成物からなる被膜を支持体上に形成する工程、
（２）前記被膜にナノスタンパをプレスしてパターンを転写する工程、及び
（３）パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程
を含む請求項６記載の微細構造物の製造方法。 - 工程（２）において、シリコーン、ガラス、及びシリカガラスから選択される少なくとも一つを素材とするナノスタンパを用いる請求項７記載の微細構造物の製造方法。
- さらに、（４）硬化被膜にエッチングを施す工程を含む請求項７又は８記載の微細構造物の製造方法。
- 請求項６〜９の何れかの項に記載の製造方法で得られる微細構造物。
- 半導体材料、回折型集光フィルム、偏光フィルム、光導波路、又はホログラムである請求項１０記載の微細構造物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007078019A JP5362186B2 (ja) | 2007-03-24 | 2007-03-24 | ナノインプリント用樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007078019A JP5362186B2 (ja) | 2007-03-24 | 2007-03-24 | ナノインプリント用樹脂組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008238416A JP2008238416A (ja) | 2008-10-09 |
| JP2008238416A5 true JP2008238416A5 (ja) | 2010-01-14 |
| JP5362186B2 JP5362186B2 (ja) | 2013-12-11 |
Family
ID=39910344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007078019A Expired - Fee Related JP5362186B2 (ja) | 2007-03-24 | 2007-03-24 | ナノインプリント用樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5362186B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5729744B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2015-06-03 | 荒川化学工業株式会社 | 表面にパターンが形成された積層体 |
| JP5625281B2 (ja) * | 2009-08-07 | 2014-11-19 | Dic株式会社 | 硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びプラスチックレンズ |
| CN102939640B (zh) * | 2010-04-19 | 2016-05-11 | 日产化学工业株式会社 | 高耐擦伤性压印材料 |
| WO2013161627A1 (ja) * | 2012-04-27 | 2013-10-31 | 日産化学工業株式会社 | インプリント材料 |
| CN105008966B (zh) | 2012-09-20 | 2019-12-03 | 3M创新有限公司 | 包含纳米颗粒和含有亚烷基氧重复单元的单体的微结构化膜 |
| US9461355B2 (en) | 2013-03-29 | 2016-10-04 | Intel Corporation | Method apparatus and material for radio frequency passives and antennas |
| JP2017504686A (ja) | 2014-01-07 | 2017-02-09 | 東洋合成工業株式会社 | 組成物および部品の製造方法 |
| KR101930421B1 (ko) | 2017-05-12 | 2018-12-19 | 한국기계연구원 | 나노마이크로기반 회절광학소자 및 이의 형성방법 |
| US10705268B2 (en) * | 2018-06-29 | 2020-07-07 | Applied Materials, Inc. | Gap fill of imprinted structure with spin coated high refractive index material for optical components |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0725938A (ja) * | 1993-07-15 | 1995-01-27 | Daicel Chem Ind Ltd | 硬化性ビニル重合体およびその製造方法 |
| JPH08339081A (ja) * | 1995-06-09 | 1996-12-24 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びその製造方法 |
| JPH107747A (ja) * | 1996-06-25 | 1998-01-13 | Daicel Chem Ind Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
| JP3751686B2 (ja) * | 1996-07-02 | 2006-03-01 | Ａｚエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| JPH1017614A (ja) * | 1996-07-05 | 1998-01-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 光硬化性樹脂 |
| JP2000191737A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-11 | Daicel Chem Ind Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
| JP2001106747A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-04-17 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
| JP4222770B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2009-02-12 | リンテック株式会社 | パターン形成用シートおよびパターン形成方法 |
| DE10217151A1 (de) * | 2002-04-17 | 2003-10-30 | Clariant Gmbh | Nanoimprint-Resist |
| JP4275468B2 (ja) * | 2003-06-16 | 2009-06-10 | 大日本印刷株式会社 | 凹凸パターン形成材料、凹凸パターン受容体、凹凸パターン形成方法、転写箔、及び光学物品 |
| JP4268910B2 (ja) * | 2003-09-17 | 2009-05-27 | 大日本印刷株式会社 | 微細凹凸パターンの形成方法 |
| JP4986059B2 (ja) * | 2005-04-07 | 2012-07-25 | 日本化薬株式会社 | 反応性エポキシカルボキシレート化合物及びそれを用いた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
| JP5000112B2 (ja) * | 2005-09-09 | 2012-08-15 | 東京応化工業株式会社 | ナノインプリントリソグラフィによるパターン形成方法 |
-
2007
- 2007-03-24 JP JP2007078019A patent/JP5362186B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008238416A5 (ja) | ||
| ATE541231T1 (de) | Herstellungsverfahren eines optischen filmwellenleiters | |
| CN101097400B (zh) | 软模具及其制造方法 | |
| JP5292621B2 (ja) | ナノインプリント用樹脂製モールド | |
| TWI500638B (zh) | 奈米壓印用硬化性組成物及硬化物 | |
| JP2008238417A5 (ja) | ||
| US10308768B2 (en) | Poly- or prepolymer composition, or embossing lacquer comprising such a composition and use thereof | |
| CN103279009B (zh) | 一种柔性紫外光压印复合模板及其制备方法 | |
| Yi et al. | Roll-to-roll UV imprinting lithography for micro/nanostructures | |
| JP2004002702A (ja) | プレポリマー材料、ポリマー材料、インプリンティングプロセスおよびその使用 | |
| JP2007503338A5 (ja) | ||
| JP2009208317A (ja) | 微細構造物の製造方法 | |
| JP2018125559A5 (ja) | ||
| JP5362186B2 (ja) | ナノインプリント用樹脂組成物 | |
| JP2012099638A (ja) | インプリント用硬化性組成物 | |
| JP2010074163A (ja) | ナノインプリント用モールド製作方法及びナノインプリント用モールドを用いたパターン成形方法 | |
| KR20130062054A (ko) | 광경화형 수지 조성물 및 이를 이용한 복제몰드의 제조방법 | |
| Hu et al. | A degradable polycyclic cross-linker for UV-curing nanoimprint lithography | |
| JP2010184485A (ja) | インプリント用型、インプリント用型の製造方法及び再生方法 | |
| JP2016117885A5 (ja) | ||
| Schift et al. | Nanoimprint lithography | |
| JP2009295797A (ja) | 溝構造または中空構造を有する部材の作製方法 | |
| WO2012029904A1 (ja) | 円筒状モールドの製造方法、及びその方法に用いる装置 | |
| JP2006269919A (ja) | パターン形成方法 | |
| JP2005122047A (ja) | パターン形成方法および光学素子 |