JPH107747A - 硬化性樹脂組成物 - Google Patents

硬化性樹脂組成物

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JPH107747A
JPH107747A JP8183994A JP18399496A JPH107747A JP H107747 A JPH107747 A JP H107747A JP 8183994 A JP8183994 A JP 8183994A JP 18399496 A JP18399496 A JP 18399496A JP H107747 A JPH107747 A JP H107747A
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JP
Japan
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curable resin
resin composition
compound
acid
polymer
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JP8183994A
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English (en)
Inventor
Hiroto Miyake
弘人 三宅
Hiroto Tanigawa
博人 谷川
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Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 希アルカリ水溶液に可溶でかつ光で硬化し、
エッチングレジスト、ソルダーレジストとして有用な硬
化性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 (A)少なくとも1個のカルボキシル基
を含有するポリマー中のカルボキシル基に下記一般式
(1)で表わされる化合物を付加させた化合物、(B)
希釈モノマーまたはオリゴマー、(C)光重合開始剤を
含有してなる希アルカリ水溶液に可溶な硬化性樹脂組成
物である。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、希アルカリ水溶液
に可溶で、かつ光で硬化する樹脂組成物に関し、さらに
詳しくは、エッチングレジスト、ソルダーレジストとし
て有用な硬化性樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】電子部品をコンパクトに組み込むために
プリント配線板が使用される。プリント配線板は、積層
板に張り合わせた銅箔を回路配線に従ってエッチングし
たものであり、電子部品が回路配線上の所定の位置に配
置され半田付けされる。
【0003】プリント配線基板の基盤回路形成に使用さ
れるエッチングレジストは、バインダー樹脂に多官能モ
ノマー、光開始剤等が配合された組成物である。基盤回
路の形成には、エッチングレジストを銅基盤上に塗布
し、写真技術により露光・現像し、酸性条件で銅をエッ
チングし、目的の基盤回路を得る。この目的に使用され
る液状のエッチングレジストとして、アクリル樹脂にグ
リシジルメタクリレートを付加したタイプが提案されて
いる。
【0004】一方、プリント配線基板上に回路導体の半
田を付ける部分以外に樹脂皮膜を形成させるため、ソル
ダーレジストが使用される。半田付けの際に半田が不必
要な部分に付着するのを防止し、さらに絶縁膜として回
路導体が空気に直接曝されて酸化や湿度により腐食され
るのを防止するためである。近年、プリント配線板は高
密化のため微細化されたこと、多量化及びワンボード化
へ対応させるため及び実装方式が表面実装技術(SM
T)へと推移したこと等から、ソルダーレジスト自体も
より高度の解像性、精度、信頼性が要求されている。ソ
ルダーレジストによるレジスト形成も、従来の基板上に
スクリーン印刷をした後、紫外線や熱により硬化させ形
成させるスクリーン印刷法に代わり、上記微細化、SM
T化等に伴い、位置精度、導体エッジ部の被膜性に優れ
る液状フォトレジスト法が提案されている。この傾向
は、民生用基板、産業用基板を問わずいえ、例えば、特
開昭50−144431号、特開昭51−40451号
公報には、エポキシアクリレート樹脂、増感剤、エポキ
シ化合物、エポキシ硬化剤などからなるレジスト組成物
が開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プリン
ト配線基板に使用するエッチングレジストとして、上述
したアクリル樹脂にグリシジルメタクリレートを付加し
たタイプは、銅のエッチングの際に酸性のエッチング液
に侵食されるため、基盤回路の高密度化に対応できな
い。
【0006】また、ソルダーレジストとして使用される
場合、上記公報の方法では、これらのレジストは未露光
部分を有機溶剤を用いて除去し現像する必要があるた
め、多量に使用する有機溶剤が環境汚染や火災等の危険
性もあり問題となる。特に環境汚染の問題は人体に与え
る影響が大きく、オゾン層破壊、作業環境への影響等か
らも問題である。
【0007】一方、有機溶剤の問題を解決するため、希
アルカリ水溶液で現像可能なアルカリ現像型フォトソル
ダーレジストが提案されている。例えば、特開昭56−
40329号、特開昭57−45785号公報には、エ
ポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに
多塩基酸無水物を付加させた反応生成物をベースポリマ
ーとする材料が開示されている。また特開昭61−24
3869号公報には、ノボラック型エポキシ樹脂を使用
した耐熱性、耐薬品性が良好な希アルカリ水溶液で現像
可能な液状ソルダーレジスト組成物が開示されている。
しかしながら、これらは一液での安定性が悪いため二液
型であり、混合後の保管が困難である。
【0008】また、特開平3−172301号公報に
は、カルボキシル基を有するポリ(メタ)アクリレート
にグリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基含有
(メタ)アクリレートを反応させた化合物からなる反応
生成物を用いた材料が開示されている。しかし、該公報
に開示された材料は、ソルダーマスク用感光性樹脂とし
て開発されたため耐エッチング液性が十分でなく、耐弱
アルカリ水性にも劣る場合があり、併せてエッチング材
料として使用するには十分なものではない。
【0009】また、ベースポリマーに共重合体を使用し
たものとして、特開昭63−11930号、特開昭63
−205649号公報にスチレンと無水マレイン酸の共
重合のハーフエステル化合物を用いた組成物が開示され
ている。しかし、いずれも組成物中にエポキシ樹脂を含
有することから組成物の安定性に問題がある。
【0010】また、特開昭62−285903号、特開
昭63−72710号、特開昭63−97601号公報
には、変性無水マレイン酸共重合体を用いた組成物が開
示されているが、変性前の共重合体は汎用溶媒に溶解し
難く高価なイミド系溶媒を使用しなければならず、溶媒
が残留することによりソルダーレジストとしての特性に
悪影響を及ぼすことが考えられる。
【0011】更に、特開昭63−97601号公報のベ
ースポリマーはイミド環を多量に含有しているので、溶
媒への溶解性、ベースポリマー自体の安定性が悪くなる
等の欠点がある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、硬化性重
合体について詳細に検討した結果、カルボキシル基を有
するポリマーに特定のエポキシを含有する(メタ)アク
リレートを付加させた化合物が、アルカリ水溶液に優れ
た溶解性を示し、これがレジスト材料として適すること
を見い出し、本発明を完成するに至った。
【0013】すなわち本発明は、少なくとも1個のカル
ボキシル基を含有するポリマー中のカルボキシル基に下
記一般式(1)で表わされる化合物を付加させた化合物
A、希釈モノマーまたはオリゴマーおよび光重合開始剤
を含有してなる希アルカリ水溶液に可溶な硬化性樹脂組
成物を提供するものである。また、化合物Aの製造時に
付加される一般式(1)で表される化合物が、β−メチ
ルグリシジルメタクリレートまたは下記式(2)で表さ
れる化合物であることを特徴とする硬化性樹脂組成物を
提供するものである。また、化合物Aの重量平均分子量
が10,000〜70,000であることを特徴とする
前記硬化性樹脂組成物を提供するものである。また、化
合物Aの酸価が50〜150KOHmg/gであること
を特徴とする前記硬化性樹脂組成物を提供するものであ
る。さらに、希釈モノマーまたはオリゴマーが、常圧下
での沸点が100℃以上でエチレン結合を少なくとも2
個以上有する不飽和化合物であることを特徴とする前記
硬化性樹脂組成物を提供するものである。また、希釈モ
ノマーまたはオリゴマーが、メタクロイル基またはアク
ロイル基を少なくとも2個以上有する不飽和化合物であ
ることを特徴とする前記硬化性樹脂組成物を提供するも
のである。加えて、エッチングレジストまたはソルダー
レジストに使用することを特徴とする前記硬化性樹脂組
成物を提供するものである。以下、詳細に本発明を説明
する。
【0014】
【化3】
【0015】
【化4】
【0016】
【発明の実施の形態】本発明の硬化性樹脂組成物に使用
する化合物Aを構成するポリマーとして、少なくとも1
個のカルボキシル基を含有する(メタ)アクリル酸を含む
アクリル樹脂、無水マレイン酸共重合体、ポリアミド
酸、カルボキシメチルセルロース等が例示できる。これ
らの中でも、(メタ)アクリル酸を含むアクリル樹脂が
好ましい。
【0017】「少なくとも1個のカルボキシル基を含有
する(メタ)アクリル酸を含むアクリル樹脂」を構成す
るカルボキシル基を有しないモノマーとしては、メチル
(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、
プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリ
レート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メ
タ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエス
テル類、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシ
ブチル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基を有
する(メタ)アクリル酸エステル類;メトキシジエチレ
ングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレ
ングリコール(メタ)アクリレート、イソオクチルオキ
シジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノ
キシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メ
トキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、
メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート
等の(メタ)アクリレート類等が例示できる。
【0018】「少なくとも1個のカルボキシル基を含有
する(メタ)アクリル酸を含むアクリル樹脂」を構成す
るカルボキシル基を有するモノマーは不飽和基を含有
し、かつ少なくとも1個のカルボキシル基を含有する化
合物であり、アクリル酸、メタクリル酸、不飽和基とカ
ルボキシル基の間に鎖延長された変性不飽和モノカルボ
ン酸、例えばβ−カルボキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−アクリロイルオキシエチルコハク酸モノエステ
ル、2−アクリロイルオキシエチルフタル酸モノエステ
ル、2−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル
酸モノエステル、ラクトン変性等エステル結合を有する
不飽和モノカルボン酸、エーテル結合を有する変性不飽
和モノカルボン酸等が例示できる。さらに、マレイン酸
等のカルボキシル基を分子中に2個以上含むものであっ
てもよい。これらは単独で用いても2種以上を混合して
用いてもよい。
【0019】一般式(1)で表される化合物として、β
−メチルグリシジルメタクリレートや下記式(2)で表
される化合物、例えばエポキシ化イソプレニルメタクリ
レート、エポキシ化イソプレニルアクリレートが挙げら
れる。こられの中で特に好ましいのはβ−メチルグリシ
ジルメタクリレートである。
【0020】
【化5】
【0021】また、一般式(1)で表される化合物の代
わりに、下記式(3)〜(5)で表される化合物を使用
することもできる。
【0022】
【化6】
【0023】
【化7】
【0024】
【化8】
【0025】さらに、一般式(1)で表される化合物の
代わりに、不飽和脂肪酸またはそのエステル誘導体の一
部の炭素−炭素二重結合をエポキシ化して得られるエポ
キシ化合物を使用することもできる。エポキシ化する原
料の化合物で示すと、炭素数16のヘキサデカトリエン
酸(6,10,14−ヘキサデカトリエン酸、6,9,
12−ヘキサデカトリエン酸、7,10,13−ヘキサ
デカトリエン酸)、ヘキサデカテトラエン酸、炭素数1
8のオクタデカテトラエン酸(4,8,12,15−オ
クタデカテトラエン酸)、炭素数21のヘンエイコサペ
ンタエン酸(6,9,12,15,18−ヘンエイコサ
ペンタエン酸)、炭素数20のエイコサテトラエン酸
(5,8,11,14−エイコサテトラエン酸、4,
8,12,16−エイコサテトラエン酸)、エイコサペ
ンタエン酸(5,8,11,14,17−エイコサペン
タエン酸、4,8,12,15,18−エイコサペンタ
エン酸)、炭素数22のドコサテトラエン酸(10,1
3,16,19−ドコサテトラエン酸)、ドコサペンタ
エン酸(7,10,13,16,19−ドコサペンタエ
ン酸)、ドコサヘキサエン酸(4,7,10,13,1
6,19−ドコサヘキサエン酸、4,8,12,15,
18,21−ドコサヘキサエン酸、4,8,11,1
4,17,20−ドコサヘキサエン酸)の各不飽和脂肪
酸またはそのエステル誘導体が例示される。これらは、
魚油等の天然油脂から得られ、高純度品、これらの混合
物、あるいはこれらの不飽和脂肪酸やその誘導体を含有
する蒸留残留物のいずれにおいても用いることができ
る。
【0026】本発明で使用する化合物(A)は、上記
「少なくとも1個のカルボキシル基を含有するポリマ
ー」のカルボキシル基に、一般式(1)で表される化合
物をエポキシ開環付加して得る。なお、一般式(1)で
表される化合物の他、上記式(3)〜(5)で表される
化合物や前記不飽和脂肪酸またはそのエステルの誘導体
のエポキシ化物も同様に使用することができる。一般式
(1)の化合物の付加量は、「少なくとも1個のカルボ
キシル基を含有するポリマー」を構成するモノマーに対
し10〜40モル%で付加させることが好ましい。10
モル%より少ないと得られた硬化性樹脂組成物の紫外線
硬化性が悪く、硬化皮膜の物性が悪化する。一方、40
モル%を越えると硬化性樹脂組成物の保存安定性が悪く
なる。
【0027】エポキシ開環付加に使用する触媒として
は、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン、テト
ラメチルエチレンジアミン、トリ−n−オクチルアミン
等の3級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライ
ド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチ
ルアンモニウムブロマイド等の4級アンモニウム塩、テ
トラメチル尿素等のアルキル尿素、テトラメチルグアニ
ジン等のアルキルグアニジン、トリフェニルホスフィン
等のホスフィン系及びこれらの塩を例示できる。これら
は単独で使用しても2種以上を混合して使用してもよ
い。これらの触媒は一般式(1)の化合物に対して0.
01〜10重量%、好ましくは0.5〜3.0重量%用
いるのが好ましい。0.01重量%より少ない場合は触
媒効果が低く、10重量%を越える量を加えると得られ
た硬化性樹脂組成物の特性が劣る。
【0028】反応には溶媒を使用することができる。使
用できる溶媒としては、特に制限はなく、例えば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタ
ノール、エタノール、2−プロパノール等のアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、ジブチルエー
テル、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸イ
ソブチル、エチレングリコールモノアセテート、プロピ
レングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコー
ルモノアセテート等のエステル類、エチレングリコール
モノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノア
ルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキル
エーテル類,ジプロピレングリコールモノアルキルエー
テル類,ブチレングリコールモノアルキルエーテル類、
エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエ
ーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルア
セテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテ
ルアセテート類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド等のアミド類、四塩化炭素、クロロホルム等の
ハロゲン化炭化水素等が例示できる。これらは単独で、
または2種以上を混合して使用してもよい。
【0029】化合物Aの重量平均分子量は、10,00
0〜70,000であることが好ましく、特に好ましく
は20,000〜50,000である。重量平均分子量
が10,000を下回ると、耐熱性が悪くなり、一方7
0,000を越えると後記希釈剤としての有機溶剤への
溶解性、作業性が悪くなるおそれがある。
【0030】化合物Aの酸価は、50〜150KOHm
g/gであることが好ましく、特に好ましくは50〜1
20KOHmg/gである。50KOHmg/gを下回
ると希アルカリ水溶液によるレジスト形成後の未硬化部
分の除去性が悪くなり、一方150KOHmg/gを越
えると硬化皮膜の電気特性、加湿特性が悪くなる傾向が
ある。
【0031】本発明で使用できる希釈モノマーまたはオ
リゴマーは、常圧下の沸点が100℃以下で、アクリロ
イル基またはメタクロイル基を少くとも2個以上有する
不飽和化合物が好ましい。この代表的化合物としては、
エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールメタクリレート、グリセリ
ントリアクリレート、グリセリントリメタクリレート、
プロピレンジアクリレート、プロピレンジメタクリレー
ト、1,2,4−ブタントリオールトリアクリレート、
1,2,4−ブタントリオールトリメタクリレート、
1,4−ベンゼンジオールジアクリレート、1,4−ベ
ンゼンジオールジメタクリレート、分子量200〜50
0のポリエチレングリコールのビスアクリレートまたは
ビスメタクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサメタクリレート等のモノマー、メラミンアクリレ
ート、ポリエポキシ(メタ)アクリレート、ポリウレタ
ン(メタ)アクリレート、ポリエステルポリオールの
(メタ)アクリレート等のオリゴマーが例示できる。ま
た、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタク
リルアミド、ジエチレントリアミントリアクリルアミ
ド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、ジエ
チレントリアミントリメタクリルアミド、ビス(メタク
リルアミドプロポキシ)エタン、ビスメタクリルアミド
エチルメタクリラート−N−〔(β−ヒドロキシエチル
オキシ)エチル〕アクリルアミド、トリアクリルイソシ
アネート、トリメタクリルイソシアネート等の窒素含有
化合物が例示できる。
【0032】本発明に使用できる光重合開始剤として
は、例えば2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェ
ニル〕−2−モリフォリノ−プロパン−1(チバ・ガイ
ギー社製「イルガキュア907」)を主成分とし、その
他の増感剤の1種類あるいは2種類を組み合わせて使用
することができる。これにより特に優れた紫外線硬化性
が得られる。前記組み合わせに用いる光重合開始剤とし
ては、ベンゾフェノン、アセトフェノンベンジル、ベン
ジルジメチルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ジメトキシアセトフェノン、ジメトキ
シフェニルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノ
ン、ジフェニルジサルファイト等が例示できる。これら
光重合開始剤は、光吸収エネルギーの重合開始遊離基へ
の転換を強めるための相乗剤、例えば第3級アミンをも
含有することができる。本発明の硬化性樹脂組成物を電
子線照射で硬化させる場合には、必ずしも光重合開始剤
の添加を必要としない。
【0033】本発明の硬化性樹脂組成物において化合物
A、希釈モノマーまたはオリゴマー及び光重合開始剤成
分の配合割合は、化合物Aの固形分:希釈モノマーまた
はオリゴマーが30:70〜70:30重量部であるこ
とが好ましく、化合物Aと希釈モノマーまたはオリゴマ
ーとの合計量100重量部に対して光重合開始剤の配合
割合が1〜10重量部となることが好ましい。
【0034】本発明の硬化性樹脂組成物は、上記各成分
に加え、必要に応じてエチレングリコールモノアルキル
エーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエ
チレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリ
コールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレン
グリコールモノアルキルアセテート類、シクロヘキサノ
ン、テトラヒドロナフタリン、石油ナフサ等の有機溶剤
を添加することができる。有機溶剤の添加により粘度を
調節し、塗布をし易くすることができる。
【0035】本発明の硬化性樹脂組成物は、その他の添
加剤として必要に応じて熱重合禁止剤、消泡剤、シリコ
ーン系またはフッ素系の消泡剤、レベリング剤、酸化防
止剤などを添加することができる。例えばシリカ、タル
ク、アルミナ、炭酸カルシウム、クレー、アエロジルな
どの体質顔料や、クロムフタロイエロー、シアニングリ
ーン等の着色顔料が例示できる。本発明の硬化性樹脂組
成物は、硬化皮膜の耐熱性向上の目的で熱硬化成分とし
て、硬化性樹脂組成物の安定性を損なわない範囲で、エ
ポキシ樹脂またはフェノール樹脂を併用することもでき
る。配合できるエポキシ樹脂としては、ビスフェノール
A型グリシジルエーテル、ノボラック型エポキシ樹脂等
が例示できる。配合割合は、硬化性樹脂組成物100重
量部に対し50〜200重量部の範囲であることが好ま
しい。
【0036】本発明の硬化性樹脂組成物は、基材上に薄
膜として被着させ硬化させることができる。薄膜を形成
する方法としては、スプレー、ブラシ掛け、ロール塗
装、カーテン塗装、電着塗装、静電塗装等が用いられ
る。
【0037】本発明の硬化性樹脂組成物は基板に所望の
厚さで塗布した後、60〜80℃で15〜60分間加熱
して有機溶剤を揮散させた後、像部分が透明な所望のパ
ターンを基板の塗膜上に置き、紫外線、高圧水銀燈、紫
外線、EB、レーザー光線等の光を照射して所望のパタ
ーンを選択的に露光する。これにより塗膜の露光領域の
硬化性樹脂組成物は、架橋を形成し不溶性となる。次に
非露光領域、すなわち未硬化樹脂部分を希アルカリ水溶
液で除去し塗膜が現像される。ここで用いられる希アル
カリ水溶液としては0.5〜5重量%の炭酸ナトリウム
溶液が一般的であるが、他のアルカリも使用可能であ
る。ソルダーレジストに供する場合には、得られたレジ
ストパターンに耐熱性を向上させるため、紫外線または
100〜200℃の熱または遠赤外線を加えて二次硬化
させることが好ましい。
【0038】本発明による硬化性樹脂組成物は、プリン
ト配線基板のレジスト材料の他、レジストインキ、カラ
ーフィルター用顔料レジストインキ、半導体封止剤、イ
ンキ、プラスチック塗料、紙印刷、フィルムコーティン
グ、家具塗装等の種々のコーティング分野、FRP、ラ
イニング、さらにはエレクトロニクス分野における絶縁
ワニス、絶縁シート、積層版等多くの産業分野で使用す
ることができる。
【0039】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0040】(測定項目とその測定方法) (1)耐エッチング液性 10%塩酸水溶液に1時間浸漬させた後の硬化膜の状態
を目視で観察し評価した。 ○:塗膜に変化がない △:僅かに塗膜光沢がなくなる ×:光沢がなく、塗膜浸食が見られる (2)安定性 ソルダーレジストインキ調整後、40℃で3ヶ月放置
し、インキの粘度変化を次の基準で評価し、安定性の評
価とした。 ○:インキの増粘がほとんど認められない ×:インキが増粘した (3)タックフリー性能 タックフリー性能は、ソルダーレジスト乾燥終了後、指
触し次の基準で評価した。 ○:タックがない △:タックがややある ×:タックがある (4)現像時間 現像時間は、1%炭酸ソーダ水溶液での現像時間を測定
し、以下の基準で評価した。なお、本発明における希ア
ルカリ水溶液に可溶とは、この現像時間が20秒未満で
あることを意味する。 ○:20秒未満 △:20〜60秒で現像可 ×:60秒を越えて必要 (5)感度 感度は、コダック社製ステップタブレットを使用して評
価した。 (6)密着性 密着性は、得られたソルダーレジスト膜について、JI
S D0202に準じてセロハンテープによるピーリン
グ試験を行った。 ○:100/100 △:50/100〜99/100 ×:0/100〜49/100 (7)半田耐熱性 半田耐熱性は、260℃の半田槽に20秒間浸漬後のソ
ルダーレジスト膜の状態を目視で評価した。 ○:塗膜に異常がない △:塗膜にふくれ、剥離が僅かに認められる ×:塗膜にふくれ、剥離が認められる (8)耐弱アルカリ水性 耐弱アルカリ水性は、40℃の温水に24時間浸漬し、
塗膜状態を目視で評価・判定した。 ○:全く変化のないもの △:僅かに塗膜光沢がなくなるもの ×:光沢がなくなるもの
【0041】(合成例1)撹拌機、温度計、還流冷却
管、滴下ロート及び窒素導入管を備えた2リットルセパ
ラブルフラスコに、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル(日本乳化剤社製「MFDG」)300g、t
−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(日本油
脂社製「パーブチルO」)13.1gを導入し、95℃
に昇温後、メタクリル酸172.2g、メチルメタクリ
レート154.5g、及び2,2’−アゾビス(2−メ
チルブチロニトリル)(日本ヒドラジン工業社製「AB
N−E」)10.5g、MFDG200gを共に3時間
かけて滴下した。滴下後4時間熟成してカルボキル基を
有する幹ポリマーを合成した。次に、上記幹ポリマー溶
液に、β−メチルグリシジルメタクリレート(ダイセル
化学工業社製「M−GMA」)を173.3g及びトリ
フェニルホスフィン1.73g、メチルハイドロキノン
1.0gを加えて、100℃で10時間反応させた。反
応は、空気/窒素の混合雰囲気下で行った。得られた重
合体を重合体(A)とする。重合体(A)の酸価は10
0KOHmg/g、二重結合当量(不飽和基1mol当
りの樹脂のグラム重量)は450、重量平均分子量は1
5,000であった。
【0042】(合成例2)撹拌機、温度計、還流冷却
管、滴下ロート及び窒素導入管を備えた2リットルセパ
ラブルフラスコに、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル(日本乳化剤社製「MFDG」)300g、t
−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(日本油
脂社製「パーブチルO」)13.1gを導入し、95℃
に昇温後、メタクリル酸172.2g、メチルメタクリ
レート93.5g、カプロラクトン変性2ーヒドロキシ
エチルメタクリレート(ダイセル化学工業社製「FM−
1」)61.0g及び2,2’−アゾビス(2−メチル
ブチロニトリル)(日本ヒドラジン工業社製「ABN−
E」)10.5g、MFDG200gを共に3時間かけ
て滴下した。滴下後4時間熟成してカルボキル基を有す
る幹ポリマーを合成した。次に、上記幹ポリマー溶液
に、β−メチルグリシジルメタクリレート(ダイセル化
学工業社製「M−GMA」)を173.3g及びトリフ
ェニルホスフィン1.73g、メチルハイドロキノン
1.0gを加えて、100℃で10時間反応させた。反
応は、空気/窒素の混合雰囲気下で行った。得られた重
合体を重合体(B)とする。重合体(B)の酸価は10
0KOHmg/g、二重結合当量(不飽和基1mol当
りの樹脂グラム重量)は450、重量平均分子量は1
3,000であった。
【0043】(合成例3)撹拌機、温度計、還流冷却
管、滴下ロート及び窒素導入管を備えた2リットルセパ
ラブルフラスコに、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル(日本乳化剤社製「MFDG」)300g、t
−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(日本油
脂社製「パーブチルO」)13.1gを導入し、95℃
に昇温後、メタクリル酸150.7g、メチルメタクリ
レート90.0g、カプロラクトン変性2ーヒドロキシ
エチルメタクリレートのコハク酸変性物(ダイセル化学
工業社製「FM−1A」)86.0g及び2,2’−ア
ゾビス(2−メチルブチロニトリル)(日本ヒドラジン
工業社製「ABN−E」)10.5g、MFDG200
gを共に3時間かけて滴下した。滴下後4時間熟成して
カルボキル基を有する幹ポリマーを合成した。次に、上
記幹ポリマー溶液に、β−メチルグリシジルメタクリレ
ート(ダイセル化学工業社製「M−GMA」)を17
3.3g及びトリフェニルホスフィン1.73g、メチ
ルハイドロキノン1.0gを加えて、100℃で10時
間反応させた。反応は、空気/窒素の混合雰囲気下で行
った。得られた重合体を重合体(C)とする。重合体
(C)の酸価は100KOHmg/g、二重結合当量
(不飽和基1mol当りの樹脂グラム重量)は450、
重量平均分子量は12,000であった。
【0044】(合成例4)撹拌機、温度計、還流冷却
管、滴下ロート及び窒素導入管を備えた2リットルセパ
ラブルフラスコに、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテル(日本乳化剤社製「MFDG」)300g、t
−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(日本油
脂社製「パーブチルO」)13.7gを導入し、95℃
に昇温後、メタクリル酸172.2g、メチルメタクリ
レート170.6g、及び2,2’−アゾビス(2−メ
チルブチロニトリル)(日本ヒドラジン工業社製「AB
N−E」)11.0g、MFDG200gを共に3時間
かけて滴下した。滴下後4時間熟成してカルボキル基を
有する幹ポリマーを合成した。次に、上記幹ポリマー溶
液に、グリシジルメタクリレート(ダイセル化学工業社
製「GMA」)157.8g及びトリフェニルホスフィ
ン1.58g、メチルハイドロキノン1.0gを加え
て、100℃で10時間反応させた。反応は、空気/窒
素の混合雰囲気下で行った。得られた重合体を重合体
(D)とする。重合体(D)の酸価は100KOHmg
/g、二重結合当量(不飽和基1mol当りの樹脂グラ
ム重量)は450、重量平均分子量は15,000であ
った。
【0045】(合成例5)撹拌機、温度計、還流冷却
管、滴下ロート及び窒素導入管を備えた2リットルセパ
ラブルフラスコに、大日本インキ化学工業社製クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂「エピクロンN−680」
210g(1.0当量)、アクリル酸72g(1.0当
量)、メチルハイドロキノン0.1g、ナフテン酸クロ
ム0.8g、ナフテン酸リチウム0.4g、及び溶剤と
してブチルセロソルブアセテート180gを仕込み、空
気を吹き込みながら110〜120℃で8時間反応させ
た後、無水マレイン酸49g(0.5モル)を仕込み、
110〜120℃で2時間反応して重合体を得た。得ら
れた重合体を重合体(E)とする。重合体(E)の酸価
は86KOHmg/gであった。
【0046】(実施例1〜3、比較例1)表−1に従
い、前記合成例1〜4で得られた重合体45重量部(固
形分)を含む反応溶液、フタロシアニングリーン1重量
部、光重合開始剤としてチバ・ガイギー社製「イルガキ
ュア907」7重量部を混合した後、3本ロールで混練
し、粘ちょうなインキ組成物を得た。得られた各インキ
組成物を、基板の上にバーコーターを用いて20〜30
μmの厚さに塗布し、80℃の送風乾燥機で20分間乾
燥させた。その後、ネガフィルムを密着させ、1,00
0mJ/cm2の光量を照射し、さらに1%炭酸ソーダ
水溶液で現像した。ついで、30℃の20%塩酸水溶液
中に1時間放置し、耐エッチング液性を評価した。な
お、本実施例では、耐エッチング性の比較を容易にする
ため、希釈モノマーまたはオリゴマーを加えないで評価
した。
【0047】(実施例4〜6、比較例2、3)表−2に
従い、重合体100重量部(固形分)、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート40重量部(エポキシ当量
220)のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(大日
本インキ社製「エピクロンN695」)20重量部、フ
タロシアニングリーン2重量部、光重合開始剤としてチ
バ・ガイギー社製「イルガキュア907」を混合した
後、3本ロールで混練し、粘ちょうなインキ組成物を得
た。得られた各インキ組成物を、基板の上にバーコータ
ーを用いて20〜30μmの厚さに塗布し、80℃の送
風乾燥機で20分間乾燥させた。その後、ネガフィルム
を密着させ、1,000mJ/cm2の光量を照射し
た。その後1%炭酸ソーダ水溶液で現像し、得られた塗
膜を150℃送風オーブンで30分間硬化させソルダー
レジスト膜を得た。得られた各インキについて、安定性
試験、乾燥後のタックフリー性、現像時間、感度、密着
性、半田耐熱性、耐弱アルカリ水性を評価した。
【0048】
【表1】
【0049】
【表2】
【0050】(結果)実施例1〜3および比較例1か
ら、β−メチルグリシジルメタクリレートを使用した硬
化性樹脂は耐エッチング液性に優れることがわかった。
また、実施例4〜6および比較例2、3から、本発明の
硬化性樹脂組成物は、一液型のソルダーレジストとして
使用でき、かつ、塗膜の密着性、半田耐熱性、耐弱アル
カリ水性等優れることがわかった。
【0051】
【発明の効果】本発明の硬化性樹脂組成物は、耐熱性、
耐薬品性、密着性に優れており、エッチングレジスト及
びソルダーレジストとして使用できる極めて有用な硬化
性樹脂組成物である。特に、エレクトロニクスに関連す
るプリント配線基板、LSI関係、液晶に付随するカラ
ーフィルター、封止剤等のレジスト材料、レジストイン
クのバインダー樹脂として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/28 H05K 3/28 B

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記(A)、(B)および(C)を含有
    してなる希アルカリ水溶液に可溶な硬化性樹脂組成物。 (A)少なくとも1個のカルボキシル基を含有するポリ
    マー中のカルボキシル基に下記一般式(1)で表わされ
    る化合物を付加させた化合物(以下、「化合物A」と称
    す。)、 (B)希釈モノマーまたはオリゴマー、 (C)光重合開始剤 【化1】
  2. 【請求項2】 請求項1記載の一般式(1)で表される
    化合物が、β−メチルグリシジルメタクリレートである
    ことを特徴とする硬化性樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の一般式(1)で表される
    化合物が、下記式(2)で表される化合物であることを
    特徴とする硬化性樹脂組成物。 【化2】
  4. 【請求項4】 化合物Aの重量平均分子量が10,00
    0〜70,000であることを特徴とする請求項1〜3
    のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
  5. 【請求項5】 化合物Aの酸価が50〜150KOHm
    g/gであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか
    に記載の硬化性樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 希釈モノマーまたはオリゴマーが、常圧
    下での沸点が100℃以上でエチレン結合を少なくとも
    2個以上有する不飽和化合物であることを特徴とする請
    求項1〜5のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
  7. 【請求項7】 希釈モノマーまたはオリゴマーが、メタ
    クロイル基またはアクロイル基を少なくとも2個以上有
    する不飽和化合物であることを特徴とする請求項1〜5
    のいずかに記載の硬化性樹脂組成物。
  8. 【請求項8】 エッチングレジストに使用することを特
    徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の硬化性樹脂組
    成物。
  9. 【請求項9】 ソルダーレジストに使用することを特徴
    とする請求項1〜7のいずれかに記載の硬化性樹脂組成
    物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008238416A (ja) * 2007-03-24 2008-10-09 Daicel Chem Ind Ltd ナノインプリント用樹脂組成物

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