JP2008225243A - 保護剤塗布装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】感光体1上に、パラフィンを主成分とする保護剤21を塗付する保護剤塗布装置2において、前記感光体1に前記保護剤を所定の時間tの間塗布したときに、当初感光体表面のXPS分析で得られるC1sスペクトルと前記保護剤を所定の時間tの間塗布した後の該感光体表面のXPS分析で得られるC1sスペクトルとから求められる前記感光体1に対する保護剤の被覆率が所定値以上となるように塗布条件が設定されてなることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
そのため、有機感光体の寿命を延ばし長期に渡って高画質を保持するには、摩擦による部材の劣化を低減し、クリーニング性を向上させる必要がある。
(1) 感光体上に、パラフィンを主成分とする保護剤を塗付する保護剤塗布装置において、前記感光体に前記保護剤を所定の時間tの間塗布したときに、下記式(1)で求められる感光体に対する保護剤の被覆率が所定値以上となるように塗布条件が設定されてなることを特徴とする保護剤塗布装置。
(保護剤の被覆率)=(A0−At)/A0×100(%) ・・・(1)
(ここで、A0は当初感光体表面のXPS分析で得られるC1sスペクトルに関し、炭素の相異なる結合状態から生ずる波形を結合エネルギーに応じて波形分離することにより得られるピークについて、290.3〜294eVの範囲にピークトップを有するピークの面積の和(総面積)の前記C1sスペクトル全体の面積に対する割合を示し、
Atは前記感光体上に前記保護剤を所定の時間tの間塗布した後の該感光体表面のXPS分析で得られるC1sスペクトルに関し、炭素の相異なる結合状態から生ずる波形を結合エネルギーに応じて波形分離することにより得られるピークについて、290.3〜294eVの範囲にピークトップを有するピークの面積の和(総面積)の前記保護剤塗布後のC1sスペクトル全体の面積に対する割合を示す。)
(2) 前記感光体に前記保護剤を3分間塗布したときに、前記保護剤の被覆率が40%以上となり、かつ前記感光体に前記保護剤を10分間塗布したときに、前記保護剤の被覆率が60%以上となるように塗布条件が設定されてなることを特徴とする前記(1)に記載の保護剤塗布装置。
(3) 前記保護剤は、融点70〜130℃のパラフィンを保護剤全体の40重量%以上含有してなることを特徴とする前記(1)または(2)に記載の保護剤塗布装置。
(4) 前記パラフィンを主体とする保護剤からなるバーを、ブラシによりかきとり、そのブラシを前記感光体に押し当てることにより、該感光体表面に保護剤を供給し、ついでブレードを押し当てることにより、前記感光体上に保護剤を固定することを特徴とする前記(1)〜(3)のいずれかに記載の保護剤塗布装置。
(5) 前記(1)〜(4)のいずれかに記載の保護剤塗布装置を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
(6) 前記(5)に記載のプロセスカートリッジを備えることを特徴とする画像形成装置。
(7) 前記(1)〜(4)のいずれかに記載の保護剤塗布装置を備えることを特徴とする画像形成装置。
請求項3の発明によれば、感光体を効果的に保護できる保護剤とすることにより、高画質の画像形成を行う保護剤塗布装置を提供することができる。
請求項4の発明によれば、感光体に保護剤を効率よく供給できることにより、高画質の画像形成を行う保護剤塗布装置を提供することができる。
請求項5の発明によれば、高画質の画像形成が可能で、長寿命のプロセスカートリッジを提供することができる。
請求項6,7の発明によれば、高画質の画像形成が可能で、長寿命の画像形成装置を提供することができる。
(保護剤の被覆率)=(A0−At)/A0×100(%) ・・・(1)
(ここで、A0は当初感光体表面のXPS分析で得られるC1sスペクトルに関し、炭素の相異なる結合状態から生ずる波形を結合エネルギーに応じて波形分離することにより得られるピークについて、290.3〜294eVの範囲にピークトップを有するピークの面積の和(総面積)の前記C1sスペクトル全体の面積に対する割合を示し、
Atは前記感光体上に前記保護剤を所定の時間tの間塗布した後の該感光体表面のXPS分析で得られるC1sスペクトルに関し、炭素の相異なる結合状態から生ずる波形を結合エネルギーに応じて波形分離することにより得られるピークについて、290.3〜294eVの範囲にピークトップを有するピークの面積の和(総面積)の前記保護剤塗布後のC1sスペクトル全体の面積に対する割合を示す。)
(A0−A3)/A0×100≧40 ・・・式(2)
(A0−A10)/A0×100≧60 ・・・式(3)
本発明に係る保護剤塗布装置の保護剤バーに用いる保護剤には、融点が50℃〜130℃、好ましくは60℃〜125℃、さらに好ましくは70〜120℃のパラフィンが主成分である。パラフィンの融点が60℃以下では、高温での保存による変形が生じやすく、150℃以上では、感光体上への塗布性能が著しく低下し、好ましくない。本発明でいう、パラフィンの融点とは、示差走査熱量計(例えば、島津製作所製DSC-60)で、温度を昇温(例えば、昇温スピード10℃/min)し、溶解に伴う吸熱ピークの温度を言うことにする。
また両親媒性の有機化合物は、陰イオン系界面活性剤、陽イオン系界面活性剤、両イオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤やこれらの複合物等に類別されるが、本発明の保護剤は、上述のように像担持体上に保護剤層を形成し、像形成工程を経るため、像担持体の電気的な特性に対して悪影響を与えないようにする必要がある。このうち、両親媒性の有機化合物として非イオン系界面活性剤を用いることにより、界面活性剤自身がイオン解離することがなくなるため、使用環境、特に湿度が、大幅に変動した場合にも、気中放電などによる電荷のリークを抑制することができ、画像品質を高度に維持することができる。
CnH2n+1COOH 化学式(1)
(ただし、式中のnは15〜35の整数を示す。)
図1は本発明に係る保護剤塗布装置構成の概略図である。
像担持体である感光体ドラム(1)に対向して配設された保護剤塗布装置(2)は、保護剤(21)、保護剤供給部材(22)、押圧力付与機構(23)、保護層形成機構(24)等から主に構成される。
また、撓みの程度を調整するために、ジエン系ゴム、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、エチレンプロピレンゴム、イソプレンゴム、ニトリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、ヒドリンゴム、ノルボルネンゴム等を複合して用いても良い。
像担持体である感光体ドラム(1)に対向して配設された保護剤塗布装置(2)は、保護剤(21)、保護剤供給部材(22)、押圧力付与機構(23)、保護層形成機構(24)等から主に構成される。
ドラム状の像担持体(1)の周囲に、保護剤塗布装置(2)、帯電装置(3)、潜像形成装置(8)、現像装置(5)、転写装置(6)、およびクリーニング装置(4)が配置され、以下の動作で画像形成が行なわれる。
有機光導電層を有する感光体(OPC)に代表される像担持体(1)は、除電ランプ(図示せず)等で除電され、帯電部材を有する帯電装置(3)で均一にマイナスに帯電される。
帯電装置による像担持体の帯電が行なわれる際には、電圧印加機構(図示せず)から帯電部材に、像担持体(1)を所望の電位に帯電させるに適した、適当な大きさの電圧またはこれに交流電圧を重畳した帯電電圧が印加される。
また、像担持体上に残存するトナー粒子は、クリーニング部材(41)によって、クリーニング装置(4)内のトナー回収室へ、回収される。
本発明の画像形成装置に用いる感光体は、導電性支持体の上に感光層が設けられている。感光層の構成は電荷発生材と電荷輸送材を混在させた単層型、あるいは電荷発生層の上に電荷輸送層を設けた順層型、あるいは電荷輸送層の上に電荷発生層を設けた逆層型がある。また、感光体の機械的強度、耐磨耗性、耐ガス性、クリーニング性等の向上のため、感光層の上に保護層を設けることもできる。感光層と導電性支持体の間には下引き層が設けられていてもよい。また各層には必要により可塑剤、酸化防止剤、レベリング剤等を適量添加することもできる。
(モノフェノール系化合物)
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3−t−ブチル−4−ヒドロキシニソールなど。
2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)など。
1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、トコフェノール類など。
N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−tーブチル−p−フェニレンジアミンなど。
2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−3,3’−チオジプロピオネートなど。
トリフェニルホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキシ)ホスフィンなど。
Ar2
|
−Ar1−N ・・・ 化学式(2)
|
Ar3
(Ar1は置換もしくは未置換のアリーレン基を表わす。Ar2、Ar3は置換もしくは未置換のアリール基を表わし、同一であっても異なってもよい。)
(式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、−COOR7 (R7 は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基)、ハロゲン化カルボニル基若しくはCONR8R9 (R8 及びR9 は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよい)を表わし、Ar1、Ar2 は置換もしくは未置換のアリーレン基を表わし、同一であっても異なってもよい。
Ar3 、Ar4 は置換もしくは未置換のアリール基を表わし、同一であっても異なってもよい。
Xは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。
Zは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基、アルキレンオキシカルボニル2価基を表わす。m、nは0〜3の整数を表わす。)
まず、このトナーは、平均円形度が0.93〜1.00であることが好ましい。ここでは、下記式(4)より得られた値を円形度と定義する。この円形度はトナー粒子の凹凸の度合いの指標であり、トナーが完全な球形の場合1.00を示し、表面形状が複雑になるほど円形度は小さな値となる。
(円形度SR)=(粒子投影面積と同じ面積の円の周囲長)/(粒子投影像の周囲長) ・・・ 式(4)
円形度は、東亜医用電子製フロー式粒子像分析装置FPIA−1000を用いて測定することができる。
具体的な測定方法としては、容器中の予め不純固形物を除去した水100〜150ml中に分散剤として界面活性剤、好ましくはアルキルベンゼンスフォン酸塩を0.1〜0.5ml加え、更に測定試料を0.1〜0.5g程度加える。試料を分散した懸濁液は超音波分散器で約1〜3分間分散処理を行ない、分散液濃度を3000〜10000個/μlとして前記装置によりトナーの形状、粒度を測定する。
この範囲では、微小な潜像ドットに対して、十分に小さい粒径のトナー粒子を有していることから、ドット再現性に優れる。なお、重量平均径D4が3μm未満では、転写効率の低下、ブレードクリーニング性の低下といった現象が発生しやすい。また、重量平均径D4が10μmを超えると、文字やラインの飛び散りを抑えることが難しい。
よって、(D4/D1)が1.00〜1.40の範囲では、トナー粒径による選択現像が起きないため、画質の安定性に優れる。また、トナーの粒度分布がシャープであることから、摩擦帯電量分布もシャープとなり、カブリの発生が抑えられる。また、トナー粒径が揃っていると、潜像ドットに対して、緻密にかつ整然と並ぶように現像されるので、ドット再現性に優れる。
コールターカウンター法によるトナー粒子の粒度分布の測定装置としては、コールターカウンターTA−IIやコールターマルチサイザーII(いずれもコールター社製)があげられる。以下に測定方法について述べる。
ポリオール(1)とポリカルボン酸(2)を、テトラブトキシチタネート、ジブチルチンオキサイドなど公知のエステル化触媒の存在下、150〜280℃に加熱し、必要により減圧としながら生成する水を溜去して、水酸基を有するポリエステルを得る。次いで40〜140℃にて、これにポリイソシアネート(3)を反応させ、イソシアネート基を有するプレポリマー(A)を得る。さらに(A)にアミン類(B)を0〜140℃にて反応させ、ウレア結合で変性されたポリエステルを得る。(3)を反応させる際および(A)と(B)を反応させる際には、必要により溶剤を用いることもできる。
本発明に用いる水系媒体としては、水単独でもよいが、水と混和可能な溶剤を併用することもできる。混和可能な溶剤としては、アルコール(メタノール、イソプロパノール、エチレングリコールなど)、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、セルソルブ類(メチルセルソルブなど)、低級ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンなど)などが挙げられる。
離型剤としては公知のものが使用でき、例えばポリオレフィンワッックス(ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックスなど);長鎖炭化水素(パラフィンワッックス、サゾールワックスなど);カルボニル基含有ワックスなどが挙げられる。
これらのうち好ましいものは、カルボニル基含有ワックスである。カルボニル基含有ワックスとしては、ポリアルカン酸エステル(カルナバワックス、モンタンワックス、トリメチロールプロパントリベヘネート、ペンタエリスリトールテトラベヘネート、ペンタエリスリトールジアセテートジベヘネート、グリセリントリベヘネート、1,18-オクタデカンジオールジステアレートなど);ポリアルカノールエステル(トリメリット酸トリステアリル、ジステアリルマレエートなど);ポリアルカン酸アミド(エチレンジアミンジベヘニルアミドなど);ポリアルキルアミド(トリメリット酸トリステアリルアミドなど);およびジアルキルケトン(ジステアリルケトンなど)などが挙げられる。
使用される樹脂微粒子は、水性分散体を形成しうる樹脂であればいかなる樹脂も使用でき、熱可塑性樹脂でも熱硬化性樹脂でもよいが、例えばビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ケイ素系樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、アニリン樹脂、アイオノマー樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。樹脂微粒子としては、上記の樹脂を2種以上併用しても差し支えない。このうち好ましいのは、微細球状樹脂粒子の水性分散体が得られやすい点から、ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂及びそれらの併用が好ましい。
この無機微粒子の一次粒子径は、5nm〜2μmであることが好ましく、特に5nm〜500nmであることが好ましい。また、BET法による比表面積は、20〜500m2/gであることが好ましい。この無機微粒子の使用割合は、トナーの0.01〜5重量%であることが好ましく、特に0.01〜2.0重量%であることが好ましい.無機微粒子の具体例としては、例えばシリカ、アルミナ、酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ケイ砂、クレー、雲母、ケイ灰石、ケイソウ土、酸化クロム、酸化セリウム、ペンガラ、三酸化アンチモン、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素などを挙げることができる。
該トナーに使用される一般的な結着剤樹脂の例としては、ポリスチレン、ポリp−クロロスチレン、ポリビニルトルエン等のスチレン及びその置換体の単重合体;スチレン/p−クロロスチレン共重合体、スチレン/プロピレン共重合体、スチレン/ビニルトルエン共重合体、スチレン/ビニルナフタレン共重合体、スチレン/アクリル酸メチル共重合体、スチレン/アクリル酸エチル共重合体、スチレン/アクリル酸ブチル共重合体、スチレン/アクリル酸オクチル共重合体、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体、スチレン/メタクリル酸エチル共重合体、スチレン/メタクリル酸ブチル共重合体、スチレン/α−クロルメタクリル酸メチル共重合体、スチレン/アクリロニトリル共重合体、スチレン/ビニルメチルケトン共重合体、スチレン/ブタジエン共重合体、スチレン/イソプレン共重合体、スチレン/マレイン酸共重合体等のスチレン系共重合体;ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸ブチル、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル系単重合体やその共重合体;ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等のポリビニル誘導体;ポリエステル系重合体、ポリウレタン系重合体、ポリアミド系重合体、ポリイミド系重合体、ポリオール系重合体、エポキシ系重合体、テルペン系重合体、脂肪族または脂環族炭化水素樹脂、芳香族系石油樹脂などが挙げられ、単独あるいは混合して使用できるが特にこれらに限定するものではない。中でも、スチレン−アクリル系共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオール系樹脂より選ばれる少なくとも1種以上であることが、電気特性、コスト面等から、より好ましいものである。更には、良好な定着特性を有するものとして、ポリエステル系樹脂および/またはポリオール系樹脂の使用が、一層好ましい。
(保護剤塗布前感光体の分析)
図4は感光体のXPS分析によるC1sスペクトルを示す図である。
保護剤を塗布する前の感光体1のXPS(AXIS/ULTRA、島津/KRATOS、X線源:Mono Al、分析領域:700×300μm)分析を行い、図4のようなC1sスペクトルを得た。図4のスペクトルについて、炭素の相異なる結合状態の波形分離により290.3〜294eVの範囲(同図における矢印範囲)にピークトップを有するピーク(当初ピーク1)の総面積を算出し、その面積がC1sスペクトル全体の波形面積に対する割合(面積比率A0)を求めると7.5%であった。
以下の条件で感光体に保護剤を被覆し、その被覆率を測定した。
(1)保護剤
溶融温度が106℃のノルマルパラフィン77重量部と、溶融温度が112℃のノルマルパラフィン12重量部、環状ポリオレフィンTOPAS−TM(軟化温度60℃、チコナ社製)11重量部を、蓋付きのガラス製容器に入れ、125℃に温度制御したホットスターラーにより、攪拌しつつ溶融した(保護剤処方1組成物)。
ついで予め88℃に加熱した内寸法12mm×8mm×350mmのアルミニウム製の金型を満たすように、溶融した保護剤処方1組成物を流し込み、50℃まで室温雰囲気で放冷後、温度設定をした恒温槽にて60℃まで再加熱して、その温度で20分間保持し、その後、室温まで放冷した。冷却後、固形物を金型から外し、7mm×8mm×310mmに切削成型して、金属製支持体に両面テープで貼り付けた。
直径40mmのアルミニウムドラム(導電性支持体)上に、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層および保護層を、その順に塗布した後に乾燥し、3.6μmの下引き層、0.15μmの電荷発生層、25μmの電荷輸送層、約3.7μmの保護層からなる感光体を作製した。このとき、保護層の塗工はスプレー法により、それ以外は浸漬塗工法により行った。保護層には、平均粒径0.18μmのアルミナを23.5質量%添加した。このときの感光体の表面の表面粗さ(Rzjis)は、0.3〜0.5μmとした。
前述のように作製した保護剤及び感光体を、図1の構成で保護剤塗布装置にセットした。保護剤をブラシに押し付ける圧力を4段階に変化させて、感光体に保護剤を3分及び10分間塗布した。なお、ブラシには、毛の太さが平均30μmで、長さ2.0mmの導電性ポリエステルを静電植毛により作製したものを用いた。ここで、保護剤をブラシに押し付ける圧力の小さい条件のほうから順番に保護剤塗布装置名を保護剤塗布装置4(圧力1.2N),1(圧力2.5N),2(圧力3.5N),3(圧力4.8N)とした。
保護剤塗布前と同様にして、保護剤を塗布した後の感光体についてXPS分析を行い、C1sスペクトルについて、炭素の相異なる結合状態の波形分離により290.3〜294eVの範囲にピークトップを有するピーク(塗布後ピーク1)の総面積を算出し、その面積がC1sスペクトル全体の波形面積に対する割合(面積比率At)を求め((A0−At)/A0 ×100)(%)を算出した。またこの算出は各感光体のランダムな5箇所の場所について行い、その平均値を求めた。その結果を表1に示す。
実施例1において、保護剤作製条件のうち、出発原料を溶融温度が133℃のノルマルパラフィン62重量部、溶融温度が108℃のノルマルパラフィン25重量部、環状ポリオレフィンTOPAS−TM(軟化温度60℃、チコナ社製)13重量部とし、それ以外は実施例1と同様として保護剤を作製した。
ついで、作製した保護剤を、実施例2,3の保護剤塗布装置2,3の保護剤と交換してセットし、それぞれ保護剤塗布装置5,6とし、この保護剤塗布装置5,6を用いて実施例1と同様に保護剤塗布を行って、保護剤被覆率を測定した。その結果を表2に示す。
実施例1において、保護剤作製条件のうち、出発原料を溶融温度が126℃のノルマルパラフィン52重量部、溶融温度が108℃のノルマルパラフィン25重量部、環状ポリオレフィンTOPAS−TM(軟化温度60℃、チコナ社製)13重量部、ポリテトラフルオロエチレン粒子10重量部とし、それ以外は実施例1と同様として保護剤を作製した。
ついで、作製した保護剤を、実施例4、比較例2の保護剤塗布装置の保護剤と交換してセットし、それぞれ保護剤塗布装置7,8とした。この保護剤塗布装置7,8を用いて実施例1と同様に保護剤塗布を行って、保護剤被覆率を測定した。その結果を表3に示す。
実施例1において、保護剤作製条件のうち、出発原料を溶融温度が66℃のノルマルパラフィン55重量部、溶融温度が108℃のノルマルパラフィン32重量部、環状ポリオレフィンTOPAS−TM(軟化温度60℃、チコナ社製)13重量部とし、それ以外は実施例1と同様として保護剤を作製した。
ついで、作製した保護剤を、実施例2の保護剤塗布装置の保護剤と交換してセットし、保護剤塗布装置9とした。この保護剤塗布装置9を用いて実施例2と同様に保護剤塗布を行って、保護剤被覆率を測定したところ、被覆率は、それぞれ63.8%(塗布3分)、100.1%(塗布10分)となった。
実施例7において、保護剤作製条件のうち、溶融温度が66℃のノルマルパラフィンの代わりに、溶融温度が74℃のノルマルパラフィンを用い、それ以外は実施例7と同様に保護剤を作製した。
ついで、作製した保護剤を、実施例7の保護剤塗布装置の保護剤と交換してセットし、保護剤塗布装置10とした。この保護剤塗布装置10を用いて実施例1と同様に保護剤塗布を行って、保護剤被覆率を測定したところ、被覆率は、それぞれ59.0%(塗布3分)、89.9%(塗布10分)となった。
実施例1の保護剤塗布装置1について、該装置に用いたブラシと同一規格であるが、ブラシの製造ロットが5ヶ月前のブラシを用い、それ以外は同一構成とした保護剤塗布装置11を作製した。この保護剤塗布装置11を用いて、実施例1と同様に保護剤塗布を行って、保護剤被覆率を測定したところ、保護剤被覆率はそれぞれ、それぞれ36.8%(塗布3分)、56.8%(塗布10分)となった。
2 保護剤塗布装置
3 帯電装置
4 クリーニング装置
5 現像装置
6 転写ローラ
7 転写媒体
8 潜像形成装置
21 保護剤
22 保護剤供給部材
23,42 押圧力付与機構
24 保護層形成機構
41 クリーニング部材
60 中間転写媒体
100 画像形成装置
200 給紙機構
Claims (7)
- 感光体上に、パラフィンを主成分とする保護剤を塗付する保護剤塗布装置において、
前記感光体に前記保護剤を所定の時間tの間塗布したときに、下記式(1)で求められる感光体に対する保護剤の被覆率が所定値以上となるように塗布条件が設定されてなることを特徴とする保護剤塗布装置。
(保護剤の被覆率)=(A0−At)/A0×100(%) ・・・(1)
(ここで、A0は当初感光体表面のXPS分析で得られるC1sスペクトルに関し、炭素の相異なる結合状態から生ずる波形を結合エネルギーに応じて波形分離することにより得られるピークについて、290.3〜294eVの範囲にピークトップを有するピークの面積の和(総面積)の前記C1sスペクトル全体の面積に対する割合を示し、
Atは前記感光体上に前記保護剤を所定の時間tの間塗布した後の該感光体表面のXPS分析で得られるC1sスペクトルに関し、炭素の相異なる結合状態から生ずる波形を結合エネルギーに応じて波形分離することにより得られるピークについて、290.3〜294eVの範囲にピークトップを有するピークの面積の和(総面積)の前記保護剤塗布後のC1sスペクトル全体の面積に対する割合を示す。) - 前記感光体に前記保護剤を3分間塗布したときに、前記保護剤の被覆率が40%以上となり、かつ前記感光体に前記保護剤を10分間塗布したときに、前記保護剤の被覆率が60%以上となるように塗布条件が設定されてなることを特徴とする請求項1に記載の保護剤塗布装置。
- 前記保護剤は、融点70〜130℃のパラフィンを保護剤全体の40重量%以上含有してなることを特徴とする請求項1または2に記載の保護剤塗布装置。
- 前記パラフィンを主体とする保護剤からなるバーを、ブラシによりかきとり、そのブラシを前記感光体に押し当てることにより、該感光体表面に保護剤を供給し、ついでブレードを押し当てることにより、前記感光体上に保護剤を固定することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の保護剤塗布装置。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の保護剤塗布装置を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
- 請求項5に記載のプロセスカートリッジを備えることを特徴とする画像形成装置。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の保護剤塗布装置を備えることを特徴とする画像形成装置。
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