JP2008207233A - 積層部材の摩擦攪拌接合方法及び水素反応装置 - Google Patents
積層部材の摩擦攪拌接合方法及び水素反応装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008207233A JP2008207233A JP2007048366A JP2007048366A JP2008207233A JP 2008207233 A JP2008207233 A JP 2008207233A JP 2007048366 A JP2007048366 A JP 2007048366A JP 2007048366 A JP2007048366 A JP 2007048366A JP 2008207233 A JP2008207233 A JP 2008207233A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- hydrogen
- metal
- metal plate
- laminated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003466 welding Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000003756 stirring Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 title claims description 47
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title claims description 47
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 59
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 59
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 18
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 63
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 12
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 12
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 6
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 abstract 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 8
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
- B23K20/12—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating the heat being generated by friction; Friction welding
- B23K20/122—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating the heat being generated by friction; Friction welding using a non-consumable tool, e.g. friction stir welding
- B23K20/1225—Particular aspects of welding with a non-consumable tool
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/2475—Membrane reactors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/01—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
- C01B3/02—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
- C01B3/22—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by decomposition of gaseous or liquid organic compounds
- C01B3/24—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by decomposition of gaseous or liquid organic compounds of hydrocarbons
- C01B3/26—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by decomposition of gaseous or liquid organic compounds of hydrocarbons using catalysts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
- C01B3/50—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification
- C01B3/501—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by diffusion
- C01B3/503—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by diffusion characterised by the membrane
- C01B3/505—Membranes containing palladium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/08—Non-ferrous metals or alloys
- B23K2103/10—Aluminium or alloys thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/02—Processes for making hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/0266—Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a decomposition step
- C01B2203/0277—Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a decomposition step containing a catalytic decomposition step
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/04—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
- C01B2203/0405—Purification by membrane separation
- C01B2203/041—In-situ membrane purification during hydrogen production
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/04—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
- C01B2203/0465—Composition of the impurity
- C01B2203/048—Composition of the impurity the impurity being an organic compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/10—Catalysts for performing the hydrogen forming reactions
- C01B2203/1041—Composition of the catalyst
- C01B2203/1047—Group VIII metal catalysts
- C01B2203/1064—Platinum group metal catalysts
- C01B2203/107—Platinum catalysts
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
【課題】融点が異なる金属を交互に３枚以上同時に積層接合できる摩擦攪拌接合方法を提供する。
【解決手段】第１の金属板１と、第１の金属板よりも融点の高い第２の金属板２とを交互に３枚以上積層した積層板を接合する方法であって、前記第１の金属板の側面が第２の金属板の側面よりも外側に突出するように積層し、前記第１の金属板の側面のみに接合ツール８を押圧して摩擦攪拌接合する摩擦攪拌接合方法を特徴とする。
【選択図】図４
【解決手段】第１の金属板１と、第１の金属板よりも融点の高い第２の金属板２とを交互に３枚以上積層した積層板を接合する方法であって、前記第１の金属板の側面が第２の金属板の側面よりも外側に突出するように積層し、前記第１の金属板の側面のみに接合ツール８を押圧して摩擦攪拌接合する摩擦攪拌接合方法を特徴とする。
【選択図】図４
Description
本発明は、被接合材の接合部に回転ツールを挿入し、前記回転ツールの回転により生じる摩擦熱を利用して接合を行う摩擦擬絆接合方法に係り、特に異種金属材料の積層接合方法に関する。
摩擦攪拌接合方法は、被接合材の材質よりも硬い材質の回転ツールを被接合材の接合箇所に挿入し、前記回転ツールを回転させながら、被接合材との相対移動によって発生する摩擦熱により接合する方法である。つまり、回転ツールと被接合材との摩擦熱による塑性流動現象を利用したもので、アーク溶接のように被接合材を溶かして接合するものではない。また、この接合方法は、従来の回転摩擦圧接方法のように被接合材同士を回転してお互いの摩擦熱により接合する方法とは異なる。回転ツールを用いた摩擦攪拌接合方法によれば、被接合材を接合線方向、つまり長手方向に連続的に接合できる。
摩擦攪拌接合技術によって重ね継手を接合する従来技術としては、先端面が平面状もしくは先端面に凹部を有する接合ツールを用い、その接合ツールを一方の部材側に圧入して摩擦攪拌させ、かつ、他の部材も摩擦攪拌することにより両者を接合する方法がある（例えば、特許文献１参照）。
例えば、都市ガスの改質器、有機ハイドライドからの脱水素反応を行う反応器では、反応温度を低温化させると共に高純度の水素を供給するために、水素分離膜を用いる。水素分離膜はパラジウム（以下、Ｐｄと記す）、ニオブ、ジルコニウムなどを主体とした金属箔である。触媒は水素発生の反応が吸熱であるためにアルミニウム（以下、Ａ１と記す）などの熱伝導の高い基材が用いられる。
反応器の製作において、融点が異なる金属を重ね接合するのにそれぞれの金属の変形抵抗が異なるため両方の部材を摩擦攪拌させて接合することが困難であった。例えばＡ１，Ｐｄ，Ａｌの順に重ね合わせて３枚一度に接合する場合、Ａ１の融点は６６０℃、Ｐｄの融点はＡｌに比べはるかに高い。そのため、上板がＡ１の場合に中板であるＰｄが高融点で変形抵抗も大きいため塑性流動せず、Ｐｄの下に配置したＡｌまでを摩擦攪拌接合できない問題があった。
一方、反応器は液体あるいは気体状物質を供給、脱水素反応を行うために用いられるが、この時、反応器内部が水素に曝され、水素脆化といった材質の性能低下の恐れがある。また、異種金属の接合部に生成される金属間化合物は疲労強度の低下などを引き起こし、水素脆化に関しても母材に比べ感受性が高くなることが予想される。
本発明の目的は、融点が異なる金属を交互に３枚以上同時に積層接合できる摩擦攪拌接合方法を提供することにある。
本発明は、第１の金属板と、第１の金属板よりも融点の高い第２の金属板とを交互に３枚以上積層した積層板を接合する方法であって、前記第１の金属板の側面が第２の金属板の側面よりも外側に突出するように積層し、前記第１の金属板の側面のみに接合ツールを押圧して摩擦攪拌接合する摩擦攪拌接合方法を特徴とする。
また、上記接合方法において、前記第１の金属板により形成された凸部が、摩擦攪拌接合により変形、凹部へ塑性流動し、前記第２の金属板の側面が前記第１の金属により被覆されることを特徴とする。
本接合方法では、一方の部材のみに接合ツールを押圧させて摩擦攪拌を生じさせることにより、この押圧力及び摩擦熱により前記部材を他の部材との接合界面に塑性流動させ、両部材との接合界面に反応層を形成することができ、これにより異種金属の接合が可能となる。
本発明によれば、融点が異なる金属を交互に３枚以上同時に積層接合できる摩擦攪拌接合方法を提供することできる。
部材を積層する場合の接合法について説明する。
本発明による接合を実施するためには少なくとも、接合ツールを回転させる為の回転軸、接合ツールを接合部材に対して押圧する為の接合ツール移動軸、及び接合線方向へ移動させる為の接合ツール移動軸を有した構造の装置を用いる必要がある。この際、接合ツールの回転以外は接合部材が移動する構造であっても構わない。これらの要件を満たしていれば、例えば、フライス盤やＮＣフライス盤のような工作機械でも本接合を実施できる。
接合部材の固定には、それぞれ接合部材の形状にあわせた拘束冶具を用いる。特に薄板の積層構造物を重ね接合する場合には、接合ツールによる押圧で接合部材が変形しやすいため、接合線方向に沿って接合線周囲を連続して拘束しておくことが望ましい。
接合部材の材質や板厚によって接合可能な接合ツール回転数や接合速度は異なるため一概には言えないが、例えば厚さ０.１mmのＰｄ板を厚さ０.２mmの純Ａｌで上下から挟み込んだ３枚の積層接合では、接合ツールをＡｌ板にのみ押し込んで、接合ツール回転数
１８０００rpm、接合速度１０００mm／minで３枚同時接合することができる。
１８０００rpm、接合速度１０００mm／minで３枚同時接合することができる。
図１に本発明による接合方法で接合したＡｌ板１とＰｄ板２の接合部断面写真を示す。本発明によれば、Ａｌ板１とＰｄ板２の間に厚さがほぼ一定の反応層３を形成させて両板を接合することが可能となる。図２はレーザ溶接により、Ａ１板１とＰｄ板２を重ね接合した場合であるが、Ａｌ板１とＰｄ板２との間にはブローホールと思われる空洞４が数箇所形成されており、反応層３が空洞４によって分断され不連続になっており厚さも一定でない。更に、本発明による接合に比べ、反応層３が酸素などを多く取り込んでいる。従って、本発明による接合はレーザのような溶融溶接よりも品質が良好であり、耐水素脆化の効果が期待できる。また、本接合方法は耐水素脆化の効果が期待できることから、水素分離膜を接合した反応器に特に有効である。
（実施例１）
図３は本発明における積層部材の配置方法を示した図である。本実施例の積層部材は、触媒プレートであるＡｌ板１の上に水素分離膜であるＰｄ板２を配置し、さらにＰｄ板２の上に水素流路プレートであるＡｌ板１を配置し、Ａｌ板１／Ｐｄ板２／Ａｌ板１の積層構造を有する水素反応器である。ここで、触媒プレートは、高熱伝導基板のＡｌ基板上に、触媒担体となるアルミナが形成され、触媒担体上に触媒金属となるＰｔが担持された構成を有し、触媒へ有機ハイドライドを供給、排出する流路が形成されている。水素流路プレートには水素分離膜で分離した水素ガスを排出するための流路が形成されている。
図３は本発明における積層部材の配置方法を示した図である。本実施例の積層部材は、触媒プレートであるＡｌ板１の上に水素分離膜であるＰｄ板２を配置し、さらにＰｄ板２の上に水素流路プレートであるＡｌ板１を配置し、Ａｌ板１／Ｐｄ板２／Ａｌ板１の積層構造を有する水素反応器である。ここで、触媒プレートは、高熱伝導基板のＡｌ基板上に、触媒担体となるアルミナが形成され、触媒担体上に触媒金属となるＰｔが担持された構成を有し、触媒へ有機ハイドライドを供給、排出する流路が形成されている。水素流路プレートには水素分離膜で分離した水素ガスを排出するための流路が形成されている。
水素反応器の機能について説明する。まず、水素反応器に供給された有機ハイドライドは、触媒プレート上の触媒面を通過することで脱水素反応を起こし、水素ガスと廃液（脱水素化された有機ハイドライド）に分離される。廃液は触媒プレートの流路を通って水素反応器の外へ排出される。有機ハイドライドから生成された水素ガスは水素分離膜を透過し水素流路プレート側へ移動することで廃液と分離され、水素流路を通って水素反応器の外へ排出、回収される。ここで、脱水素反応は吸熱反応であるため、水素反応器は２００〜３００℃に加熱して使用される。
次に、水素反応器のＡｌ板１／Ｐｄ板２／Ａｌ板１の積層部材を接合する方法について説明する。Ｐｄ板２の融点に対してＡ１板１の融点が低いことから、Ａ１板１の板幅５ａ、５ｂを、前記Ｐｄ板２の板幅６ａ、６ｂよりも大きく加工している。本実施例では、
Ａｌ板１の板幅５ａ、５ｂの寸法を、Ｐｄ板２の板幅６ａ、６ｂの寸法に対して、それぞれ２.０mm ずつ大きくしている。これらを図１で示したように各プレートを、Ｐｄ板２の側面よりも低融点金属である前記Ａ１板１の側面が、前記Ｐｄ板２よりも１.０mm だけ突き出した状態になるように積層している。したがって、接合部となる積層部材の側面は凹凸面となり、凸部がＡｌ板１となっている。
Ａｌ板１の板幅５ａ、５ｂの寸法を、Ｐｄ板２の板幅６ａ、６ｂの寸法に対して、それぞれ２.０mm ずつ大きくしている。これらを図１で示したように各プレートを、Ｐｄ板２の側面よりも低融点金属である前記Ａ１板１の側面が、前記Ｐｄ板２よりも１.０mm だけ突き出した状態になるように積層している。したがって、接合部となる積層部材の側面は凹凸面となり、凸部がＡｌ板１となっている。
図４に本発明により摩擦攪拌接合している状態を示す。接合ツール８で接合部７を摩擦攪拌接合する際の接合ツール８と接合部７との位置関係を示したものである。接合ツール８は摩擦攪拌接合で広く使用される先端にプローブ９が形成されたものである。プローブ９の先端をＡｌ板１のＰｄ板２よりも突出した部位にのみ回転数１８０００rpm で回転させながら押圧していく。この時、プローブ９先端とＰｄ板２の接合面１０との隙間１１を本実施例では０.１mmとしている。隙間１１を一定に保ったまま、接合ツール８を1000mm／min で接合方向へ移動しながら、積層部材の全周を液漏れしないようにＡ１板１とＰｄ板２とを接合した。本接合では、突出したＡｌ板１が摩擦攪拌接合により変形し、隙間
１１の凹部へ塑性流動することでＰｄ板２の側面部分を被覆する。ここで、塑性流動したＡｌとＰｄ板２の側面が接触する界面部分において、ＡｌとＰｄの反応層を形成することで接合されている。接合後、Ｐｄ板２の上下面及び側面は、Ａｌ板１によって被覆された構成となっている。本接合により、接合したＡｌ板１とＰｄ板２の側面との接合部の断面写真を図１に示す。Ａｌ板１とＰｄ板２の間に厚さが約０.８μｍ でほぼ一定の反応層３が形成されて両板が接合されていることが分かる。反応層３の厚さとしては、接合強度の点から、５μｍ以下とすることが好ましい。
１１の凹部へ塑性流動することでＰｄ板２の側面部分を被覆する。ここで、塑性流動したＡｌとＰｄ板２の側面が接触する界面部分において、ＡｌとＰｄの反応層を形成することで接合されている。接合後、Ｐｄ板２の上下面及び側面は、Ａｌ板１によって被覆された構成となっている。本接合により、接合したＡｌ板１とＰｄ板２の側面との接合部の断面写真を図１に示す。Ａｌ板１とＰｄ板２の間に厚さが約０.８μｍ でほぼ一定の反応層３が形成されて両板が接合されていることが分かる。反応層３の厚さとしては、接合強度の点から、５μｍ以下とすることが好ましい。
本実施例で説明した水素反応器で使用可能な有機ハイドライドとしては、水素の貯蔵と放出とを化学的に繰り返す有機化合物であればよく、その中でも芳香族化合物が好ましく、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ナフタレン、メチルナフタレン、アントラセン、ビフェニル、フェナスレン及びそれらのアルキル置換体のいずれか又は複数混合したものを利用することができる。また、高熱伝導基板、水素流路プレートとしては、銅、ニッケル、アルミニウム、シリコン、チタンなどを主体とする金属やその合金、クラッド材を使用することができる。また、触媒担体としては、アルミナ，酸化亜鉛，シリカ，酸化ジルコニウム，珪藻土，酸化ニオブ，酸化バナジウム，活性炭，ゼオライト，酸化アンチモン，酸化チタン，酸化タングステン，酸化鉄、からなる群から選ばれる少なくとも１種を使用することができる。また、水素分離膜としては、Ｐｄ，Ｎｂ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａなどの金属またはその合金を用いることができる。Ｎｂ，Ｖ金属としては、Ｍｏ，Ｃｏ，Ｎｉなどを合金化したものを用いることができる。
本実施例では、Ａｌ板１／Ｐｄ板２／Ａｌ板１の積層部材の接合について説明したが、他の異種金属についても本発明の接合方法は適用可能である。その際、異種金属のうち、低融点金属のみに接合ツールを押し当て摩擦攪拌されるように、低融点金属を突出させて積層することが重要である。
（実施例２）
図５は、実施例１のＡ１板１、Ｐｄ板２の配置とは逆にして、最下層及び最上層にＰｄ板２が配置された場合の実施形態を示している。本実施例においても、実施例１と同様に低融点のＡｌ板１を突出するように積層し、積層されたＡｌ板１及びＰｄ板２を上下から拘束冶具１２で拘束している。拘束冶具１２は接合ツール８によって押圧されたＡｌ金属が、積層部材外部へ排出されない為の壁の役割を果たしている。接合ツール８先端をＡｌ板１のＰｄ板２よりも突き出した部位に回転数１８０００rpm で回転させながら押圧していく。この時、隙間１１は本実施例でも０.１mm としている。前記隙間１１を一定に保ったまま、前記接合ツール８を１０００mm／min で接合方向へ移動することにより、前記
Ａ１板１と前記Ｐｄ板２とを接合することが出来た。
図５は、実施例１のＡ１板１、Ｐｄ板２の配置とは逆にして、最下層及び最上層にＰｄ板２が配置された場合の実施形態を示している。本実施例においても、実施例１と同様に低融点のＡｌ板１を突出するように積層し、積層されたＡｌ板１及びＰｄ板２を上下から拘束冶具１２で拘束している。拘束冶具１２は接合ツール８によって押圧されたＡｌ金属が、積層部材外部へ排出されない為の壁の役割を果たしている。接合ツール８先端をＡｌ板１のＰｄ板２よりも突き出した部位に回転数１８０００rpm で回転させながら押圧していく。この時、隙間１１は本実施例でも０.１mm としている。前記隙間１１を一定に保ったまま、前記接合ツール８を１０００mm／min で接合方向へ移動することにより、前記
Ａ１板１と前記Ｐｄ板２とを接合することが出来た。
（実施例３）
図６は本発明を用いて積層接合した第３の実施形態を示した図であり、図７はその接合部断面を示した図である。実施例１と同様にＡ１板１及びＰｄ板２を交互に積層した構造で、積層表面１３側に貫通穴１４が設けられており、貫通穴１４の内部でＡ１板１とＰｄ板２が接合される。実施例１と同様に、接合部となる貫通穴１４の内周においてＡ１板１がＰｄ板２よりも１.０mm 突き出るように配置されている。図７に貫通穴１４における接合の実施形態に示す。接合ツール８を貫通穴１４に回転させながら挿入していくことで、プローブ９の側面により前記Ａｌ板のみが摩擦攪拌される。これによりＡｌ板１が塑性流動することでＰｄ板２の接合面１０と接合される。本実施例では接合ツール８の回転数を１８０００rpmとして実施した。
図６は本発明を用いて積層接合した第３の実施形態を示した図であり、図７はその接合部断面を示した図である。実施例１と同様にＡ１板１及びＰｄ板２を交互に積層した構造で、積層表面１３側に貫通穴１４が設けられており、貫通穴１４の内部でＡ１板１とＰｄ板２が接合される。実施例１と同様に、接合部となる貫通穴１４の内周においてＡ１板１がＰｄ板２よりも１.０mm 突き出るように配置されている。図７に貫通穴１４における接合の実施形態に示す。接合ツール８を貫通穴１４に回転させながら挿入していくことで、プローブ９の側面により前記Ａｌ板のみが摩擦攪拌される。これによりＡｌ板１が塑性流動することでＰｄ板２の接合面１０と接合される。本実施例では接合ツール８の回転数を１８０００rpmとして実施した。
本実施例の貫通孔内での接合方法を実施例１で説明した水素反応器に適用すれば、貫通孔における接合部が集熱経路となり、積層部材の内部まで熱を供給しやすくなる。これにより、触媒プレートの全面に熱を供給できるため、脱水素反応の効率を向上させることが可能となる。なお、その際、積層部材の外周面と貫通孔の両方で接合することが好ましい。
（実施例４）
図８は本発明を用いて積層接合した第４の実施形態を示した図である。Ａ１板１上で
Ａ１板１よりも小さなサイズのＰｄ板２を一定の間隔で縦横に並べ、その上にＡ１板１を積層する。これが交互に積層されている。次に実質的にＡ１板１だけが積層された部位に積層表面側１３の方向から実施例２と同様に接合ツール８を押圧していき、プローブ９の先端が底板１５に達するまで挿入する。更に接合方向へ移動させる。全ての接合部位を摩擦攪拌接合したあとで、接合線１６に沿って切断することで一度に複数の積層構造部品を製作することが可能となり、製造工程の簡略化を図ることができる。
図８は本発明を用いて積層接合した第４の実施形態を示した図である。Ａ１板１上で
Ａ１板１よりも小さなサイズのＰｄ板２を一定の間隔で縦横に並べ、その上にＡ１板１を積層する。これが交互に積層されている。次に実質的にＡ１板１だけが積層された部位に積層表面側１３の方向から実施例２と同様に接合ツール８を押圧していき、プローブ９の先端が底板１５に達するまで挿入する。更に接合方向へ移動させる。全ての接合部位を摩擦攪拌接合したあとで、接合線１６に沿って切断することで一度に複数の積層構造部品を製作することが可能となり、製造工程の簡略化を図ることができる。
１ Ａ１板
２ Ｐｄ板
３ 反応層
４ 空洞
５ａ、５ｂ Ａ１板の板幅
６ａ、６ｂ Ｐｄ板の板幅
７ 接合部
８ 接合ツール
９ プローブ
１０ Ｐｄ板接合面
１１ プローブ先端とＰｄ板接合面との隙間
１２ 拘束ジグ
１３ 積層表面
１４ 貫通穴
１５ 底板
１６ 接合線
２ Ｐｄ板
３ 反応層
４ 空洞
５ａ、５ｂ Ａ１板の板幅
６ａ、６ｂ Ｐｄ板の板幅
７ 接合部
８ 接合ツール
９ プローブ
１０ Ｐｄ板接合面
１１ プローブ先端とＰｄ板接合面との隙間
１２ 拘束ジグ
１３ 積層表面
１４ 貫通穴
１５ 底板
１６ 接合線
Claims (10)
- 第１の金属板と、第１の金属板よりも融点の高い第２の金属板とを交互に３枚以上積層した積層板を接合する方法であって、
前記第１の金属板の側面が第２の金属板の側面よりも外側に突出するように積層し、前記第１の金属板の側面のみに接合ツールを押圧して摩擦攪拌接合することを特徴とする摩擦攪拌接合方法。 - 請求項１において、前記第１の金属板により形成された凸部が、摩擦攪拌接合により変形、凹部へ塑性流動し、前記第２の金属板の側面が前記第１の金属により被覆されることを特徴とする接合部形状及び摩擦攪拌接合方法。
- 請求項２において、前記第２の金属板の側面と、塑性流動した前記第１の金属板とが接触した界面に両金属間の反応層を形成することを特徴とする摩擦攪拌接合方法。
- 請求項２において、前記第２の金属板の上下面及び側面が、前記第１の金属板によって被覆されていることを特徴とする摩擦攪拌接合方法。
- 第１の金属板と、第１の金属板よりも融点の高い第２の金属板とが交互に３枚以上積層された積層部材であって、
前記第２の金属板の上下面及び側面が、前記第１の金属板によって被覆されていることを特徴とする積層部材。 - 請求項５において、前記第２の金属板の側面と前記第１の金属板との界面が、両金属間の反応層により接合されていることを特徴とする積層部材。
- 水素の貯蔵と放出とを化学的に繰り返す有機化合物を脱水素反応させるための触媒プレートと、脱水素反応により生成した水素を分離するための水素分離膜と、水素分離膜を透過した水素の流路となる水素流路プレートとが積層された構造を有する水素反応器であって、
前記触媒プレート、水素分離膜、及び、水素流路プレートの接合部が、各部材を構成する金属材料のうち融点の低い部材の摩擦攪拌による塑性流動によって接合されていることを特徴とする水素反応器。 - 請求項７において、前記接合部が、積層面内に形成された貫通孔の内部であることを特徴とする水素反応器。
- 請求項７において、前記水素分離膜がＰｄ，Ｎｂ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａを主体とする金属またはその合金であり、前記触媒プレート及び水素流路プレートを構成する材料が銅、ニッケル、アルミニウム、シリコン、チタンなどを主体とする金属又はその合金であることを特徴とする水素反応器。
- 請求項９において、前記触媒プレート及び水素流路プレートが同種の材料で構成されていることを特徴とする水素反応器。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007048366A JP4876970B2 (ja) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | 積層部材の摩擦攪拌接合方法及び水素反応装置 |
| CNA2008100046315A CN101254571A (zh) | 2007-02-28 | 2008-01-21 | 层叠部件的摩擦搅拌接合方法以及氢反应装置 |
| US12/023,422 US20080206116A1 (en) | 2007-02-28 | 2008-01-31 | Friction stir welding method for laminated member and hydrogen reactor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007048366A JP4876970B2 (ja) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | 積層部材の摩擦攪拌接合方法及び水素反応装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008207233A true JP2008207233A (ja) | 2008-09-11 |
| JP4876970B2 JP4876970B2 (ja) | 2012-02-15 |
Family
ID=39716128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007048366A Expired - Fee Related JP4876970B2 (ja) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | 積層部材の摩擦攪拌接合方法及び水素反応装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20080206116A1 (ja) |
| JP (1) | JP4876970B2 (ja) |
| CN (1) | CN101254571A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6083035B2 (ja) * | 2014-02-14 | 2017-02-22 | アイセル株式会社 | 構造体の製造方法 |
| US20210346996A1 (en) * | 2015-12-01 | 2021-11-11 | Kienle + Spiess Gmbh | Method for Producing a Clutch Pack Formed by Clutch Plates Arranged on Top of One Another, and Device for Carrying out a Method of This Type |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4875718B2 (ja) * | 2009-01-21 | 2012-02-15 | 株式会社井上製作所 | 可撓導体および可撓導体の製造方法 |
| US10695861B2 (en) | 2014-07-10 | 2020-06-30 | Mazak Corporation | Friction stir extrusion of nonweldable materials for downhole tools |
| EP3177808A1 (en) * | 2014-07-10 | 2017-06-14 | Megastir Technologies LLC | Mechanical flow joining of high melting temperature materials |
| AT520480B1 (de) * | 2017-10-02 | 2020-02-15 | Stirtec Gmbh | Verfahren zum Verbinden flächiger Bauteile sowie Verbundelement |
| CN114949992B (zh) * | 2022-05-31 | 2024-05-24 | 华能重庆两江燃机发电有限责任公司 | 一种可拆解回收的滤芯及其安装方法、回收方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000317654A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-21 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 金属製容器及びその製造方法 |
| JP2001314981A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-13 | Mazda Motor Corp | 金属部材の処理方法 |
| JP2003126972A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-05-08 | Hitachi Ltd | 摩擦攪拌接合方法 |
| JP2005286247A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Nippon Chemicon Corp | 積層コンデンサの製造方法 |
| JP2006290711A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-10-26 | Hitachi Ltd | 水素供給装置および水素供給方法 |
| JP2006341279A (ja) * | 2005-06-09 | 2006-12-21 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 重合せ材料の端面接合方法 |
| JP2007000858A (ja) * | 2005-05-23 | 2007-01-11 | Kobe Steel Ltd | 水素透過部材およびその製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7527661B2 (en) * | 2005-04-18 | 2009-05-05 | Intelligent Energy, Inc. | Compact devices for generating pure hydrogen |
| US20060138197A1 (en) * | 2003-06-12 | 2006-06-29 | Kinya Aota | Friction stirring-welding method |
| JP4473713B2 (ja) * | 2004-11-26 | 2010-06-02 | 本田技研工業株式会社 | 摩擦撹拌接合方法 |
-
2007
- 2007-02-28 JP JP2007048366A patent/JP4876970B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-01-21 CN CNA2008100046315A patent/CN101254571A/zh active Pending
- 2008-01-31 US US12/023,422 patent/US20080206116A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000317654A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-21 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 金属製容器及びその製造方法 |
| JP2001314981A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-13 | Mazda Motor Corp | 金属部材の処理方法 |
| JP2003126972A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-05-08 | Hitachi Ltd | 摩擦攪拌接合方法 |
| JP2005286247A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Nippon Chemicon Corp | 積層コンデンサの製造方法 |
| JP2006290711A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-10-26 | Hitachi Ltd | 水素供給装置および水素供給方法 |
| JP2007000858A (ja) * | 2005-05-23 | 2007-01-11 | Kobe Steel Ltd | 水素透過部材およびその製造方法 |
| JP2006341279A (ja) * | 2005-06-09 | 2006-12-21 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 重合せ材料の端面接合方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6083035B2 (ja) * | 2014-02-14 | 2017-02-22 | アイセル株式会社 | 構造体の製造方法 |
| JPWO2015122441A1 (ja) * | 2014-02-14 | 2017-03-30 | アイセル株式会社 | 構造体の製造方法 |
| US10093075B2 (en) | 2014-02-14 | 2018-10-09 | Isel Co., Ltd. | Method for manufacturing structure and structure |
| US20210346996A1 (en) * | 2015-12-01 | 2021-11-11 | Kienle + Spiess Gmbh | Method for Producing a Clutch Pack Formed by Clutch Plates Arranged on Top of One Another, and Device for Carrying out a Method of This Type |
| US11738419B2 (en) * | 2015-12-01 | 2023-08-29 | Kienle + Spiess Gmbh | Method for producing a clutch pack formed by clutch plates arranged on top of one another, and device for carrying out a method of this type |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20080206116A1 (en) | 2008-08-28 |
| JP4876970B2 (ja) | 2012-02-15 |
| CN101254571A (zh) | 2008-09-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4876970B2 (ja) | 積層部材の摩擦攪拌接合方法及び水素反応装置 | |
| JP4826123B2 (ja) | 水素供給装置および水素供給方法 | |
| JP4509935B2 (ja) | マイクロチャンネル装置の製造装置、その製造方法、及び単位動作を実施する方法 | |
| JP5142399B2 (ja) | マイクロ反応器を製造するためのプロセス | |
| KR101618488B1 (ko) | 2차 전지의 제조 방법, 2차 전지, 용착 장치 | |
| WO2005092558A1 (ja) | 摩擦圧接による金属板の接合方法及び装置 | |
| JP2007007565A (ja) | 水素透過膜補強構造体及びその作製方法 | |
| CN100368189C (zh) | 具有高结合强度的耐腐蚀复合板及其制造方法 | |
| JP5071752B2 (ja) | 抵抗シーム溶接による異種金属の接合方法 | |
| JP2007301606A (ja) | 抵抗スポット溶接による異種金属の接合方法及び接合構造 | |
| JP4631429B2 (ja) | 異種材料の接合方法 | |
| US20190363328A1 (en) | Robust Reaction Metallurgical Joining | |
| JP2016153133A (ja) | 摩擦攪拌接合用ツールを用いた三層以上の積層構造接合体の製造方法とその方法により製造された積層構造接合体 | |
| JP5267774B2 (ja) | 燃料電池用セパレータ | |
| JP2009172672A (ja) | 拡散接合方法 | |
| JP2016153134A (ja) | 摩擦攪拌接合用ツールを用いた三層以上の積層構造接合体の製造方法とその方法により製造された積層構造接合体 | |
| JP2007222936A (ja) | プラズマアーク溶接方法及びマイクロリアクタの製造方法 | |
| JP2005246433A (ja) | 非晶質金属シートの接合方法及び接合装置並びに水素透過ユニット | |
| JP5332130B2 (ja) | 燃料電池スタック構造体 | |
| KR101337294B1 (ko) | 저항용접용 박판 적층물 및 그 제조방법 | |
| JP2008142722A (ja) | 金属薄板と金属箔の抵抗溶接方法およびこれを用いた非水系二次電池の製造方法 | |
| JP7282009B2 (ja) | 溶接装置、および接合部材の製造方法 | |
| JP2011177748A (ja) | 回転円板を使用して得られる薄板の摩擦接合体及び摩擦接合方法 | |
| JP2006297311A (ja) | 水素透過膜の接合方法 | |
| Acharya et al. | Application of Ultrasonic Welding for Dissimilar Metals: A Review |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090525 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110531 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110628 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110802 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111101 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111114 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4876970 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141209 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |