JP2008176102A - ペリクルフレームへの膜接着剤の塗布方法 - Google Patents

ペリクルフレームへの膜接着剤の塗布方法 Download PDF

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    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor

Abstract

【課題】幅広のペリクルフレームに適量の接着剤を均一かつ未塗布やはみ出しもなく塗布し、外観に優れた接着剤層を形成する方法を提供する。
【解決手段】ペリクルフレーム14端面に膜接着剤15を塗布する方法において、吐出口12から膜接着剤15を連続的に滴下しながら吐出口12を移動させることで塗布を行い、その際、吐出口12が設けられている部材の外径幅aをペリクルフレーム幅の60〜120%の範囲とする。幅広い膜接着面を持つペリクルフレーム、長辺と短辺の膜接着面幅が異なるペリクルフレーム、さらには4角形状以外のペリクルフレームに対しても、適量の接着剤を均一に、かつ未塗布やはみ出しなく安定的に塗布し、その結果、外観に優れた膜接着剤層を形成することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体デバイス、プリント基板あるいは液晶ディスプレイ等を製造する際のゴミ除けとして使用されるリソグラフィー用ペリクルの製造方法に関し、特には、ペリクルフレームにペリクル膜接着層を塗布・形成する方法に関するものである。
LSI、超LSIなどの半導体製造或は液晶ディスプレイ等の製造においては、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に光を照射してパターンを作製するが、この時に用いるフォトマスクあるいはレチクル(以下、単にフォトマスクと記述する)にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり光を曲げてしまうために、転写したパターンが変形したり、エッジががさついたものとなるほか、下地が黒く汚れたりするなど、寸法、品質、外観などが損なわれるという問題があった。
このため、これらの作業は通常クリーンルームで行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことが難しい。そこで、フォトマスク表面にゴミよけとしてペリクルを貼り付けした後に露光を行っている。この場合、異物はフォトマスクの表面には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。
一般に、ペリクルは、光を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロースあるいはフッ素樹脂などからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリクルフレームの上端面に貼り付けないし接着する。さらに、ペリクルフレームの下端にはフォトマスクに装着するためのポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的とした離型層(セパレータ)が設けられる。
半導体用途で用いられるような小型のペリクルの場合、ペリクルフレームの膜接着面幅は1.5〜2mm程度と狭く、膜接着剤塗布はさほど難しいことではない。しかし、液晶用途で使用されるような大型のペリクルの場合、ペリクルフレーム幅(膜接着面幅)は10mm以上にも達するものがあり、これに未塗布なく膜接着剤を塗布することは大きな困難を伴う。また、液晶用途で使用されるペリクルの場合、長辺と短辺でペリクルフレーム幅(膜接着面幅)が異なるものも多く、こうした場合には一層困難さを伴うため、フレームに大きさの異なる面取りを設けることで膜接着面幅を等しくすることも提案されている(特許文献1参照)。しかし、ペリクルフレームに大きな面取りを施すことは剛性の低下につながるため好ましいことではない。
未塗布なくペリクルフレーム膜接着面全幅に塗布する最も簡便な方法は、塗布する液量を増やすことであるが、膜接着剤層が必要以上に厚くなり接着面付近の外観を損ねるほか、その分ペリクルフレームの高さを減らす必要があり、フレーム剛性の低下を招く。特に、UV硬化型接着剤など柔らかい状態でペリクル膜を貼り合わせる場合には、ペリクルフレーム側面へのはみ出し、こぼれ等を生ずる恐れもある。また、膜接着剤溶液の溶媒量を増やして粘度低下と液量増加を図ることもできるが、塗布後に蒸発する溶媒量が増加して、乾燥時に膜接着剤が凝集したり、フレームの撓みにより流動して偏りが発生するといった問題点があるため条件として制限があり、これだけで未塗布を無くすことはできない。
特開2001−109135号公報
膜接着剤塗布には、一般にはディスペンサが用いられる。図5にエア加圧式ディスペンサでペリクルフレーム膜接着面にペリクル膜接着剤を塗布している概略図を示す。送液手段としては、エア加圧以外にシリンジポンプ、プランジャポンプ、チューブポンプなどが使用されることもあるが、送液および液量制御方法以外の部分は基本的には全く同じである。
シリンジ53には膜接着剤溶液が充填されており、シリンジ53に接続されたエアなどの加圧源によりシリンジ53に取り付けたニードル51先端の吐出口52より押し出されるようになっている。そして、ニードル先端の吐出口52より膜接着剤溶液を滴下しながら移動させ、ペリクルフレーム54の端面全周にわたって塗布を行う。
この方式が一般的に用いられるのは、機器の構造が単純で管理・保守が簡便であるにもかかわらず、吐出量のコントロールが容易であるという利点があるためである。
ニードル51は、通常、中央に貫通孔を有する針状のものが単独で用いられ、ニードル51の先端から連続的に滴下された膜接着剤溶液55がその粘性に基づいて適宜拡がりを形成し、ニードル51の進行方向後方に末広がり状に幅を拡大させながら塗布が進行する。
膜接着剤の広がりが膜接着面幅に対して不足する場合には、ニードルの進行方向に対して横方向にニードルを複数設けることが考えられる(図6(a))。しかし、この場合、塗布する辺が移ってニードルの進行方向が90°変わった際にはニードルが進行方向に複数並ぶこととなり意味がない。
この対処として、ニードルの進行方向に斜めにニードルを複数設けることが考えられる(図6(b))。この場合、直交した2つの辺でも幅方向にニードルを配置することができる。しかし、図6(b)で明らかなように、一般的な4角形のペリクルの場合、対角の2つのコーナー部A,Cにおいては適切に塗布することができるが、それらと隣接する2つのコーナー部B,Dにおいては、大きな未塗布部分64が生じてしまう。なお、63はペリクルフレームである。
これを防ぐには、通常、XY2軸もしくはXYZ3軸の直交ロボットから構成されている塗布装置にニードル部分を回転させる機構を加えれば良いが、装置的にコスト高になることに加え、液供給も含めて、制御としてはかなり複雑になり、現実には極めて難しい。コーナー部に差し掛かったところでは、直線塗布の方向を90°変えながら一瞬のうちにニードル回転を終わらせる必要があるが、その際、ニードルが急回転しても未塗布やはみ出しが出ないよう塗布液の吐出量を制御することが極めて難しいためである。
加えて、これら複数のニードルから吐出される接着剤は、液の表面張力によりそれぞれのニードルの内側に凝集してしまい、実際には期待するほどにはフレーム幅の外側まで広がることができない。
ペリクルフレームの膜接着面幅が異なっている場合、これらニードルの間隔は幅の狭い方に合わせて設定しないと膜接着剤はこぼれてしまうが、この理由から幅の狭い辺、広い辺の両方に未塗布なく塗布することは非常に難しい。
ちなみに、図6(c)に示すように、回転機構が必要ないようコーナー部および直交する両辺に対応するようニードル61を4本配置した場合には、ニードルの通過位置が複数重なるため、塗布液62の分布に著しい偏りが生じるほか、コーナー部ではやはり未塗布やはみ出しなどの不具合が生じやすい。
以上のことから、これまで、ペリクルフレーム、特には液晶用途で用いられる幅広のペリクルフレームに対して、適量の接着剤を未塗布やはみ出しなく安定して塗布する方法は得られていなかった。
本発明は、上記の事情に鑑みなされたもので、幅広のペリクルフレームに適量の接着剤を均一かつ未塗布やはみ出しもなく塗布し、外観に優れた接着剤層を形成する方法を提供することを目的とする。
本発明によるペリクルフレームへの膜接着剤の塗布方法は、吐出口から膜接着剤を連続的に滴下しながら吐出口を移動させることで塗布を行い、その際、吐出口が設けられている塗布ヘッドの外径幅がペリクルフレーム膜接着面幅の60〜120%の範囲であることを特徴とする(請求項1)。
また、ペリクルフレームの膜接着面幅が長辺と短辺とで異なっている場合においては、前記塗布ヘッドの一方向の幅は長辺幅の60〜120%の範囲、それと直交する方向の幅は短辺幅の60〜120%の範囲に形成し、長辺塗布時には長辺幅に対応した外径、短辺塗布時には短辺幅に対応した外径が塗布ヘッドの移動方向と直交した方向となるように塗布ヘッドを移動させることが良い(請求項2)。
そして、前記塗布ヘッドは、先端中央に吐出口が設けられており、なおかつ中央部を頂部とする凸形状であることが良い(請求項3)。
このとき、前記凸形状は、一つまたは複数の曲面により形成されていることが特に好ましい(請求項4)。
そして、塗布中における前記塗布ヘッドの頂部とペリクルフレーム表面との間隙は1.5mm以下が良く、さらには、毛管現象により塗布ヘッド表面の80%以上の領域が粘着剤溶液と接触した状態が維持されるように制御されることが良い(請求項5)。この状態を維持して塗布することで極めて安定して未塗布を起こさずに膜接着剤を塗布することができる。
本発明によれば、幅広い膜接着面を持つペリクルフレーム、長辺と短辺の膜接着面幅が異なるペリクルフレーム、さらには4角形状以外のペリクルフレームに対しても、適量の接着剤を均一に、かつ未塗布やはみ出しなく安定的に塗布し、その結果、外観に優れた膜接着剤層を形成することができる。
以下、図面により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
図1は、本発明による吐出口が設けられている塗布ヘッドの先端構造の一実施の形態を示す平面図および断面概略図である。また、図2は、長辺と短辺とで膜接着面幅が異なるペリクルフレームに対する本発明の一実施の形態を示す平面図および断面概略図である。
塗布ヘッド11は、膜接着剤溶液が満たされたシリンジ16の先端に液漏れが無いよう取り付けられており、ロボットによる移動手段(図示しない)により水平面内及び垂直の直交3軸方向に自由に移動できるようにされている。塗布ヘッド11に設けられている吐出口12から膜接着剤溶液15を滴下しながらペリクルフレーム14上を移動させ、ペリクルフレーム14の膜接着面を1周することで膜接着剤の塗布を行う。
ここで、膜接着剤の移送手段(図示しない)は、エア加圧、窒素加圧などの気体加圧の他、シリンジポンプ、プランジャポンプ、チューブポンプなど、供給量および吐出・停止が制御できる各種の移送手段が利用できる。
この時、塗布ヘッド11の外径幅aは、ペリクルフレーム14の膜接着面幅bの60〜120%の範囲であることが良い。また、膜接着面幅が長辺と短辺とで異なる場合には、図2の平面図に示すように、塗布ヘッドの一方向の幅eは、長辺幅の60〜120%の範囲、それと直交する方向の幅fは短辺幅の60〜120%の範囲に形成し、長辺塗布時には長辺幅に対応した外径e、短辺塗布時には短辺幅に対応した外径fが塗布ヘッドの移動方向と直交した方向となるように塗布ヘッドを設置し、移動させることとすれば良い。
図1において、塗布ヘッド11の先端13とペリクルフレーム14との間隙は、吐出口12より吐出された膜接着剤溶液が毛管現象により侵入し、満たされている。その結果、幅広のペリクルフレームであっても外側まで膜接着剤が連続的に供給され、未塗布を発生させずに塗布を行うことができる。
このとき、塗布ヘッド11下面の膜接着剤溶液は、常に表面張力により凝集しようとしているため、膜接着面幅bよりも塗布ヘッド11の幅aが広かったり、膜接着面の外側に外径部がはみ出して移動しても、その量が限度を超えなければ膜接着剤が外側に垂れ落ちることがない。逆に、膜接着面幅bよりも塗布ヘッド11の外径幅aが小さくても、使用する膜接着剤の粘度によっては未塗布なく塗布が可能な場合がある。
そのため、膜接着剤の粘度(濃度)および塗布ヘッド11の仕様は、ペリクルフレーム膜接着面幅、乾燥後の膜厚、外観等を考慮して適宜決定することが望ましい。
同様に、塗布ヘッド11の外径幅も膜接着面幅、膜接着剤粘度および塗布ヘッドと膜接着面との距離を考慮して、膜接着面幅の60〜120%の範囲、特に望ましくは、80〜100%の範囲で適宜決定されることが良い。また、図2に示すような縦横外径違いの塗布ヘッド21は、大径側に合わせて円形で製作した後、その一方向を平面切削して所望の外形を得ているが、製作が最も簡便で、実用上も何ら支障がない。
塗布ヘッド11は、先端中央に吐出口12が設けられており、なおかつ中央部を頂部とする凸形状であることが良い。さらには、この凸形状は、一つまたは複数の曲面により形成されていることが特に好ましい。
中央部に吐出口があることで、直交2辺のどちらにおいても塗布が安定するほか、頂部にあることにより塗布直前の先端の液滴が安定し、さらには吐出口が乾燥しにくくなるという利点もある。
また、塗布ヘッド11の先端13の形状は、ほとんど平面のようなものでも塗布は可能であるが、塗布のスタート/エンド点の繋ぎ目を目立たなくすること、コーナー部での塗布を安定させるには、僅かでも凸形状とした方が良い。
また、この凸形状は、曲面形状、特には回転体の曲面とすれば、膜接着剤塗布中に塗布ヘッドと膜接着面間の膜接着剤が安定し、最も好ましい。曲面の曲率は一定で製作するのが容易であるが、必要があれば数種類の曲面の組み合わせを用いても良い。
また、頂点と幅方向最外側の端部との高さ差cは、膜接着剤の粘度、塗布ヘッド11の外径幅a、膜接着面幅b間の関係を考慮して適宜決定することが良いが、概ね0.3〜1mmの範囲とすることが良い。さらに、塗布ヘッド11の先端13に膜接着剤との濡れ性(接触角)を調整するため、表面加工・処理を行うことも良い。
塗布中における塗布ヘッド11の先端(頂部)13とペリクルフレーム14表面との間隙dは、1.5mm以下が良く、さらには、前記したように毛管現象により塗布ヘッド表面13の80%以上の領域が膜接着剤溶液15と接触した状態が維持されるよう塗布することが良い。そのため、ペリクルフレームは通常、辺の中央部が自重により下方向に垂れ下がっているため、これを水平にするように下方向からサポートする必要がある。このことは、塗布後に膜接着剤が流動して偏ることを防ぎ、フラットで外観に優れた状態で膜接着剤を乾燥できるという2次的な効果もある。
さらに、塗布中の膜接着剤の吐出量および塗布ヘッドの移動速度を安定維持させることが重要であることは言うまでもない。塗布中、常にこの状態を維持することが良好な塗布を行うための重要なポイントである。
また、塗布ヘッドは、図3(a)中31に示すように、一体で製作しても良いし、図3(b)中33に示すように、通常のニードル34の先端にボルト35等で取り付けるようにしても良い。なお、32は、シリンジを示す。
塗布ヘッドの材質は、炭素鋼、ステンレス鋼、真鍮などの金属、PTFEなど接着剤の溶剤に対して耐性のあるものとすることが良いが、これらの材質に精度良くなおかつ平滑に細径の孔を加工するのはかなり手間がかかる。そのため、図3(a)に示すように一体で製作するよりも、図3(b)のように吐出口部分は市販のニードルを使用し、これに組み付けて使用するよう別体で製作する方が工業的には好ましい。
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
[実施例1]
はじめに、外寸1146×1366mm、内寸1122×1342mm、高さ6mm、コーナー部の内寸R2、外寸R6mm、膜接着面の幅12mmの長方形のアルミニウム合金製ペリクルフレームを機械加工により製作し、Ra0.8〜0.9程度にSUSビーズによりブラスト処理を行った後、表面に黒色アルマイト処理を施した。このペリクルフレームをクラス1のクリーンルームに搬入し、中性洗剤と純水により良く洗浄・乾燥させた後、端面に膜接着を塗布するテストを行った。
本発明で使用する膜接着剤塗布装置の概略図を図4に示す。架台41上に門型XYZ直交3軸ロボット42が取り付けられており、そのZ軸先端にはPP製シリンジ43が取り付けられている。
PP製シリンジ43は、エア加圧式ディスペンサ(岩下エンジニアリング製、図示しない)に接続され、3軸ロボット42の制御部によりロボット動作と塗布液吐出の両方が制御される。そして、この装置上に上記した仕様のペリクルフレーム44を接着剤塗布端面が上向き水平になるように固定した。なお、ペリクルフレーム44の自重による撓みを防ぎ、膜接着面を水平に保つため、ペリクルフレーム下には各辺ともおよそ200mm間隔でPOM樹脂製のサポートを設けた。
そして、膜接着剤溶液として、トルエンで15%に希釈したシリコーン粘着剤(信越化学工業(株)製、商品名:X−40−3004A)をシリンジ43に充填した。
このシリンジ43の先端部には、図1に示す形状の塗布ヘッド11が取り付けられている。塗布ヘッド11は真鍮を機械加工して製作し、表面には防錆のためニッケルメッキを施した。ただし、吐出口12の部分は、大径の孔にSUS304のパイプを圧入して加工した。
塗布ヘッド11の外径aはペリクルフレーム14の接着面幅bと同じく12mmとし、先端13の形状は曲率R30の球面、吐出口12の径は0.3mmとした。また、塗布中の塗布ヘッド11の先端13とペリクルフレーム14表面の間隙はおよそ0.8mmとなるように設定した。
そして、自動運転により膜接着剤塗布を行い、膜接着剤が流動しなくなるまで風乾させた。この後、さらに、高周波誘導加熱装置(図示しない)によりペリクルフレームを120℃まで加熱し、溶媒を完全に乾燥させると共に、粘着剤を完全にキュアさせた。
このようにして試作したテストサンプルを暗室に搬送し、光量30万ルクスのハロゲンランプにより膜接着剤塗布面の外観を観察した。その結果、膜接着端面は完全に膜接着剤が塗布されており、コーナー部においても未塗布部は発見されなかった。また、ペリクルフレーム内面、外面および面取り部分への膜接着剤のはみ出しも見受けられなかった。さらに、表面は光沢のある平滑な面になっており、うねりや偏りもなく、外観的に優れたものであった。
[実施例2]
はじめに、外寸436×745.5mm、内寸418×734.5mm、高さ6mm、コーナー部の内寸R2mm、外寸R9mm、膜接着面の長辺幅9mm、短辺幅5.5mmの長方形のアルミニウム合金製ペリクルフレームを機械加工により製作し、Ra0.8〜0.9程度にSUSビーズによりブラスト処理を行った後、表面に黒色アルマイト処理を施した。このペリクルフレームをクラス1のクリーンルームに搬入し、中性洗剤と純水により良く洗浄・乾燥させた後、端面に膜接着を塗布するテストを行った。
塗布装置として、上記実施例1と全く同一のものを使用したが、塗布ヘッドだけは図2に示す形状のものとした。
塗布ヘッド21の長軸外径eは9mm、短軸外径fは5.5mm、先端23の形状は曲率R25mmの球面、吐出口22の直径は0.3mmである。また、塗布中の塗布ヘッド21の頂点とペリクルフレーム24表面の間隙はおよそ0.8mmとなるように設定した。
そして、上記実施例1と全く同様にして膜接着剤塗布および評価を行った。その結果、短辺、長辺とも膜接着端面は完全に膜接着剤が塗布されており、コーナー部においても未塗布部は発見されなかった。また、ペリクルフレーム内面、外面および面取り部分への膜接着剤のはみ出しも見受けられなかった。さらに、表面は光沢のある平滑な面になっており、うねりや偏りもなく外観的に優れたものであった。
[比較例]
上記実施例1と同じペリクルフレーム、塗布装置を用い、シリンジ下部の吐出口部分だけは図6(b)に示すようなニードル61を2本配置した形状のものとして、膜接着剤塗布評価を行った。
ここで、各ニードルは、材質SUS304、内径0.25×外径0.46mm、ニードル間距離8mm、移動方向に対するずらし角度は45°とした。
そして、上記実施例1,2と全く同様にして膜接着剤塗布および評価を行った。その結果、コーナー部B,Dの外側において最大幅2mm程度の三日月形の未塗布部分64、また、長辺の内側エッジ数箇所で幅0.5〜1mmで長くスジ状に伸びる未塗部が発見され、合格とは言い難い塗布品質であった。
本発明の膜接着剤の塗布方法によれば、ペリクルフレームのペリクル膜貼付面に接着剤を塗り残しなく均一・均質に、簡便・確実に塗布することができるので、リソグラフィー技術を利用する産業分野に裨益する処大である。
本発明による吐出口が設けられている塗布ヘッドの先端構造の一実施の形態を示す概略図で、(a)は平面説明図、(b)は断面説明図である。 長辺と短辺とで膜接着面幅が異なるペリクルフレームに対する本発明の一実施の形態を示す概略図であり、A−A線、B−B線断面説明図を付す。 本発明による塗布ヘッドの取り付け構造の実施形態を示す説明図で、(a)はニードルと塗布ヘッドとを一体とした形態、(b)は別対としてニードルの先端に塗布ヘッドをボルトを介して取り付けた形態、を示す。 本発明で利用した膜接着剤塗布装置の概略説明図である。 従来の1本のニードルによるペリクルフレームへの膜接着剤塗布方法の説明図である。 従来の複数のニードルによるペリクルフレームへの膜接着剤塗布方法の説明図で、(a)は横方向に2本のニードル、(b)は斜めに2本のニードル、(c)は菱形に4本のニードルをそれぞれ用いた例を示す説明図である。
符号の説明
11 塗布ヘッド
12 吐出口
13 塗布ヘッドの先端(頂点)
14 ペリクルフレーム
15 膜接着剤溶液
16 シリンジ
a 塗布ヘッド外径幅
b 膜接着面幅
c 塗布ヘッドの先端と幅方向最外側の端部との高さ差
d 塗布ヘッドの先端とペリクルフレーム表面との距離
大矢印 塗布方向

21 塗布ヘッド
22 吐出口
23 塗布ヘッド先端
24 ペリクルフレーム
e 塗布ヘッド外径幅(長軸)
f 塗布ヘッド外径幅(短軸)
大矢印 塗布方向

31 塗布ヘッド(一体加工型)
32 シリンジ
33 塗布ヘッド(ニードル取り付け型)
34 ニードル
35 取り付けボルト

41 架台
42 XYZ直交3軸ロボット
43 シリンジ
44 ペリクルフレーム

51 ニードル
52 吐出口
53 シリンジ
54 ペリクルフレーム
55 膜接着剤

61 ニードル
62 膜接着剤(塗布液)
63 ペリクルフレーム
64 未塗布部分
A,B,C,D コーナー部
大矢印 塗布方向

Claims (5)

  1. ペリクルフレーム端面に膜接着剤を塗布する方法において、吐出口から膜接着剤を連続的に滴下しながら吐出口を移動させることで塗布を行い、その際、吐出口が設けられている塗布ヘッドの外径幅がペリクルフレーム幅の60〜120%の範囲であることを特徴とする膜接着剤の塗布方法。
  2. ペリクルフレームの膜接着面幅が長辺と短辺とで異なっている場合において、前記塗布ヘッドの一方向の幅は長辺幅の60〜120%の範囲、それと直交する方向の幅は短辺幅の60〜120%の範囲に形成し、長辺塗布時には長辺幅に対応した外径、短辺塗布時には短辺幅に対応した外径が塗布ヘッドの移動方向と直交した方向となるように塗布ヘッドを設置し移動させる請求項1に記載の膜接着剤の塗布方法。
  3. 前記塗布ヘッドは、先端中央に吐出口が設けられており、なおかつ中央部を頂部とする凸形状である請求項1または2に記載の膜接着剤の塗布方法。
  4. 前記凸形状は、一つまたは複数の曲面により形成されている請求項3に記載の膜接着剤の塗布方法。
  5. 塗布中における前記塗布ヘッドの頂部とペリクルフレーム表面との間隙が1.5mm以下であり、毛管現象により塗布ヘッド表面の80%以上の領域が粘着剤溶液と接触した状態が維持されるように制御される請求項1〜4の何れかに記載の膜接着剤の塗布方法。
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CN2008100020902A CN101224457B (zh) 2007-01-19 2008-01-16 对防护薄膜框架涂布膜接合剂的方法
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011164402A (ja) * 2010-02-10 2011-08-25 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルの製造方法
JP2012037609A (ja) * 2010-08-04 2012-02-23 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルの製造方法および装置
JP2012108293A (ja) * 2010-11-17 2012-06-07 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルの製造方法
KR20190016005A (ko) 2017-08-07 2019-02-15 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클 프레임 및 펠리클

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5746662B2 (ja) * 2012-05-11 2015-07-08 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム
FR3115716B1 (fr) 2020-11-05 2023-12-22 Exel Ind Procede et installation d’application d’un produit de revetement sur une surface

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0273256A (ja) * 1988-09-08 1990-03-13 Asahi Kasei Denshi Kk ペリクル枠構造体
JPH03102274A (ja) * 1989-05-17 1991-04-26 Mitsubishi Electric Corp シリアルアクセスメモリのテスト回路
JPH11262717A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Asahi Glass Co Ltd 鉛直状態で保持した板状体表面への接着剤塗布方法およびその装置
JP2001356473A (ja) * 2000-06-16 2001-12-26 Mitsui Chemicals Inc ペリクル
JP2002258465A (ja) * 2000-12-27 2002-09-11 Mitsui Chemicals Inc ペリクル、ペリクルの製造方法および接着剤
JP2004341225A (ja) * 2003-05-15 2004-12-02 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクルの組立装置
JP2005021838A (ja) * 2003-07-04 2005-01-27 Konica Minolta Opto Inc 吐出器のニードル及び吐出口部材
WO2006028227A1 (ja) * 2004-09-10 2006-03-16 Mitsui Chemicals, Inc. 接着剤
JP2006178434A (ja) * 2004-11-25 2006-07-06 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル
JP2006184704A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 液晶用大型ペリクル
JP2006323178A (ja) * 2005-05-19 2006-11-30 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002136910A (ja) * 2000-11-07 2002-05-14 Nitto Denko Corp ダイコータおよびそれを用いた塗工方法
JP2004157229A (ja) * 2002-11-05 2004-06-03 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0273256A (ja) * 1988-09-08 1990-03-13 Asahi Kasei Denshi Kk ペリクル枠構造体
JPH03102274A (ja) * 1989-05-17 1991-04-26 Mitsubishi Electric Corp シリアルアクセスメモリのテスト回路
JPH11262717A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Asahi Glass Co Ltd 鉛直状態で保持した板状体表面への接着剤塗布方法およびその装置
JP2001356473A (ja) * 2000-06-16 2001-12-26 Mitsui Chemicals Inc ペリクル
JP2002258465A (ja) * 2000-12-27 2002-09-11 Mitsui Chemicals Inc ペリクル、ペリクルの製造方法および接着剤
JP2004341225A (ja) * 2003-05-15 2004-12-02 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクルの組立装置
JP2005021838A (ja) * 2003-07-04 2005-01-27 Konica Minolta Opto Inc 吐出器のニードル及び吐出口部材
WO2006028227A1 (ja) * 2004-09-10 2006-03-16 Mitsui Chemicals, Inc. 接着剤
JP2006178434A (ja) * 2004-11-25 2006-07-06 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル
JP2006184704A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 液晶用大型ペリクル
JP2006323178A (ja) * 2005-05-19 2006-11-30 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011164402A (ja) * 2010-02-10 2011-08-25 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルの製造方法
JP2012037609A (ja) * 2010-08-04 2012-02-23 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルの製造方法および装置
JP2012108293A (ja) * 2010-11-17 2012-06-07 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルの製造方法
KR20190016005A (ko) 2017-08-07 2019-02-15 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클 프레임 및 펠리클

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