JP2001356473A - ペリクル - Google Patents

ペリクル

Info

Publication number
JP2001356473A
JP2001356473A JP2000181845A JP2000181845A JP2001356473A JP 2001356473 A JP2001356473 A JP 2001356473A JP 2000181845 A JP2000181845 A JP 2000181845A JP 2000181845 A JP2000181845 A JP 2000181845A JP 2001356473 A JP2001356473 A JP 2001356473A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
fluorine
adhesive
film
ultraviolet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000181845A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideto Matsuoka
英登 松岡
Takamasa Tsumoto
高政 津本
Hiroyuki Kurata
洋行 倉田
Masahiro Kondo
正浩 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Priority to JP2000181845A priority Critical patent/JP2001356473A/ja
Publication of JP2001356473A publication Critical patent/JP2001356473A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フッ素系材料から成るペリクル膜をフッ素系
接着剤でペリクル枠に接着するに際し、フッ素モノマー
のまま塗工できる紫外線硬化型フッ素系接着剤を用いた
ペリクルを提供することにある。 【解決手段】 フッ素系材料から成るペリクル膜とペリ
クル膜を支持するペリクル枠から成るペリクルにおい
て、該ペリクル膜が紫外線硬化型フッ素系接着剤を介し
てペリクル枠に接着されていることを特徴とするペリク
ル。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、集積回路の製造工
程におけるフォトリソグラフィ工程で使用されるマスク
或いはレチクル(以下、単にマスク等という)に塵埃等
が付着するのを防止する目的で用いられるペリクルに関
し、より詳細には、フッ素系材料から成るペリクル膜が
紫外線硬化型フッ素系接着剤を介してペリクル枠に接着
されているペリクルに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ペリクル膜としては主として光を
よく透過するニトロセルロースや、酢酸セルロース等か
ら成るものが採用されており、このペリクル膜をアルミ
ニウム、ステンレス等から成るペリクル枠に固定するた
めに、エポキシ系の接着剤等が用いられていた。しかし
ながら、集積回路の線幅の微細化等が求められているこ
とから、極めて短波長の露光光源を用いることが望まれ
ており、このような短波長の紫外線を用いた場合には、
セルロース等の従来のペリクル膜では劣化が激しく、充
分な耐久性を得ることができなかった。そのため近年、
フッ素系材料から成るペリクル膜が使用されているが、
フッ素系ポリマーは離型性に優れているため、従来ペリ
クル膜をペリクル枠に接着するのに用いられていたエポ
キシ系等の接着剤では、実用的な接着力を得ることがで
きなかった。また、エポキシ系接着剤では、短波長の紫
外線に対して充分な耐光性を有していなかった。
【0003】このようなフッ素系材料から成るペリクル
膜の接着剤についての問題を解決するために、フッ素系
有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機物から成る接
着剤でペリクル枠に接着してなるペリクルも提案されて
いる(特開平6−67409号公報)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記ペリクルはペリク
ル膜及び接着剤が同種のフッ素系有機物から成るもので
あるため、満足し得る接着強度を得ることができるもの
であるが、この従来技術に開示されている接着剤では、
接着剤の溶媒がペリクル膜を溶かしてしまうため、接着
の際に色ムラ、ひきつり等を生じたり、また溶媒を除去
するためには加熱する必要がある。更に、予めフッ素系
重合体を溶剤に溶解して、接着剤溶液を調製することが
必要でありフッ素系モノマーをその状態にかかわらず、
そのままペリクル枠に施すことができれば、モノマーの
まま塗工できると共に、溶媒及び接着剤の調製工程が省
略できるので望ましい。従って、本発明の目的は、フッ
素系材料から成るペリクル膜をフッ素系接着剤でペリク
ル枠に接着するに際し、フッ素モノマーのまま塗工でき
る紫外線硬化型フッ素系接着剤を用いたペリクルを提供
することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、フッ素
系材料から成るペリクル膜とペリクル膜を支持するペリ
クル枠から成るペリクルにおいて、該ペリクル膜が紫外
線硬化型フッ素系接着剤を介してペリクル枠に接着され
ていることを特徴とするペリクルが提供される。本発明
においては、紫外線硬化型フッ素系接着剤が
【化2】 式中、Rは水素又はメチル基、Rは水素又は水酸
基、Rfはフッ素含有基であり、nは1〜6の整数で表
されるフッ素系モノマーから成ることが好ましい。
【0006】
【発明の実施形態】本発明のペリクルにおいては、フッ
素系材料から成るペリクル膜を紫外線硬化型フッ素系接
着剤を用いてペリクル枠に接着することが重要な特徴で
ある。すなわち、フッ素系材料から成るペリクル膜をペ
リクル枠に接着する接着剤として、同種の紫外線硬化型
のフッ素系モノマーを用いることにより、両者の間の接
着性を向上させることが可能になると共に、紫外線を照
射することによりフッ素系接着剤を重合硬化させて、ペ
リクル膜をペリクル枠に接着することが可能となるた
め、工程を簡略化することやペリクル膜にダメージを与
えることも有効に防止できるのである。本発明において
は、フッ素系モノマーは液体のままの状態でペリクル枠
に施すことができるので、溶媒に溶解すること等予め接
着剤組成物を調製する必要がなく、簡略化された工程で
接着作業を行うことができると共に、硬化工程で溶媒が
揮散することによるペリクル膜の劣化等も防止できると
いう、従来技術からは予想外の作用効果を得ることが可
能となったのである。
【0007】(紫外線硬化型フッ素系モノマー)本発明
において、ペリクル膜をペリクル枠に接着するのに用い
る紫外線硬化型フッ素系接着剤としては、フッ素系モノ
マーの(メタ)アクリル酸エステルや水酸基を含有する
フッ素系モノマーであることが望ましく、勿論これに限
定されないが、下記一般式(1)で表されるフッ素系モ
ノマーを好適に使用することができる。
【0008】
【化3】 式中、Rは水素又はメチル基、Rは水素又は水酸
基、Rfはフッ素含有基であり、nは1〜6の整数
【0009】上記紫外線硬化型フッ素系モノマーにおい
て、フッ素含有基Rfとしては、勿論これに限定されな
いが、−(CF)CF, −(CFCF
−(CFCF,−(CFCF(CF
,−(CF,−(CFCFH,−(C
CF,−(CFCF(CF等を
挙げることができ、具体的には、下記のフッ素系モノマ
ーを例示できる。
【0010】
【化4】
【0011】
【化5】
【0012】
【化6】
【0013】
【化7】
【0014】
【化8】
【0015】
【化9】
【0016】
【化10】CH=CH−CO−CH−CH
(CFCF
【0017】
【化11】
【0018】
【化12】CH=CH−CO−CH(CF
CHOH
【0019】
【化13】
【0020】
【化14】CH=CH−CO−(CH−(C
CF
【0021】
【化15】
【0022】
【化16】CH=CH−CO−CH−(CF
CF
【0023】
【化17】CH=CH−CO−(CH(CF
CF
【0024】
【化18】
【0025】また、紫外線硬化型接着剤としては、上記
フッ素系モノマー以外にも、下記のフッ素系モノマーを
好適に使用することができる。
【0026】
【化19】CH=CH(CFCH=CH
【0027】
【化20】CH=CH(CFCH=CH
【0028】
【化21】CH=CH(CFCH=CH
【0029】
【化22】CH=CH(CFCF
【0030】
【化23】CH=CH(CFCF
【0031】本発明に用いる紫外線硬化型接着剤には、
前述したフッ素系モノマーの他、光開始剤や増感剤を併
用することもでき、これにより紫外線による重合硬化を
迅速に行うことができると共に、重合度を高めることに
よって接着強度を向上させることも可能となる。光開始
剤としては、勿論これに限定されないが、1−フェニル
−2−ヒドロキシ−メチルプロパン−1−オン、ジエト
キシアセトフェノン、ベンゾインブチルエーテル等を挙
げることができる。これら光開始剤の中では、1−フェ
ニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン
が、露光感度が高く、耐光性、接着性に優れていること
から好適に用いることができ、0.1〜10重量%の量
で配合することができる。また同様に増感剤としては、
ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾフェノン等を挙げることが
できる。これら増感剤の中では、ベンゾインが、露光感
度が高く、耐光性、接着性に優れていることから好適に
用いることができ、0.01〜5重量%の量で配合する
ことができる。
【0032】前述した紫外線硬化型フッ素系モノマー
は、所望により上記光開始剤等を配合して、直接ペリク
ル枠に施すことができ、ペリクル膜を載置した後、波長
220〜600nmの紫外線を照射することによってペ
リクル膜をペリクル枠に固定することが可能となる。
【0033】(ペリクル膜)本発明のペリクルに用いる
ペリクル膜は、フッ素系材料から成るものであり、この
フッ素系材料としては、勿論これに限定されないが、テ
トラフロオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を
有するフッ素系モノマーとを共重合して得られる非晶質
フッ素系重合体を好適に用いることができる。このフッ
素系重合体からのペリクル膜の製造は、上記フッ素系重
合体をフッ素系溶媒、特にパーフルオロ系の有機溶媒、
例えば、パーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラ
ン)、パーフルオロ(2−プロピルテトラヒドロピラ
ン)、パーフルオロヒドロフラン、パーフルオロオクタ
ン等を用いて0.1乃至20重量%、特に0.3乃至1
0重量%の濃度に溶解した後、それ自体公知の流延製膜
法、例えばスピンコート法、ナイフコート法等により行
うことができ、一般にガラス板等の平滑な基体表面に樹
脂溶液を流延させて薄膜を形成させ、熱風や赤外線照射
等の手段によって乾燥させて残存溶媒を除去するのがよ
い。形成される薄膜の厚みは溶液粘度や基板の回転速度
などを変化させることにより容易に変化させることがで
き、一般に0.05乃至10μmの範囲で用いる光源の
波長に対する透過率が高くなるように設定するのがよ
い。
【0034】本発明のペリクルにおいては、ペリクル膜
自体がフッ素系材料から成るものの他、ニトロセルロー
ス等の従来公知のペリクル膜材料から成る薄膜にフッ素
系材料から成る反射防止層を積層したペリクル膜にも好
適に使用することができる。すなわち、接着剤層に接触
する部分がフッ素系材料から成るペリクル膜であれば、
本発明に用いる紫外線硬化型フッ素系接着剤と優れた接
着性を有し、フッ素系材料から成るペリクル膜と同様の
効果を得ることができる。
【0035】(ペリクル枠)ペリクル枠としては、従来
公知のものをすべて使用することができ、勿論これに限
定されないが、アルミニウム、アルミニウム合金、ステ
ンレススチール等の金属製のものや、合成樹脂製、或い
はセラミック製のものを例示することができる。また、
本発明のペリクルはペリクル枠の一方の側に前述した接
着剤を介してペリクル膜が張設され、他方の側に粘着剤
を塗布するか、或いは両面テープを貼着する等してマス
ク等の上に取り付け可能となる。
【0036】
【実施例】(実施例1) (ペリクル膜の作製)環状パープルオロエーテル基を有
するサイトップ(旭硝子(株)製商品名)をフッ素系溶
剤のIL−263(トクヤマ(株)製商品名)に溶解し
て6重量%の溶液を調製し、スピンコート法で膜厚0.
8μmの薄膜を作成した。
【0037】(接着剤の調製)3−(パーフルオロ−3
−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト(ダイキンファインケミカル研究所製)を同量の1%
炭酸ソーダ水で2回洗浄し、蒸留によってbp68〜7
1℃/0.5mmHgの留分を得た。蒸留で得たこのア
クリレート20gに光開始剤としてダロキュア1173
(千葉ファインケミカル(株)製)0.60gを加え1
時間撹拌溶解して接着剤を調製した。
【0038】(ペリクルの作成)アルミニウム合金製の
ペリクル枠(縦149mm×横122mm、高さ5.8
mm、幅2mm)に、内径0.40mmφの塗布針から
40秒/5滴の吐出量のもと、10mm/秒の塗布速度
でペリクル枠の接着面上に接着剤を塗布した。塗布終了
1分後に、作成した薄膜のペリクル膜を貼り付けた後,
220〜600nmの波長を持つUV照射装置で90秒
間照射し、接着剤を硬化した。続いて、ペリクル枠外側
の余分の膜をカッターで切断しペリクルを作成した。
【0039】(ペリクル膜の接着強度の評価)内径0.
65mmφの針を用い、薄膜表面の上10mmの距離か
ら65゜の角度、圧力0.2メガパスカル(MPa)の
空気を約10mm/5秒の速度で薄膜が接着しているペ
リクル枠の内側に沿って吹きつけ、外ブローの接着性を
評価した結果、剥離は認められなかった。同様に薄膜裏
面の下10mmの距離から45゜の角度で吹きつけて、
内ブローの接着性を評価した結果、剥離は認められなか
った。以下、実施例2〜4及び比較例1〜2は、ペリク
ル膜の作成、ペリクルの作成及びペリクル膜の接着強度
の評価については、実施例1と同様な方法で行ったの
で、詳細な説明は省略する。また、実施例2〜4に記載
のアクリレートまたはメタクリレートの重合禁止剤の除
去と蒸留についても同様な方法で行ったので省略する。
【0040】(実施例2)実施例1の3−(パーフルオ
ロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピルアク
リレートの代わりに3−パーフルオロブチル−2−ヒド
ロキシプロピルアクリレートを用いた以外は実施例1と
同様に行った。その結果、外ブローと内ブロー共に剥離
は認められなかった。
【0041】(実施例3)3−パーフルオロブチル−2
−ヒドロキシプロピルアクリレート18gと3−(パー
フルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート2gを混合した後、開始剤のダロキュ
ア1173を0.6g加えて接着剤を調製した。実施例
1と同様にペリクルを作成し、接着性を評価した結果、
外ブローと内ブロー共に剥離は認められなかった。
【0042】(実施例4)実施例3の開始剤ダロキュア
を1.2g加えた以外は実施例3と同様に行った。その
結果、外ブローと内ブロー共に剥離は認められなかっ
た。
【0043】(比較例1)実施例1において、溶媒とし
て酢酸ブチルを用い、3−(パーフルオロ−3−メチル
ブチル)−2−ヒドロキシプロピルアクリレート10
g、ダロキュア1173を0.3g、酢酸ブチル10g
の組成の接着剤を調製し、実施例1と同様にペリクルを
作成し、接着性を評価した。その結果、外ブローと内ブ
ロー共にペリクル膜と接着剤との界面で剥離が起こっ
た。
【0044】(比較例2)実施例1において、3−(パ
ーフルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレートとダロキュア1173の代わりにエポ
キシ系接着剤アラルダイトラピッド(昭和高分子(株)
製)を使用した以外は、実施例1と同様にペリクルを作
成し、接着性を評価した。その結果、外ブローと内ブロ
ー共にペリクル膜と接着剤との界面で剥離が起こった。
【0045】
【表1】
【0046】
【発明の効果】本発明のペリクルにおいては、フッ素系
材料から成るペリクル膜をペリクル枠に接着する接着剤
として、紫外線硬化型のフッ素系モノマーを用いること
により、ペリクル膜のペリクル枠への接着強度を向上さ
せることが可能になると共に、この紫外線硬化型フッ素
系モノマーをそのままの状態でペリクル枠に施すことが
できるので、溶媒に溶解すること等予め接着剤組成物を
調製する必要がなく、簡略化された工程で接着作業を行
うことが可能となった。しかも、溶媒を使用していない
ので、重合硬化工程で溶媒が揮散することがなく、揮散
溶媒によるペリクル膜の劣化等を有効に防止することも
できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 倉田 洋行 山口県玖珂郡和木町和木六丁目1番2号 三井化学株式会社内 (72)発明者 近藤 正浩 山口県玖珂郡和木町和木六丁目1番2号 三井化学株式会社内 Fターム(参考) 2H095 BC39 4J040 DF061 GA03 GA05 JB07 LA06 MA02 MA03 MA04 MA10 NA20 PA32

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フッ素系材料から成るペリクル膜とペリ
    クル膜を支持するペリクル枠から成るペリクルにおい
    て、該ペリクル膜が紫外線硬化型フッ素系接着剤を介し
    てペリクル枠に接着されていることを特徴とするペリク
    ル。
  2. 【請求項2】 前記紫外線硬化型フッ素系接着剤が、下
    記一般式(1) 【化1】 式中、Rは水素又はメチル基、Rは水素又は水酸
    基、Rfはフッ素含有基であり、nは1〜6の整数で表
    されるフッ素系モノマーである請求項1記載のペリク
    ル。
JP2000181845A 2000-06-16 2000-06-16 ペリクル Pending JP2001356473A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000181845A JP2001356473A (ja) 2000-06-16 2000-06-16 ペリクル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000181845A JP2001356473A (ja) 2000-06-16 2000-06-16 ペリクル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001356473A true JP2001356473A (ja) 2001-12-26

Family

ID=18682710

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000181845A Pending JP2001356473A (ja) 2000-06-16 2000-06-16 ペリクル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001356473A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7282525B2 (en) * 2000-12-27 2007-10-16 Mitsui Chemicals, Inc. Pellicle, producing method thereof and adhesive
JP2008176102A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレームへの膜接着剤の塗布方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7282525B2 (en) * 2000-12-27 2007-10-16 Mitsui Chemicals, Inc. Pellicle, producing method thereof and adhesive
JP2008176102A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレームへの膜接着剤の塗布方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5448024B2 (ja) 光硬化性接着剤、該光硬化性接着剤を用いた偏光板およびその製造方法、光学部材および液晶表示装置
TW200811205A (en) Curing resin composition and forming method of curing coating film
TW200949442A (en) Photosensitive resin composition, spacer and method for processing them, and liquid crystal display element
TW200937117A (en) Radiation sensitive resin composition, spacer and protective film of liquid crystal display, and forming methods thereof
US5378514A (en) Frame-supported pellicle for photolithography
JP6571318B2 (ja) 偏光板用接着剤およびこれを用いた表示装置
WO2017022285A1 (ja) 光学部材の製造方法
JP7240400B2 (ja) 偏光板の製造方法および偏光板用接着剤組成物
JP4979088B2 (ja) 半導体リソグラフィー用ペリクル
JP2013064989A (ja) 硬化性樹脂組成物
WO2006028227A1 (ja) 接着剤
JP7456269B2 (ja) マイクロledチップ搬送用フィルム及びマイクロledチップの搬送方法
JP2001356473A (ja) ペリクル
JP2012172083A (ja) ポリロタキサン及び硬化性組成物
WO2014069231A1 (ja) 放射線硬化性組成物、接着剤、及び偏光板
JP5802460B2 (ja) 硬化性樹脂組成物
JP2012234154A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2015137326A (ja) 放射線硬化性組成物、接着剤、及び偏光板
JP7280560B2 (ja) 現像液及びリンス液を用いた樹脂製レンズの製造方法、並びにそのリンス液
JP3486619B2 (ja) ペリクル、ペリクルの製造方法およびペリクル用接着剤
TWI255288B (en) A pellicle, a method for the production of the pellicle, and a adhesive agent used for the pellicle
TW201335696A (zh) 硬化性樹脂組成物
JP6622450B2 (ja) 偏光板用接着剤およびこれを用いた表示装置
TWI598391B (zh) 硬化性樹脂組合物
KR100771409B1 (ko) 포토리소그래피용 펠리클