JP2008120645A - 光学素子の製造装置及び製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】成形型20内のキャビティ25に収容された光学素材26を成形することにより光学素子を製造する光学素子の製造装置1において、光学素材26を収容したキャビティ25に不活性ガス(矢印N)を流入させる不活性ガス流入手段6と、この不活性ガス流入手段6が流入させる不活性ガス(矢印N)を加熱する加熱手段(18)とを備える構成とする。
【選択図】図1
Description
また、上記成形型は、上型と、下型と、この上型及び下型の外周に位置するスリーブとを含み、上記スリーブには、上記キャビティに連通可能なガス流入路及びガス排出路が形成され、上記不活性ガス流入手段は、上記スリーブのガス流入路を介して上記キャビティに上記不活性ガスを流入させ、上記キャビティに流入された不活性ガスは、上記スリーブのガス排出路を介して上記キャビティから排出される構成とするとよい。
また、上記加熱手段は、上記光学素材の加熱時、加圧時、及び、冷却時において、それぞれ異なる温度に不活性ガスを加熱する構成とするとよい。
また、上記光学素材の加熱時において、上記光学素材の表面積1cm2に対し、2L/min〜12L/minの不活性ガスを流入させながら、上記光学素子を成形するようにするとよい。
<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る光学素子の製造装置を示す部分断面図である。図2は、上記光学素子の製造装置に搬入される成形型を示す断面図である。
まず、下プレスプレート17上に光学素材26を収容した成形型20を載置する。そして、シリンダ8により上軸9を下降させ、上プレスプレート13を上型21に当接させ、上下のヒータブロック12,16から上型21及び下型22に伝熱させることにより、光学素材26を加熱軟化させる。
図4は、本発明の第2実施形態に係る光学素子の製造装置を示す部分断面図である。
本実施形態に係る光学素子の製造装置31は、加熱・加圧・冷却の工程を、それぞれ加熱部41、加圧部42及び冷却部43にて行ういわゆる循環型の製造装置である。加熱部41、加圧部42及び冷却部43の構成並びに成形型20の構成は、図1に示す光学素子の製造装置1と同様であるため、詳細な説明は省略する。
図5は、本発明の第3実施形態に係る光学素子の製造装置に位置する成形型を示す断面図である。図6は、上記成形型の下型を示す斜視図である。
2 上ベース
3 下ベース
4 側板
5 成形室
6 不活性ガス流入手段
7 シリンダベース
8 シリンダ
9 上軸
10 上冷却ブロック
11 上断熱ブロック
12 上ヒータブロック12
12a ヒータ
13 上プレスプレート
14 下冷却ブロック
15 下断熱ブロック
16 下ヒータブロック
16a ヒータ
16b,16c ガス流入路
17 下プレスプレート
17a ガス流入路
18 ガス加熱ヒータ
20 成形型
21 上型
21a 成形面
22 下型
22a 成形面
23 スリーブ
23a ガス流入路
23b ガス排出路
24 外スリーブ
24a 摺動部
24b ガス流入路
24c 下端
25 キャビティ
26 光学素材
31 光学素子製造装置
32 上ベース
33 下ベース
34 側板
34a 搬入シャッタ
34b 搬出シャッタ
35 成形室
36 不活性ガス流入手段
37 支持部
38 投入爪
41 加熱部
42 加圧部
43 冷却部
44 搬入台
45 搬出台
48 ガス加熱ヒータ
57 下プレスプレート
57a ガス流入路
60 成形型
61 上型
61a 成形面
62 下型
62a 成形面
63 スリーブ
63a ガス流入路
63b ガス排出路
65 キャビティ
66 光学素材
Claims (12)
- 成形型内のキャビティに収容された光学素材を成形することにより光学素子を製造する光学素子の製造装置において、
前記光学素材を収容したキャビティに不活性ガスを流入させる不活性ガス流入手段と、
該不活性ガス流入手段が流入させる前記不活性ガスを加熱する加熱手段と
を備えることを特徴とする光学素子の製造装置。 - 前記加熱手段は、前記光学素材の加熱時において、前記キャビティに流入される不活性ガスを前記光学素材の転移点温度以上に加熱することを特徴とする請求項1記載の光学素子の製造装置。
- 前記成形型は、上型と、下型と、該上型及び下型の外周に位置するスリーブとを含み、
前記スリーブには、前記キャビティに連通可能なガス流入路及びガス排出路が形成され、
前記不活性ガス流入手段は、前記スリーブのガス流入路を介して前記キャビティに前記不活性ガスを流入させ、
前記キャビティに流入された不活性ガスは、前記スリーブのガス排出路を介して前記キャビティから排出されることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の光学素子の製造装置。 - 前記光学素材を収容した成形型が前記光学素材の加熱時に載置されるプレートを更に備え、
前記成形型は、前記スリーブの外周に位置する外スリーブを更に含み、
前記プレート及び前記外スリーブには、それぞれガス流入路が形成され、
前記不活性ガス流入手段は、前記プレートのガス流入路、前記外スリーブのガス流入路、及び、前記スリーブのガス流入路を介して、前記キャビティに前記不活性ガスを流入させることを特徴とする請求項3記載の光学素子の製造装置。 - 前記外スリーブは、その下端が前記プレートに当接する位置と当接しない位置とに前記スリーブの外周面上を摺動可能な円筒形状に形成され、
前記キャビティに流入される不活性ガスは、前記キャビティの圧力が一定以上高まると、前記外スリーブを前記プレートに当接しない位置に浮上させ、前記外スリーブと前記プレートとの間から排出されることを特徴とする請求項4記載の光学素子の製造装置。 - 前記光学素材を収容した成形型が前記光学素材の加熱時に載置されるプレートを更に備え、
該プレート及び前記下型には、それぞれガス流入路が形成され、
前記不活性ガス流入手段は、前記プレートのガス流入路、前記下型のガス流入路、及び、前記スリーブのガス流入路を介して、前記キャビティに前記不活性ガスを流入させることを特徴とする請求項3記載の光学素子の製造装置。 - 前記スリーブのガス排出路は、前記上型に閉鎖されることにより前記キャビティへの開口面積が変動する位置に形成されていることを特徴とする請求項3記載の光学素子の製造装置。
- 前記加熱手段は、前記光学素材の加熱時、加圧時、及び、冷却時において、それぞれ異なる温度に不活性ガスを加熱することを特徴とする請求項1記載の光学素子の製造装置。
- 前記不活性ガス流入手段は、前記光学素材の加熱時において、前記光学素材の表面積1cm2に対し、2L/min〜12L/minの不活性ガスを前記キャビティに流入させることを特徴とする請求項1記載の光学素子の製造装置。
- 成形型内のキャビティに収容された光学素材を成形することにより光学素子を製造する光学素子の製造方法において、
前記光学素材を収容したキャビティに、加熱した不活性ガスを流入させながら、前記光学素子を成形することを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記光学素材の加熱時、加圧時、及び、冷却時において、それぞれ異なる温度に加熱した不活性ガスを流入させながら、前記光学素子を成形することを特徴とする請求項10記載の光学素子の製造方法。
- 前記光学素材の加熱時において、前記光学素材の表面積1cm2に対し、2L/min〜12L/minの不活性ガスを流入させながら、前記光学素子を成形することを特徴とする請求項10記載の光学素子の製造方法。
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