JP2008107467A - パターン修正方法およびパターン修正装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】レーザ照射で除去された欠陥部の周辺に付着した残渣を正常部分にダメージを与えることなく容易かつ迅速に除去することが可能なパターン修正方法を提供する。
【解決手段】このパターン修正装置1では、ガラス基板23上に形成された画素19に発生した異物欠陥22にレーザ光αを照射して画素19に矩形状の孔19aを開け、円柱状の粘着材30を押圧して孔19aの周辺に付着した残渣25を除去し、孔19aに修正インク33を塗布する。したがって、低パワーのレーザ光を照射して残渣25を除去する場合に比べ、正常部分に与えるダメージが小さくて済む。
【選択図】図4
【解決手段】このパターン修正装置1では、ガラス基板23上に形成された画素19に発生した異物欠陥22にレーザ光αを照射して画素19に矩形状の孔19aを開け、円柱状の粘着材30を押圧して孔19aの周辺に付着した残渣25を除去し、孔19aに修正インク33を塗布する。したがって、低パワーのレーザ光を照射して残渣25を除去する場合に比べ、正常部分に与えるダメージが小さくて済む。
【選択図】図4
Description
この発明はパターン修正方法およびパターン修正装置に関し、特に、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正方法およびパターン修正装置に関する。
LCD(液晶ディスプレイ)やプラズマディスプレイ(PDP)に代表されるフラットディスプレイの製造工程において、ガラス基板上に形成された電極が断線したオープン欠陥や、電極同士が短絡したショート欠陥が発生する場合がある。このような欠陥が発生した基板を全て廃棄するとコスト高になるので、欠陥を修正するパターン修正装置が使用されている。
このパターン修正装置は、オープン欠陥に修正ペーストを塗布して修正し、ショート欠陥にレーザ光を照射して除去し、除去したショート欠陥の周辺に付着した残渣に低パワーのレーザ光を照射して除去する(たとえば特許文献1参照)。
また、残渣を除去する方法としては、粘着テープを基板の表面に貼り付けて残渣とともに剥離する方法(たとえば特許文献2参照)、エアーで残渣を吹き飛ばす方法、溶剤を付けた布で残渣を拭き取る方法、洗浄装置で洗浄する方法などがある。
特開2002−40674号公報
特開平6−289213号公報
しかし、レーザ照射によって残渣を除去する方法では、残渣が付着した正常部分のレーザ光に対する耐性が弱い場合は、レーザ照射によって正常部分にダメージを与えてしまうという問題がある。また、粘着テープで残渣を除去する方法では、粘着テープの粘着剤によって基板が汚染される。また、エアーで残渣を吹き飛ばす方法では、風下に残渣が飛散して室内を汚染してしまう。
また、溶剤を付けた布で拭き取る方法では、手間が掛かり、擦った痕が広範囲に残り、溶剤とともに微量の残渣が基板の他の部分に拡散し、凹凸部にゴミが残るなどの問題がある。また、洗浄装置で洗浄する方法では、洗浄工程が別途必要となり、処理時間が長くなってしまう。
それゆえに、この発明の主たる目的は、レーザ照射で除去された欠陥部の周辺に付着した残渣を、正常部分にダメージを与えることなく、残渣を飛散させることなく、容易かつ迅速に除去することが可能なパターン修正方法およびパターン修正装置を提供することである。
この発明に係るパターン修正方法は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正方法において、欠陥部にレーザ光を照射して欠陥部を除去し、除去した欠陥部の周辺に付着した残渣を粘着材を用いて除去することを特徴とする。
好ましくは、粘着材は粘着性樹脂材である。
また好ましくは、基板はガラス基板であり、微細パターンはカラーフィルタである。
また好ましくは、基板はガラス基板であり、微細パターンはカラーフィルタである。
また、この発明に係るパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置において、欠陥部にレーザ光を照射して欠陥部を除去するレーザ照射手段と、レーザ照射手段によって除去された欠陥部の周辺に付着した残渣を粘着材を用いて除去する残渣除去手段とを備えたことを特徴とする。
この発明に係るパターン修正方法では、レーザ照射によって除去した欠陥部の周辺に付着した残渣を粘着材を用いて除去する。したがって、正常部分にダメージを与えることなく、残渣を飛散させることなく、容易かつ迅速に除去することができる。
[実施の形態1]
図1は、この発明の実施形態1によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。図1において、パターン修正装置1は、基板の表面を観察する観察光学系2と、観察された画像を映し出すモニタ3と、観察光学系2を介してレーザ光を照射して欠陥部を除去するレーザ部4と、塗布針を用いて修正インクを塗布するインク塗布機構5と、粘着材を用いて残渣を除去する残渣除去機構6と、欠陥部を認識する画像処理部7と、装置全体を制御するホストコンピュータ8と、装置機構部の動作を制御する制御用コンピュータ9とを備える。さらに、その他に欠陥部を持つ基板をXY方向(水平方向)に移動させるXYステージ10と、XYステージ10上で基板を保持するチャック部11と、観察光学系2やインク塗布機構5をZ方向(垂直方向)に移動させるZステージ12などが設けられている。
図1は、この発明の実施形態1によるパターン修正装置の全体構成を示す図である。図1において、パターン修正装置1は、基板の表面を観察する観察光学系2と、観察された画像を映し出すモニタ3と、観察光学系2を介してレーザ光を照射して欠陥部を除去するレーザ部4と、塗布針を用いて修正インクを塗布するインク塗布機構5と、粘着材を用いて残渣を除去する残渣除去機構6と、欠陥部を認識する画像処理部7と、装置全体を制御するホストコンピュータ8と、装置機構部の動作を制御する制御用コンピュータ9とを備える。さらに、その他に欠陥部を持つ基板をXY方向(水平方向)に移動させるXYステージ10と、XYステージ10上で基板を保持するチャック部11と、観察光学系2やインク塗布機構5をZ方向(垂直方向)に移動させるZステージ12などが設けられている。
図2は、修正対象となるLCDのカラーフィルタ15を示す図である。図2において、カラーフィルタ15は、ガラス基板(図示せず)の表面に形成されたブラックマトリクス16と呼ばれる格子状のパターンと、複数組のR(赤色)画素17、G(緑色)画素18、およびB(青色)画素19とを含む。カラーフィルタ15の製造工程においては、画素やブラックマトリクス16の色が抜けてしまった白欠陥20や、隣の画素と色が混色したり、ブラックマトリクス16が画素にはみ出してしまった黒欠陥21や、画素に異物が付着した異物欠陥22などが発生する。
次に、図1に示したパターン修正装置1を用いて欠陥20〜22を修正する方法について説明する。まず異物欠陥22を修正する方法について説明する。図3(a)(b)に示すように、B画素19に異物欠陥22が存在するものとする。異物欠陥22は、ガラス基板23の表面に異物24が付着した状態で画素を形成したものである。観察光学系2で異物欠陥22を観察しながらステージ10,12を移動させ、異物欠陥22にレーザ部4の焦点を合わせ、レーザ光αを照射する。レーザ光αは、レーザ部4内のスリットによって矩形に整形されている。これにより、図3(c)(d)に示すように、異物欠陥22が除去されてB画素19に矩形の孔19aが形成される。孔19aの周辺には、異物欠陥22などの残渣25が付着する。
残渣25は、画素19の光透過率を低下させるので、除去する必要がある。低パワーのレーザ光を照射して残渣25を除去する方法もあるが、カラーフィルタ15はレーザ光に対する耐性が低く、劣化する可能性がある。そこで、この実施の形態1では、粘着材を用いて残渣25を除去する。
図4(a)〜(c)に示すように、残渣除去機構6は円柱状の粘着材30を含む。粘着材30は、粘着ポリウレタンのような粘着樹脂で形成されており、材料的に粘着性を有するものである。したがって、粘着テープのように粘着剤(糊)を使用しないので、カラーフィルタ15に粘着剤が付着することがない。粘着材30の上端部はホルダ31に保持されており、ホルダ31はシリンダ(図示せず)によって上下方向に駆動される。
まずステージ10,12を移動させて粘着材30の下端面の中心を孔19aの中心の上方の所定位置に位置決めする。次に、シリンダを駆動し、粘着材30を下降させて粘着材30の下端面を画素19の表面に押圧し、所定時間後に粘着材30を上昇させる。これにより、孔19aの周辺の画素19表面に付着した残渣25は粘着材30の下端面に転写され、除去される。粘着材30に付着した残渣25をより粘着力の強い粘着材に転写させるか、残渣25を拭き取るか、粘着材30を洗浄すれば、粘着材30を再度使用することができる。
残渣25を除去したら、孔19aに修正インクを塗布する。すなわち図5(a)に示すように、インク塗布機構5の塗布針32の先端部に画素19と同じ色の修正インク33を付着させるとともに、ステージ10,12を移動させて塗布針32の先端を孔19aの中心の上方の所定位置に位置決めする。次に図5(b)に示すように、塗布針32を下降させて塗布針32の先端を孔19aを介してガラス基板23に接触させ、孔19a内に修正インク33を付着させる。次いで図5(c)に示すように、塗布針32を上昇させて、修正インク33の塗布を終了する。孔19aに塗布した修正インク33に紫外線硬化処理、熱硬化処理または乾燥処理を施せば、異物欠陥22の修正が終了する。
黒欠陥21は、異物欠陥22と同じ方法で修正する。白欠陥20は、異物欠陥22と同じ方法で修正してもよいし、図3および図4の工程を省略して図5の工程を行なってもよい。
この実施の形態1では、粘着材30を押圧して残渣25を除去するので、レーザ光によって残渣25の下の正常部分が劣化することがない。また、粘着テープを使用しないので、粘着剤(糊)でカラーフィルタ15が汚染されることもない。また、エアーで残渣25を吹き飛ばす方法のように風下に残渣25が飛散して室内を汚染してしまうこともない。
また、溶剤を付けた布で拭き取る方法のように手間が掛かったり、擦った痕が広範囲に残ったり、溶剤とともに微量の残渣25がカラーフィルタ15の他の部分に拡散したり、凹凸部にゴミが残ることもない。また、洗浄装置で洗浄する方法よりも、迅速に残渣25を除去することができる。
なお、この実施の形態1では、円柱状の粘着材30を使用したが、これに限るものではなく、半球状、ローラ状、円錐状、筆形状、櫛状などの粘着材30を使用してもよい。
図6は、この実施の形態1の変更例を示す図である。図6において、この変更例では、筆形状の粘着材35が使用される。粘着材35の上端部はホルダ36に保持される。ホルダ36は、駆動装置(図示せず)によって水平方向に動かされる。筆形状の粘着材35で孔19aの周囲の残渣25を複数回に分けて除去すれば、画素19に与えるダメージを小さくすることができる。この変更例は、孔19aの周辺の正常部分が剥離し易い場合に特に有効である。
[実施の形態2]
図7(a)〜(d)は、この発明の実施の形態2によるパターン修正方法を示す図である。図7(a)(b)において、修正対象であるガラス基板40の表面に2本の電極41,42が形成されており、電極41,42間にショート欠陥43が発生している。パターン修正装置は、図1で示したものと同じである。
図7(a)〜(d)は、この発明の実施の形態2によるパターン修正方法を示す図である。図7(a)(b)において、修正対象であるガラス基板40の表面に2本の電極41,42が形成されており、電極41,42間にショート欠陥43が発生している。パターン修正装置は、図1で示したものと同じである。
観察光学系2でショート欠陥43を観察しながらステージ10,12を移動させ、ショート欠陥43にレーザ部4の焦点を合わせ、レーザ光αを照射する。レーザ光αは、レーザ部4内のスリットによって矩形に整形されている。これにより、図7(c)(d)に示すように、ショート欠陥43が除去される。レーザ光αを照射した領域の周辺には、ショート欠陥43などの残渣44が付着する。
残渣44は、光透過率を低下させたり、電極41,42間の絶縁抵抗値を低下させる可能性があり、除去する必要がある。低パワーのレーザ光を照射して残渣44を除去する方法もあるが、レーザ光の照射によって電極41,42や図示しない樹脂膜が劣化する可能性がある。そこで、この実施の形態2では、図4(a)〜(c)で示した粘着材30や図6で示した粘着材35を用いて残渣44を除去する。これにより、電極41,42間の絶縁を確保することができる。
この実施の形態2でも、実施の形態1と同じ効果を得ることができる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 パターン修正装置、2 観察光学系、3 モニタ、4 レーザ部、5 インク塗布機構、6 残渣除去機構、7 画像処理部、8 ホストコンピュータ、9 制御用コンピュータ、10 XYステージ、11 チャック部、12 Zステージ、15 カラーフィルタ、16 ブラックマトリクス、17 R画素、18 G画素、19 B画素、19a 孔、20 白欠陥、21 黒欠陥、22 異物欠陥、23,40 ガラス基板、24 異物、α レーザ光、25,44 残渣、30,35 粘着材、31,36 ホルダ、32 塗布針、33 修正インク、41,42 電極、43 ショート欠陥。
Claims (4)
- 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正方法において、
前記欠陥部にレーザ光を照射して前記欠陥部を除去し、除去した前記欠陥部の周辺に付着した残渣を粘着材を用いて除去することを特徴とする、パターン修正方法。 - 前記粘着材は粘着性樹脂材であることを特徴とする、請求項1に記載のパターン修正方法。
- 前記基板はガラス基板であり、
前記微細パターンはカラーフィルタであることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のパターン修正方法。 - 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置において、
前記欠陥部にレーザ光を照射して前記欠陥部を除去するレーザ照射手段と、
前記レーザ照射手段によって除去された前記欠陥部の周辺に付着した残渣を粘着材を用いて除去する残渣除去手段とを備えたことを特徴とする、パターン修正装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006288838A JP2008107467A (ja) | 2006-10-24 | 2006-10-24 | パターン修正方法およびパターン修正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006288838A JP2008107467A (ja) | 2006-10-24 | 2006-10-24 | パターン修正方法およびパターン修正装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2008107467A true JP2008107467A (ja) | 2008-05-08 |
Family
ID=39440875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2006288838A Withdrawn JP2008107467A (ja) | 2006-10-24 | 2006-10-24 | パターン修正方法およびパターン修正装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2008107467A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013116452A (ja) * | 2011-12-05 | 2013-06-13 | Ntn Corp | 異物除去装置および異物除去方法 |
WO2015140849A1 (ja) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 紫外線発光素子の製造方法、紫外線発光素子 |
RU2751175C1 (ru) * | 2020-10-22 | 2021-07-09 | Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Алмаз" (АО "НПП "Алмаз") | Способ устранения течей в структуре материалов или их соединений в вакуумных приборах |
CN114828433A (zh) * | 2022-05-20 | 2022-07-29 | 湖北金禄科技有限公司 | 新能源汽车、线路板及其黑影工艺 |
-
2006
- 2006-10-24 JP JP2006288838A patent/JP2008107467A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20100105 |