JP4237982B2 - カラーフィルタの欠陥修正方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス基板等のベース基板の一面上に着色層が形成された、液晶ディスプレイ用等のカラーフィルタを、顔料分散法、染色法等により作製する際の、フィルタ部の白欠陥の修正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、パーソナルコンピュータ、携帯電話の普及に伴い、パーソナルコンピュータ用の液晶ディスプレイ、携帯電話用の液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にあり、これらの液晶ディスプレイには、画素の精細化とコストダウンが、益々、求められるようになってきている。
このような中、これらの液晶ディスプレイ用のカラーフィルタについても、益々の、画素の精細化と、その製造のコストダウンが求められている。
これら液晶ディスプレイ用のカラーフィルタの製造については、従来より、▲１▼顔料分散法、▲２▼染色法、▲３▼電着法、▲４▼印刷法、▲５▼インクジェット法が知られている。
▲１▼顔料分散法は、基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る工程を、３回繰り返すことにより、Ｒ，Ｇ，Ｂのカラーフィルタ層を形成する。
▲２▼染色法は、ガラス基板上に染色用の材料である水溶性高分子材料を塗布し、これをフォトリソグラフィー工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る工程を、３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂのカラーフィルタ層を得る。
▲３▼電着法は、基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第１の色を電着する工程を、３回繰り返してＲ，Ｇ，Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより表色層を形成するものである。
▲４▼印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色層を形成するものである。
▲５▼インクジェット法は、ノズルないしオリフィス等の開口から着色剤を含む液（以下、インクないしペーストとも言う）を吐出してカラーフィルタ部を形成するものである。
【０００３】
これら▲１▼〜▲４▼の方法に共通している点は、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になることである。
また、工程が多いほど歩留まりが低下するという問題点を有している。
さらに、▲１▼顔料分散法、▲２▼染色法では、ガラス基板への感光剤塗布工程では、スピンコーターを使用することが主流であり、その使用量が多くなるという問題や、塗布精度が均一ではないという問題もある。
さらに、▲３▼電着法においては、形成可能なパターン形状が限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ方式のカラー液晶ディスプレイには適用が難しい。
また、▲４▼印刷法は、解像性、平滑性が悪いためファインピッチのパターンは形成が難しい。
▲５▼インクジェット法は、これら▲１▼〜▲４▼の方法の欠点を補う製造方法として、種々提案されており、最近では、特に、携帯電話用の液晶ディスプレイの急速の普及に伴い、特にコストダウンを目的として注目されるようになってきた。
しかし、▲５▼インクジェット法では、インクジェットの制御、調整が必要で、且つ難しいという問題があり、まだ実用段階とは言えない。
【０００４】
このため、画素の精細化が求められる液晶ディスプレイ用のカラーフィルタの製造方法としては、現状では、▲１▼顔料分散法、▲２▼染色法が主流となっているが、▲１▼顔料分散法、▲２▼染色法においては、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返す必要があり、工程全体が長く複雑となっており、作成されたフィルタ部に欠陥を有することが多々あるため、欠陥部を修正する修正工程が必要に応じて行われている。
カラーフィルタの製造工程において、フォトリソグラフィー用のマスクへの異物等の付着、露光不良等により、黒欠陥（突起欠陥を含む）、白欠陥（欠け欠陥を含む）等の欠陥を生じることがある。
クリーンルーム等の発塵量の少ない環境においても、完全には異物の付着を防止することは困難である。
これら欠陥部の修正方法としては、従来、欠陥部分にＹＡＧレーザ（第２高調波）を照射し、欠陥部を含む領域の欠陥あるいは着色レジストの除去を行ない、除去部分に対応する所定の色の塗布材（以下、インキとも言う）を塗布する方法が採られていた。
【０００５】
この従来の欠陥部の修正方法を図４に基づいて簡単に説明しておく。
尚、図４（ａ１）、図４（ｂ１）、図４（ｃ１）は、それぞれ、図４（ａ）、図４（ｂ）、図４（ｃ）におけるＡ１−Ａ２断面図をである。
先ず、欠陥検査装置等により、欠陥箇所を把握しておき（図４（ａ）、図４（ａ１））、レーザ照射により、異物４４０を含む範囲の第２の着色層４２２を、所定の範囲だけ除去する除去工程を行なう。（図４（ｂ）、図４（ｂ１））
レーザ照射用のレーザ光としては、ＹＡＧレーザ（第２高調波）等が用いられるが、ＹＡＧレーザ（第２高調波）を照射する場合、異物４４０とその周辺の着色層４２２が、所定の小領域で昇華除去される。
次いで、除去工程により、欠陥部と欠陥部領域を含む範囲の着色層が除去された、本来着色層があるべき領域に、針状塗布部先端の塗布材（着色インキ）を接触させて塗布する。（図４（ｃ）、図４（ｃ１））
塗布は位置制御された針状塗布部を用いて行なう。
針状塗布部としては、塗布針、ディスペンサー、マイクロシリンジ、他の針状の塗布部等が挙げられ、これらの針状塗布部により、ぬけ部４４０へ第２の着色層４２２と同じ着色材を塗布する。
尚、塗布針は、針先端を着色インク壷に挿入し、着色インクを付着させ、針先端に付着した着色インクを接触させて塗布するものである。
次いで、必要に応じて、カラーフィルタを形成する基板に振動または加速を与え、塗布部の膜厚を均一化する、塗布膜厚均一化処理を行なった後、硬化させる。
これにより、異物が除去されたぬけ部４５０（図４（ｂ）、図４（ｂ１））に対し、塗布した着色インクを硬化させ、ほぼ平坦状に、修正用の着色層を新たに形成することができる。
このようにして、異物４４０を有する欠陥部（これを異物欠陥とも言う）は修正される。
【０００６】
この従来のＹＡＧレーザ（第２高調波）を用いる欠陥修正方法においては、ＹＡＧレーザ（第２高調波）を照射して、レジスト内部に金属や顔料の異物を含む欠陥を除去するが、欠陥サイズが大きくなると、塗布のピッチを目視にて決定していたため、品質的に適正なピッチに正確に塗布することは困難であった。
例えば、図５（ａ）に示す最適のピッチＰ０で塗布した場合、塗布高さはさほど高くならず、また、修正不可領域の範囲が小さい。
これに対し、図５（ｂ）に示すように、塗布ピッチが最適ピッチＰ０より狭いピッチＰ１の場合、重なり部分５３０の塗布高さが高くなり、図５（ｃ）に示すように、塗布ピッチが最適ピッチＰ０より広いピッチＰ２の場合、重なり部分５３０が少なくなり、修正不可領域５４０の範囲が広くなる。
塗布ピッチが狭いと、修正用の塗布材の重なりが大きくなると共に、この部分の高さが高くなるため、修正の品位が落ちることが多々ある。
また、塗布ピッチが広い場合には、修正不可領域の範囲が広くなり、修正により良品を得ることが難しくなる。
従来は、このピッチを目視にて決定していたため、品質的に適切なピッチにて塗布することは困難であった。
尚、ここでは、所定のピッチで塗布を行った場合、塗布高さがさほど高くならず、また、修正不可領域の範囲が小さく、品質面で問題とならない場合、適正な塗布ピッチと言い、幅を持ち所定の範囲内にある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、従来、液晶ディスプレイ用のカラーフィルタを、顔料分散法、染色法等にて作製する際、欠陥部分にＹＡＧレーザ（第２高調波）を照射し、欠陥部を含む領域の欠陥あるいは着色レジストの除去を行ない、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する欠陥修正方法が採られていたが、この欠陥修正方法においては、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する際、目視によらず、正確に所望の膜厚に塗布できる塗布方法が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、欠陥部を含む領域の欠陥あるいは着色レジストの除去を行ない、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する欠陥修正方法であって、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する際に、品質的に適正な膜厚に正確に塗布することができるカラーフィルタの修正用方法を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法は、着色層からなる着色パターン部の異物欠陥部に対して、レーザ光を照射し、異物欠陥部を含む領域をぬけ部として新たに白欠陥を形成した後、ぬけ部に対応する色の修正用の塗布材を、該塗布材に対して所定の塗布径を有する塗布部により、ぬけ部に塗布して、異物欠陥部を修正する、カラーフィルタの異物欠陥の修正方法であって、修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部のサイズが前記塗布部の塗布径より大きい場合に、塗布部を所定のピッチだけ位置ずらして複数回所定の塗布を行なうもので、前記所定のピッチを、塗布部の塗布径のサイズに対応して予め決められたピッチとし、修正のため修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部を含む撮影画像を表示部に表示させ、該画像に、塗布部の塗布位置が分かる修正の指標となる修正用ラインを重ねて表示させながら、塗布を行なうことを特徴とするものである。
そして、上記において、前記所定のピッチが、塗布する修正用の塗布材に対応して予め決められたピッチであることを特徴とするものである。
そしてまた、上記において、塗布部がディスペンサ、塗布針、インクジェット塗布部のいずれか１であることを特徴とするものである。
【０００９】
尚、ここでは、着色があるべき箇所において、着色層が無い状態、即ち、あるべき着色層がぬけた状態を白欠陥と言う。
そして、ここでは着色層がぬけた部分をぬけ部とも言う。
また、ここでは、塗布径とは、素ガラス上に塗布した際の塗布エリアの直径を言う。
上記において、異物欠陥に対して、新たに白欠陥を形成する白欠陥形成工程は、異物欠陥を含む領域に波長１μｍ以下のレーザを照射し、異物を除去し、前記異物欠陥を含む領域をぬけ部とするものであり、波長１μｍ以下のレーザとしては、ＹＡＧレーザ（第２、３、４高調波）、エキシマレーザ等が挙げられる。
【００１０】
【作用】
本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法は、このような構成にすることにより、欠陥部を含む領域の欠陥あるいは着色レジストの除去を行ない、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する欠陥修正方法で、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する際に、品質的に適正な膜厚に正確に塗布することができるカラーフィルタの修正用方法の提供を可能としている。これにより、液晶ディスプレイ用のカラーフィルタを、顔料分散法、染色法等にて作製する際、欠陥部の修正を歩留まり良くできるものとしている。
具体的には、着色層からなる着色パターン部の異物欠陥部に対して、レーザ光を照射し、異物欠陥部を含む領域をぬけ部として新たに白欠陥を形成した後、ぬけ部に対応する色の修正用の塗布材を、該塗布材に対して所定の塗布径を有する塗布部により、ぬけ部に塗布して、異物欠陥部を修正する、カラーフィルタの異物欠陥の修正方法であって、修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部のサイズが前記塗布部の塗布径より大きい場合に、塗布部を所定のピッチだけ位置ずらして複数回所定の塗布を行なうもので、前記所定のピッチが、塗布部の塗布径のサイズに対応して予め決められたピッチであることにより、更には、記所定のピッチを、塗布する修正用の塗布材に対応して予め決められたピッチとし、修正のため修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部を含む撮影画像を表示部に表示させ、該画像に、塗布部の塗布位置が分かる修正の指標となる修正用ラインを重ねて表示させながら、塗布を行なうことにより、これを達成している。
【００１１】
塗布部のピッチずらしとしては、修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部を含む撮影画像を表示部に表示させ、該画像に、塗布部の塗布位置が分かる修正の指標となる修正用ラインを重ねて表示させながら、塗布を行なう方法が挙げられる。
尚、レーザ光を照射した際に飛散した飛散物を、吸引手段にて吸い取り除去した後、あるいは更に、ぬけ部に短波長紫外線を照射して、着色層の不要な残さや除去した異物の汚れや残さを除去してから、ぬけ部に対応する色の修正用の塗布材を塗布しても良い。
この場合、ぬけ部の露出したベース基板面の濡れ性を、紫外線を照射しない場合に比べ、向上させることができる。
短波長紫外線の光源としては、低圧水銀灯、あるいはエキシマＵＶランプが挙げられる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態の例を図に基づいて説明する。
図１は本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法の実施の形態の１例の処理のフローを示したフロー図で、図２は図１に示すカラーフィルタの欠陥修正方法の１例の要部工程を示した工程図で、図３は画像表示装置の塗布動作設定画面を示した図である。
尚図１中、Ｓ１０〜Ｓ２０は処理ステップである。
図２〜図３中、１２１は第１色の着色層、１２２は第２色の着色層、１２３は第３色の着色層、１３０は遮光層、１４０は異物、１５０は（着色層の）ぬけ部（孔開け部とも言う）、１５０Ａはぬけ部外周位置、１６５は修正着色層（修正部とも言う）、１７０は修正用ライン、３１０は着色層、３２０はぬけ部、、３３０は修正用ライン、３３１は塗布開始位置の修正用ライン、３３２は塗布終了位置の修正用ライン、３４０は修正着色層（修正部とも言う）である。
【００１３】
本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例は、着色層からなる着色パターン部の異物欠陥部に対して、レーザ光を照射し、異物欠陥部を含む領域をぬけ部として新たに白欠陥を形成した後、ぬけ部に対応する色の修正用の塗布材を、該塗布材に対して所定の塗布径を有する塗布部により、ぬけ部に塗布して、異物欠陥部を修正する、カラーフィルタの異物欠陥の修正方法で、修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部のサイズが前記塗布部の塗布径より大きい場合に、塗布部を所定のピッチだけ位置ずらして複数回所定の塗布を行なうもので、前記所定のピッチが、塗布部の塗布径のサイズに対応して予め決められたピッチである。
ここでは、１例として、図２（ａ）示すように、ガラス基板からなるベース基板の一面上に第１の色の着色層１２１、第２の色の着色層１２２、第３の色の着色層１２３が形成された、顔料分散法により作製された液晶ディスプレイ用等のカラーフィルタで、第２の色の着色層１２２からなる着色パターン領域内にある突起異物からなる異物欠陥を修正する場合について説明する。
先ず、欠陥検査装置等により、欠陥箇所を把握しておき、レーザ照射により、異物を含む範囲の着色層を、所定の範囲だけ除去する除去工程を行なう。
ここでは、図２（ａ）に示すように、異物１４０が第２の着色層１２２領域内にあるが、これをＹＡＧ第２階調波等のレーザにて照射して、着色層１２２とともに、昇華除去し（Ｓ１１）、ぬけ部１５０を形成する。（Ｓ１２、図２（ｂ））
本例は、修正のため修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部１５０のサイズが塗布部（図示していない）の塗布径より大きい場合とする。
尚、通常、ラインセンサやエリアセンサを用い、欠陥部からの反射光や透過光を処理して欠陥部を検出する欠陥検査装置等により、欠陥箇所を把握しておき、欠陥箇所を顕微鏡やＴＶモニターにて確認し、修正前に、異物欠陥や白欠陥の欠陥箇所は把握される。
【００１４】
次いで、ぬけ部１５０を含む領域を撮影してその撮影画像データを得る。（Ｓ１３）
表示部は撮影画像を得てこれを表示するとともに、撮影画像データをデータ処理部（図示していない）に得て、塗布領域情報を抽出する。（Ｓ１４）
一方、予め、塗布材毎に、塗布ピッチと塗布膜状態の関係のデータをデータベースとして準備しておく。（Ｓ１０）
塗布ピッチと塗布膜状態の関係のデータとは、塗布ピッチと、膜厚とそのバラツキや色ムラ発生の有無等外観の良否との関連データである。
そして、塗布材の種類を決定し（Ｓ１５）、適切な塗布ピッチを決定する。（Ｓ１６）
この場合の決定には、ぬけ部の埋まり具合が考慮される。
抽出された塗布情報領域と、決定された塗布ピッチとから、修正用ラインを修正位置毎に生成し（Ｓ１７）、表示部において、撮影画像に重ねて表示させる。（Ｓ１８）
図２（ｃ）に示すように修正用ライン１７０が３箇所にそれぞれ表示される。
次いで、表示部の撮影画像と修正用ラインを見ながら、各位置の修正ラインにそれぞれ合せ塗布を行なう。（Ｓ１９）
全ての位置の修正ラインにそい塗布して修正を終える。（Ｓ２０、図２（ｄ）））
このようにして、本例の修正は行なわれる。
【００１５】
ここで、表示部による塗布動作の設定方法について、図３に基づいて簡単に説明しておく。
先ず、ぬけ部を形成し、ぬけ部を含む領域を撮影して、表示部（図示していない）にその部分の撮影画像を表示させる。（図３（ａ））
先に述べたように、撮影画像に重ね、決定された塗布ピッチから、まず、塗布開始位置に塗布開始位置の修正用ライン３３１を配置して表示する。（図３（ｂ））
次いで、更に、撮影画像に重ね、塗布終了位置に塗布終了位置の修正用ライン３３２を配置して表示する。（図３（ｃ））
次いで、決定された塗布ピッチで、修正用ライン３３１と修正用ライン３３２間に修正用ライン３３０を配置して表示する。（図３（ｄ））
この状態で、各修正用ラインに合せて、それぞれ、その位置で塗布を行なう。
塗布完了後の状態は、図３（ｅ）のように、表示される。
【００１６】
尚、開始位置と塗布終了位置との距離が定ピッチで割り切れない場合は、例えば、以下の４つのモードから選択する。
▲１▼塗布ピッチに許容範囲を設定し、その範囲内で均等分割し、塗布を行なう。
▲２▼塗布終了位置と定ピッチに塗布ピッチを保持し、塗布開始位置をずらして塗布を行なう。
▲３▼塗布開始位置と定ピッチに塗布ピッチを保持し、塗布終了位置をずらして、塗布を行なう。
▲４▼定ピッチに塗布ピッチのみを保持し、塗布開始位置、塗布終了位置をずらして、塗布を行なう。
・塗布ピッチ設定
【００１７】
ここでは、第２の色の着色層１２についての突起欠陥修正を述べたが、第１の色の着色層１１、第３の色の着色層１３についても同様である。
尚。第１の着色層１１、第２の着色層１２、第３の着色層１３としては、例えば、レッド、グリーン、ブルーの着色層が挙げられる。
【００１８】
【実施例】
実施例は、図１、図２に示す実施の形態例を行ったものである。
図２に基づいて説明する。
図２（ａ）に示すように、ガラス基板の上にフォトリソ法を用いてアクリル系の着色層を形成したカラーフィルタ表面上に生じた異物欠陥を、ハロゲンを光源として検出した。
この欠陥部にＹＡＧ第２階調波レーザ（波長５３２ｎｍ、出力４０ｍＪ）を、スポット径５０μｍ□に集光し、パルス幅１０ｎｓにて１パルス照射したところ、白欠陥となった。
しかし、まだ欠陥が残留しているため、再度５０μｍ□で照射し、異物を除去した。
除去後のぬけ部（白欠陥）のサイズは、５０μｍ×１００μｍとなった。（図２（ｂ））
この後、実施の形態例にて説明したように、表示部（図示していない）にてぬけ部の撮像画像とこれに重ねて表示した修正用ラインを見ながら、除去部分（ぬけ部１５０）に塗布塗布針にて欠陥部にあるべき着色層と同等な塗布材（着色剤）を、適正な定ピッチ２５μｍで塗布したところ、図２（ｄ）に示すごとく欠陥は認識できなくなり、カラーフィルタとして品質的に満足できるものを得ることができた。
本実施例の場合、塗布材としては、塗布径は７５μｍφの、以下の組成のインキを用いた。
＜インキ組成＞
樹脂 ：アクリル系樹脂
モノマー：ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）
開始剤 ：α−アミノケトン系
希釈溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
上記適正な塗布ピッチについては、予め塗布ピッチと塗布後の状態と、膜厚のバラツキ、色ムラ発生の有無を考慮して決めた。
尚、塗布ピッチ２５μｍの場合、塗布直後に除去部（ぬけ部）は埋まり、膜厚のバラツキは±０. ２μｍ、修正部は均一な濃度となった。
また、塗布ピッチ５０μｍの場合、塗布後３０秒程度でぬけ部は埋まり、膜厚のバラツキは±０. ８μｍと大きかった。
更に、塗布ピッチ７５μｍと広い場合には、塗布後、ぬけ部は埋まらず、色ムラが発生する場合があり、膜厚のバラツキは±１. ０μｍと大きかった。
これらの結果より、実施例においては、塗布径に対して、塗布ピッチが０. １〜０. ８で膜厚のバラツキが±０. ８μｍ以下となり、０. ３〜０. ４で膜厚のバラツキが±０. ２μｍ以下となり、塗布ピッチが０. １以下になると塗布材が盛り上がると共に横方向へ広がるため、除去領域（ぬけ部）外の塗布面積が増加する。
０. ８以上になると、塗布材が埋まらなくなる。
また、実施例では、塗布設定方法は、塗布開始位置と塗布終了位置を指示するのみで、定ピッチの塗布ピッチで実施した。
【００１９】
【発明の効果】
本発明は、上記のように欠陥部を含む領域の欠陥あるいは着色レジストの除去を行ない、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する欠陥修正方法で、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する際に、品質的に適正な膜厚に正確に塗布することができるカラーフィルタの修正用方法の提供を可能とした。
これにより、欠陥部の修正を歩留まり向上が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法の実施の形態の１例の処理のフローを示したフロー図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタの欠陥修正方法の１例の要部工程を示した工程図である。
【図３】画像表示装置の塗布動作設定画面を示した図である。
【図４】従来のカラーフィルタの欠陥修正方法の１例を示した工程図である。
【図５】塗布ピッチと膜厚等との関係を説明するための図である。
【符号の説明】
１２１ 第１色の着色層
１２２ 第２色の着色層
１２３ 第３色の着色層
１３０ 遮光層
１４０ 異物
１５０ （着色層の）ぬけ部（孔開け部とも言う）
１５０Ａ ぬけ部外周位置
１６５ 修正着色層（修正部とも言う）
１７０ 修正用ライン
３１０ 着色層
３２０ ぬけ部
３３０ 修正用ライン
３３１ 塗布開始位置の修正用ライン
３３２ 塗布終了位置の修正用ライン
３４０ 修正着色層（修正部とも言う）
４１０ ベース基板
４２１ 第１色の着色層
４２２ 第２色の着色層
４２３ 第３色の着色層
４３０ 遮光層
４４０ 異物
４５０ （着色層の）ぬけ部（孔開け部とも言う）
４５０Ａ ぬけ部外周位置
４５５ ぬけ部
４６０ （塗布した）着色インク
４６５ 修正用着色層（修正部とも言う）
５１０ 塗布修正対象領域
５２０ 塗布径
５３０ 重なり部分
５４０ 修正不可領域
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス基板等のベース基板の一面上に着色層が形成された、液晶ディスプレイ用等のカラーフィルタを、顔料分散法、染色法等により作製する際の、フィルタ部の白欠陥の修正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、パーソナルコンピュータ、携帯電話の普及に伴い、パーソナルコンピュータ用の液晶ディスプレイ、携帯電話用の液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にあり、これらの液晶ディスプレイには、画素の精細化とコストダウンが、益々、求められるようになってきている。
このような中、これらの液晶ディスプレイ用のカラーフィルタについても、益々の、画素の精細化と、その製造のコストダウンが求められている。
これら液晶ディスプレイ用のカラーフィルタの製造については、従来より、▲１▼顔料分散法、▲２▼染色法、▲３▼電着法、▲４▼印刷法、▲５▼インクジェット法が知られている。
▲１▼顔料分散法は、基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る工程を、３回繰り返すことにより、Ｒ，Ｇ，Ｂのカラーフィルタ層を形成する。
▲２▼染色法は、ガラス基板上に染色用の材料である水溶性高分子材料を塗布し、これをフォトリソグラフィー工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る工程を、３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂのカラーフィルタ層を得る。
▲３▼電着法は、基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第１の色を電着する工程を、３回繰り返してＲ，Ｇ，Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより表色層を形成するものである。
▲４▼印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色層を形成するものである。
▲５▼インクジェット法は、ノズルないしオリフィス等の開口から着色剤を含む液（以下、インクないしペーストとも言う）を吐出してカラーフィルタ部を形成するものである。
【０００３】
これら▲１▼〜▲４▼の方法に共通している点は、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になることである。
また、工程が多いほど歩留まりが低下するという問題点を有している。
さらに、▲１▼顔料分散法、▲２▼染色法では、ガラス基板への感光剤塗布工程では、スピンコーターを使用することが主流であり、その使用量が多くなるという問題や、塗布精度が均一ではないという問題もある。
さらに、▲３▼電着法においては、形成可能なパターン形状が限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ方式のカラー液晶ディスプレイには適用が難しい。
また、▲４▼印刷法は、解像性、平滑性が悪いためファインピッチのパターンは形成が難しい。
▲５▼インクジェット法は、これら▲１▼〜▲４▼の方法の欠点を補う製造方法として、種々提案されており、最近では、特に、携帯電話用の液晶ディスプレイの急速の普及に伴い、特にコストダウンを目的として注目されるようになってきた。
しかし、▲５▼インクジェット法では、インクジェットの制御、調整が必要で、且つ難しいという問題があり、まだ実用段階とは言えない。
【０００４】
このため、画素の精細化が求められる液晶ディスプレイ用のカラーフィルタの製造方法としては、現状では、▲１▼顔料分散法、▲２▼染色法が主流となっているが、▲１▼顔料分散法、▲２▼染色法においては、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返す必要があり、工程全体が長く複雑となっており、作成されたフィルタ部に欠陥を有することが多々あるため、欠陥部を修正する修正工程が必要に応じて行われている。
カラーフィルタの製造工程において、フォトリソグラフィー用のマスクへの異物等の付着、露光不良等により、黒欠陥（突起欠陥を含む）、白欠陥（欠け欠陥を含む）等の欠陥を生じることがある。
クリーンルーム等の発塵量の少ない環境においても、完全には異物の付着を防止することは困難である。
これら欠陥部の修正方法としては、従来、欠陥部分にＹＡＧレーザ（第２高調波）を照射し、欠陥部を含む領域の欠陥あるいは着色レジストの除去を行ない、除去部分に対応する所定の色の塗布材（以下、インキとも言う）を塗布する方法が採られていた。
【０００５】
この従来の欠陥部の修正方法を図４に基づいて簡単に説明しておく。
尚、図４（ａ１）、図４（ｂ１）、図４（ｃ１）は、それぞれ、図４（ａ）、図４（ｂ）、図４（ｃ）におけるＡ１−Ａ２断面図をである。
先ず、欠陥検査装置等により、欠陥箇所を把握しておき（図４（ａ）、図４（ａ１））、レーザ照射により、異物４４０を含む範囲の第２の着色層４２２を、所定の範囲だけ除去する除去工程を行なう。（図４（ｂ）、図４（ｂ１））
レーザ照射用のレーザ光としては、ＹＡＧレーザ（第２高調波）等が用いられるが、ＹＡＧレーザ（第２高調波）を照射する場合、異物４４０とその周辺の着色層４２２が、所定の小領域で昇華除去される。
次いで、除去工程により、欠陥部と欠陥部領域を含む範囲の着色層が除去された、本来着色層があるべき領域に、針状塗布部先端の塗布材（着色インキ）を接触させて塗布する。（図４（ｃ）、図４（ｃ１））
塗布は位置制御された針状塗布部を用いて行なう。
針状塗布部としては、塗布針、ディスペンサー、マイクロシリンジ、他の針状の塗布部等が挙げられ、これらの針状塗布部により、ぬけ部４４０へ第２の着色層４２２と同じ着色材を塗布する。
尚、塗布針は、針先端を着色インク壷に挿入し、着色インクを付着させ、針先端に付着した着色インクを接触させて塗布するものである。
次いで、必要に応じて、カラーフィルタを形成する基板に振動または加速を与え、塗布部の膜厚を均一化する、塗布膜厚均一化処理を行なった後、硬化させる。
これにより、異物が除去されたぬけ部４５０（図４（ｂ）、図４（ｂ１））に対し、塗布した着色インクを硬化させ、ほぼ平坦状に、修正用の着色層を新たに形成することができる。
このようにして、異物４４０を有する欠陥部（これを異物欠陥とも言う）は修正される。
【０００６】
この従来のＹＡＧレーザ（第２高調波）を用いる欠陥修正方法においては、ＹＡＧレーザ（第２高調波）を照射して、レジスト内部に金属や顔料の異物を含む欠陥を除去するが、欠陥サイズが大きくなると、塗布のピッチを目視にて決定していたため、品質的に適正なピッチに正確に塗布することは困難であった。
例えば、図５（ａ）に示す最適のピッチＰ０で塗布した場合、塗布高さはさほど高くならず、また、修正不可領域の範囲が小さい。
これに対し、図５（ｂ）に示すように、塗布ピッチが最適ピッチＰ０より狭いピッチＰ１の場合、重なり部分５３０の塗布高さが高くなり、図５（ｃ）に示すように、塗布ピッチが最適ピッチＰ０より広いピッチＰ２の場合、重なり部分５３０が少なくなり、修正不可領域５４０の範囲が広くなる。
塗布ピッチが狭いと、修正用の塗布材の重なりが大きくなると共に、この部分の高さが高くなるため、修正の品位が落ちることが多々ある。
また、塗布ピッチが広い場合には、修正不可領域の範囲が広くなり、修正により良品を得ることが難しくなる。
従来は、このピッチを目視にて決定していたため、品質的に適切なピッチにて塗布することは困難であった。
尚、ここでは、所定のピッチで塗布を行った場合、塗布高さがさほど高くならず、また、修正不可領域の範囲が小さく、品質面で問題とならない場合、適正な塗布ピッチと言い、幅を持ち所定の範囲内にある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、従来、液晶ディスプレイ用のカラーフィルタを、顔料分散法、染色法等にて作製する際、欠陥部分にＹＡＧレーザ（第２高調波）を照射し、欠陥部を含む領域の欠陥あるいは着色レジストの除去を行ない、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する欠陥修正方法が採られていたが、この欠陥修正方法においては、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する際、目視によらず、正確に所望の膜厚に塗布できる塗布方法が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、欠陥部を含む領域の欠陥あるいは着色レジストの除去を行ない、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する欠陥修正方法であって、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する際に、品質的に適正な膜厚に正確に塗布することができるカラーフィルタの修正用方法を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法は、着色層からなる着色パターン部の異物欠陥部に対して、レーザ光を照射し、異物欠陥部を含む領域をぬけ部として新たに白欠陥を形成した後、ぬけ部に対応する色の修正用の塗布材を、該塗布材に対して所定の塗布径を有する塗布部により、ぬけ部に塗布して、異物欠陥部を修正する、カラーフィルタの異物欠陥の修正方法であって、修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部のサイズが前記塗布部の塗布径より大きい場合に、塗布部を所定のピッチだけ位置ずらして複数回所定の塗布を行なうもので、前記所定のピッチを、塗布部の塗布径のサイズに対応して予め決められたピッチとし、修正のため修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部を含む撮影画像を表示部に表示させ、該画像に、塗布部の塗布位置が分かる修正の指標となる修正用ラインを重ねて表示させながら、塗布を行なうことを特徴とするものである。
そして、上記において、前記所定のピッチが、塗布する修正用の塗布材に対応して予め決められたピッチであることを特徴とするものである。
そしてまた、上記において、塗布部がディスペンサ、塗布針、インクジェット塗布部のいずれか１であることを特徴とするものである。
【０００９】
尚、ここでは、着色があるべき箇所において、着色層が無い状態、即ち、あるべき着色層がぬけた状態を白欠陥と言う。
そして、ここでは着色層がぬけた部分をぬけ部とも言う。
また、ここでは、塗布径とは、素ガラス上に塗布した際の塗布エリアの直径を言う。
上記において、異物欠陥に対して、新たに白欠陥を形成する白欠陥形成工程は、異物欠陥を含む領域に波長１μｍ以下のレーザを照射し、異物を除去し、前記異物欠陥を含む領域をぬけ部とするものであり、波長１μｍ以下のレーザとしては、ＹＡＧレーザ（第２、３、４高調波）、エキシマレーザ等が挙げられる。
【００１０】
【作用】
本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法は、このような構成にすることにより、欠陥部を含む領域の欠陥あるいは着色レジストの除去を行ない、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する欠陥修正方法で、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する際に、品質的に適正な膜厚に正確に塗布することができるカラーフィルタの修正用方法の提供を可能としている。これにより、液晶ディスプレイ用のカラーフィルタを、顔料分散法、染色法等にて作製する際、欠陥部の修正を歩留まり良くできるものとしている。
具体的には、着色層からなる着色パターン部の異物欠陥部に対して、レーザ光を照射し、異物欠陥部を含む領域をぬけ部として新たに白欠陥を形成した後、ぬけ部に対応する色の修正用の塗布材を、該塗布材に対して所定の塗布径を有する塗布部により、ぬけ部に塗布して、異物欠陥部を修正する、カラーフィルタの異物欠陥の修正方法であって、修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部のサイズが前記塗布部の塗布径より大きい場合に、塗布部を所定のピッチだけ位置ずらして複数回所定の塗布を行なうもので、前記所定のピッチが、塗布部の塗布径のサイズに対応して予め決められたピッチであることにより、更には、記所定のピッチを、塗布する修正用の塗布材に対応して予め決められたピッチとし、修正のため修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部を含む撮影画像を表示部に表示させ、該画像に、塗布部の塗布位置が分かる修正の指標となる修正用ラインを重ねて表示させながら、塗布を行なうことにより、これを達成している。
【００１１】
塗布部のピッチずらしとしては、修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部を含む撮影画像を表示部に表示させ、該画像に、塗布部の塗布位置が分かる修正の指標となる修正用ラインを重ねて表示させながら、塗布を行なう方法が挙げられる。
尚、レーザ光を照射した際に飛散した飛散物を、吸引手段にて吸い取り除去した後、あるいは更に、ぬけ部に短波長紫外線を照射して、着色層の不要な残さや除去した異物の汚れや残さを除去してから、ぬけ部に対応する色の修正用の塗布材を塗布しても良い。
この場合、ぬけ部の露出したベース基板面の濡れ性を、紫外線を照射しない場合に比べ、向上させることができる。
短波長紫外線の光源としては、低圧水銀灯、あるいはエキシマＵＶランプが挙げられる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態の例を図に基づいて説明する。
図１は本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法の実施の形態の１例の処理のフローを示したフロー図で、図２は図１に示すカラーフィルタの欠陥修正方法の１例の要部工程を示した工程図で、図３は画像表示装置の塗布動作設定画面を示した図である。
尚図１中、Ｓ１０〜Ｓ２０は処理ステップである。
図２〜図３中、１２１は第１色の着色層、１２２は第２色の着色層、１２３は第３色の着色層、１３０は遮光層、１４０は異物、１５０は（着色層の）ぬけ部（孔開け部とも言う）、１５０Ａはぬけ部外周位置、１６５は修正着色層（修正部とも言う）、１７０は修正用ライン、３１０は着色層、３２０はぬけ部、、３３０は修正用ライン、３３１は塗布開始位置の修正用ライン、３３２は塗布終了位置の修正用ライン、３４０は修正着色層（修正部とも言う）である。
【００１３】
本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例は、着色層からなる着色パターン部の異物欠陥部に対して、レーザ光を照射し、異物欠陥部を含む領域をぬけ部として新たに白欠陥を形成した後、ぬけ部に対応する色の修正用の塗布材を、該塗布材に対して所定の塗布径を有する塗布部により、ぬけ部に塗布して、異物欠陥部を修正する、カラーフィルタの異物欠陥の修正方法で、修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部のサイズが前記塗布部の塗布径より大きい場合に、塗布部を所定のピッチだけ位置ずらして複数回所定の塗布を行なうもので、前記所定のピッチが、塗布部の塗布径のサイズに対応して予め決められたピッチである。
ここでは、１例として、図２（ａ）示すように、ガラス基板からなるベース基板の一面上に第１の色の着色層１２１、第２の色の着色層１２２、第３の色の着色層１２３が形成された、顔料分散法により作製された液晶ディスプレイ用等のカラーフィルタで、第２の色の着色層１２２からなる着色パターン領域内にある突起異物からなる異物欠陥を修正する場合について説明する。
先ず、欠陥検査装置等により、欠陥箇所を把握しておき、レーザ照射により、異物を含む範囲の着色層を、所定の範囲だけ除去する除去工程を行なう。
ここでは、図２（ａ）に示すように、異物１４０が第２の着色層１２２領域内にあるが、これをＹＡＧ第２階調波等のレーザにて照射して、着色層１２２とともに、昇華除去し（Ｓ１１）、ぬけ部１５０を形成する。（Ｓ１２、図２（ｂ））
本例は、修正のため修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部１５０のサイズが塗布部（図示していない）の塗布径より大きい場合とする。
尚、通常、ラインセンサやエリアセンサを用い、欠陥部からの反射光や透過光を処理して欠陥部を検出する欠陥検査装置等により、欠陥箇所を把握しておき、欠陥箇所を顕微鏡やＴＶモニターにて確認し、修正前に、異物欠陥や白欠陥の欠陥箇所は把握される。
【００１４】
次いで、ぬけ部１５０を含む領域を撮影してその撮影画像データを得る。（Ｓ１３）
表示部は撮影画像を得てこれを表示するとともに、撮影画像データをデータ処理部（図示していない）に得て、塗布領域情報を抽出する。（Ｓ１４）
一方、予め、塗布材毎に、塗布ピッチと塗布膜状態の関係のデータをデータベースとして準備しておく。（Ｓ１０）
塗布ピッチと塗布膜状態の関係のデータとは、塗布ピッチと、膜厚とそのバラツキや色ムラ発生の有無等外観の良否との関連データである。
そして、塗布材の種類を決定し（Ｓ１５）、適切な塗布ピッチを決定する。（Ｓ１６）
この場合の決定には、ぬけ部の埋まり具合が考慮される。
抽出された塗布情報領域と、決定された塗布ピッチとから、修正用ラインを修正位置毎に生成し（Ｓ１７）、表示部において、撮影画像に重ねて表示させる。（Ｓ１８）
図２（ｃ）に示すように修正用ライン１７０が３箇所にそれぞれ表示される。
次いで、表示部の撮影画像と修正用ラインを見ながら、各位置の修正ラインにそれぞれ合せ塗布を行なう。（Ｓ１９）
全ての位置の修正ラインにそい塗布して修正を終える。（Ｓ２０、図２（ｄ）））
このようにして、本例の修正は行なわれる。
【００１５】
ここで、表示部による塗布動作の設定方法について、図３に基づいて簡単に説明しておく。
先ず、ぬけ部を形成し、ぬけ部を含む領域を撮影して、表示部（図示していない）にその部分の撮影画像を表示させる。（図３（ａ））
先に述べたように、撮影画像に重ね、決定された塗布ピッチから、まず、塗布開始位置に塗布開始位置の修正用ライン３３１を配置して表示する。（図３（ｂ））
次いで、更に、撮影画像に重ね、塗布終了位置に塗布終了位置の修正用ライン３３２を配置して表示する。（図３（ｃ））
次いで、決定された塗布ピッチで、修正用ライン３３１と修正用ライン３３２間に修正用ライン３３０を配置して表示する。（図３（ｄ））
この状態で、各修正用ラインに合せて、それぞれ、その位置で塗布を行なう。
塗布完了後の状態は、図３（ｅ）のように、表示される。
【００１６】
尚、開始位置と塗布終了位置との距離が定ピッチで割り切れない場合は、例えば、以下の４つのモードから選択する。
▲１▼塗布ピッチに許容範囲を設定し、その範囲内で均等分割し、塗布を行なう。
▲２▼塗布終了位置と定ピッチに塗布ピッチを保持し、塗布開始位置をずらして塗布を行なう。
▲３▼塗布開始位置と定ピッチに塗布ピッチを保持し、塗布終了位置をずらして、塗布を行なう。
▲４▼定ピッチに塗布ピッチのみを保持し、塗布開始位置、塗布終了位置をずらして、塗布を行なう。
・塗布ピッチ設定
【００１７】
ここでは、第２の色の着色層１２についての突起欠陥修正を述べたが、第１の色の着色層１１、第３の色の着色層１３についても同様である。
尚。第１の着色層１１、第２の着色層１２、第３の着色層１３としては、例えば、レッド、グリーン、ブルーの着色層が挙げられる。
【００１８】
【実施例】
実施例は、図１、図２に示す実施の形態例を行ったものである。
図２に基づいて説明する。
図２（ａ）に示すように、ガラス基板の上にフォトリソ法を用いてアクリル系の着色層を形成したカラーフィルタ表面上に生じた異物欠陥を、ハロゲンを光源として検出した。
この欠陥部にＹＡＧ第２階調波レーザ（波長５３２ｎｍ、出力４０ｍＪ）を、スポット径５０μｍ□に集光し、パルス幅１０ｎｓにて１パルス照射したところ、白欠陥となった。
しかし、まだ欠陥が残留しているため、再度５０μｍ□で照射し、異物を除去した。
除去後のぬけ部（白欠陥）のサイズは、５０μｍ×１００μｍとなった。（図２（ｂ））
この後、実施の形態例にて説明したように、表示部（図示していない）にてぬけ部の撮像画像とこれに重ねて表示した修正用ラインを見ながら、除去部分（ぬけ部１５０）に塗布塗布針にて欠陥部にあるべき着色層と同等な塗布材（着色剤）を、適正な定ピッチ２５μｍで塗布したところ、図２（ｄ）に示すごとく欠陥は認識できなくなり、カラーフィルタとして品質的に満足できるものを得ることができた。
本実施例の場合、塗布材としては、塗布径は７５μｍφの、以下の組成のインキを用いた。
＜インキ組成＞
樹脂 ：アクリル系樹脂
モノマー：ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）
開始剤 ：α−アミノケトン系
希釈溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
上記適正な塗布ピッチについては、予め塗布ピッチと塗布後の状態と、膜厚のバラツキ、色ムラ発生の有無を考慮して決めた。
尚、塗布ピッチ２５μｍの場合、塗布直後に除去部（ぬけ部）は埋まり、膜厚のバラツキは±０. ２μｍ、修正部は均一な濃度となった。
また、塗布ピッチ５０μｍの場合、塗布後３０秒程度でぬけ部は埋まり、膜厚のバラツキは±０. ８μｍと大きかった。
更に、塗布ピッチ７５μｍと広い場合には、塗布後、ぬけ部は埋まらず、色ムラが発生する場合があり、膜厚のバラツキは±１. ０μｍと大きかった。
これらの結果より、実施例においては、塗布径に対して、塗布ピッチが０. １〜０. ８で膜厚のバラツキが±０. ８μｍ以下となり、０. ３〜０. ４で膜厚のバラツキが±０. ２μｍ以下となり、塗布ピッチが０. １以下になると塗布材が盛り上がると共に横方向へ広がるため、除去領域（ぬけ部）外の塗布面積が増加する。
０. ８以上になると、塗布材が埋まらなくなる。
また、実施例では、塗布設定方法は、塗布開始位置と塗布終了位置を指示するのみで、定ピッチの塗布ピッチで実施した。
【００１９】
【発明の効果】
本発明は、上記のように欠陥部を含む領域の欠陥あるいは着色レジストの除去を行ない、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する欠陥修正方法で、除去部分に対応する所定の色の塗布材を塗布する際に、品質的に適正な膜厚に正確に塗布することができるカラーフィルタの修正用方法の提供を可能とした。
これにより、欠陥部の修正を歩留まり向上が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法の実施の形態の１例の処理のフローを示したフロー図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタの欠陥修正方法の１例の要部工程を示した工程図である。
【図３】画像表示装置の塗布動作設定画面を示した図である。
【図４】従来のカラーフィルタの欠陥修正方法の１例を示した工程図である。
【図５】塗布ピッチと膜厚等との関係を説明するための図である。
【符号の説明】
１２１ 第１色の着色層
１２２ 第２色の着色層
１２３ 第３色の着色層
１３０ 遮光層
１４０ 異物
１５０ （着色層の）ぬけ部（孔開け部とも言う）
１５０Ａ ぬけ部外周位置
１６５ 修正着色層（修正部とも言う）
１７０ 修正用ライン
３１０ 着色層
３２０ ぬけ部
３３０ 修正用ライン
３３１ 塗布開始位置の修正用ライン
３３２ 塗布終了位置の修正用ライン
３４０ 修正着色層（修正部とも言う）
４１０ ベース基板
４２１ 第１色の着色層
４２２ 第２色の着色層
４２３ 第３色の着色層
４３０ 遮光層
４４０ 異物
４５０ （着色層の）ぬけ部（孔開け部とも言う）
４５０Ａ ぬけ部外周位置
４５５ ぬけ部
４６０ （塗布した）着色インク
４６５ 修正用着色層（修正部とも言う）
５１０ 塗布修正対象領域
５２０ 塗布径
５３０ 重なり部分
５４０ 修正不可領域
Claims (3)
- 着色層からなる着色パターン部の異物欠陥部に対して、レーザ光を照射し、異物欠陥部を含む領域をぬけ部として新たに白欠陥を形成した後、ぬけ部に対応する色の修正用の塗布材を、該塗布材に対して所定の塗布径を有する塗布部により、ぬけ部に塗布して、異物欠陥部を修正する、カラーフィルタの異物欠陥の修正方法であって、修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部のサイズが前記塗布部の塗布径より大きい場合に、塗布部を所定のピッチだけ位置ずらして複数回所定の塗布を行なうもので、前記所定のピッチを、塗布部の塗布径のサイズに対応して予め決められたピッチとし、修正のため修正用の塗布材を塗布する領域であるぬけ部を含む撮影画像を表示部に表示させ、該画像に、塗布部の塗布位置が分かる修正の指標となる修正用ラインを重ねて表示させながら、塗布を行なうことを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法。
- 請求項１において、前記所定のピッチが、塗布する修正用の塗布材に対応して予め決められたピッチであることを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法。
- 請求項１ないし２において、塗布部がディスペンサ、塗布針、インクジェット塗布部のいずれか１であることを特徴とするカラーフィルタの欠陥修正方法。
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