JP2008077725A - 半導体記憶装置および電子機器 - Google Patents
半導体記憶装置および電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008077725A JP2008077725A JP2006254174A JP2006254174A JP2008077725A JP 2008077725 A JP2008077725 A JP 2008077725A JP 2006254174 A JP2006254174 A JP 2006254174A JP 2006254174 A JP2006254174 A JP 2006254174A JP 2008077725 A JP2008077725 A JP 2008077725A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- input
- memory cell
- signal
- terminal
- bit line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
【解決手段】ワード線方向に互いに隣接する第1メモリセルMC0と第2メモリセルMC1とで1ビットの情報を記憶する。読み出し動作に用いるペアの第1メモリセルMC0と第2メモリセルMC1の一方を、他方の書き込み時のベリファイセルとして用いる。
【選択図】図1
Description
第1入力端子および第2入力端子を有する電圧センスアンプと、
情報を記憶できる記憶領域、第1入出力端子および第2入出力端子を有する第1メモリセルと、
情報を記憶できる記憶領域と、上記第1メモリセルの上記第2入出力端子に接続された第1入出力端子と、第2入出力端子とを有する第2メモリセルと、
上記第1メモリセルの上記第1入出力端子に接続された第1ビット線と、
上記第2メモリセルの上記第2入出力端子に接続された第2ビット線と、
上記第1メモリセルの上記第2入出力端子と、上記第2メモリセルの上記第1入出力端子とに接続された第3ビット線と、
上記第1ビット線、上記第2ビット線および上記第3ビット線に対して充電または放電を行うビット線充放電回路と、
上記第1ビット線に接続された第1端子と、上記電圧センスアンプの上記第1入力端子に接続された第2端子と、制御端子とを有し、上記電圧センスアンプの上記第1入力端子と、上記第1ビット線とを接離する第1スイッチング素子と、
上記第2ビット線に接続された第1端子と、上記電圧センスアンプの上記第2入力端子に接続された第2端子と、制御端子とを有し、上記電圧センスアンプの上記第2入力端子と、上記第2ビット線とを接離する第2スイッチング素子と、
上記第1スイッチング素子の制御端子に接続された第1出力端子と、上記第2スイッチング素子の制御端子に接続された第2出力端子とを有し、上記第1スイッチング素子の制御端子と、上記第2スイッチング素子の制御端子とにパルス信号を出力するパルス信号発生部と
を備え、
上記第1メモリセルと上記第2メモリセルとで1ビットの情報を記憶することを特徴としている。
上記パルス信号発生部が、
第1のパルス幅を有するパルス信号を出力する第1パルス発生回路と、
上記第1のパルス幅と異なる第2のパルス幅を有するパルス信号を出力する第2パルス発生回路と、
上記第1パルス発生回路からの信号が入力される第1入力端子と、上記第2パルス発生回路からの信号が入力される第2入力端子と、制御信号入力端子とを有する第1マルチプレクサと、
上記第1パルス発生回路からの信号が入力される第1入力端子と、上記第2パルス発生回路からの信号が入力される第2入力端子と、制御信号入力端子とを有する第2マルチプレクサと、
上記第1マルチプレクサの上記制御信号入力端子に接続された第1出力端子と、上記第2マルチプレクサの上記制御信号入力端子に接続された第2出力端子とを有し、上記第1マルチプレクサが出力する信号を、上記第1パルス発生回路からの信号にするか、または、上記第2パルス発生回路からの信号にするかを制御すると共に、上記第2マルチプレクサが出力する信号を、上記第1パルス発生回路からの信号にするか、または、上記第2パルス発生回路からの信号にするかを制御するパルス幅制御回路と
を備える。
上記パルス信号発生部が
第1パルス信号と、上記第1パルス信号とパルス幅が異なる第2パルス信号とを出力可能な第1パルス発生回路と、
上記第1パルス発生回路と同一である第2パルス発生回路と、
上記第1パルス発生回路が出力する信号を、上記第1パルス信号にするか、または、上記第2パルス信号にするかを制御すると共に、上記第2パルス発生回路が出力する信号を、上記第1パルス信号にするか、または、上記第2パルス信号にするかを制御するパルス幅制御回路と
を備える。
情報を記憶できる記憶領域、第1入出力端子および第2入出力端子を有する第1メモリセルと、
情報を記憶できる記憶領域と、上記第1メモリセルの上記第2入出力端子に接続された第1入出力端子と、第2入出力端子とを有する第2メモリセルと、
上記第1メモリセルの上記第1入出力端子に接続された第1ビット線と、
上記第2メモリセルの上記第2入出力端子に接続された第2ビット線と、
上記第1メモリセルの上記第2入出力端子と、上記第2メモリセルの上記第1入出力端子とに接続された第3ビット線と、
上記第1ビット線、上記第2ビット線および上記第3ビット線に対して充電または放電を行うビット線充放電回路と、
上記第1ビット線が接続される第1入力端子と、上記第2ビット線が接続される第2入力端子と、第1出力端子と、第2出力端子とを有するビット線選択回路と、
上記ビット線選択回路の上記第1出力端子に接続された第1入力端子と、上記ビット線選択回路の上記第2出力端子に接続された第2入力端子とを有する電流センスアンプと
を備え、
上記第1メモリセルと上記第2メモリセルとで1ビットの情報を記憶し、
上記電流センスアンプは、上記第1メモリセルと上記第2メモリセルとに間違った情報が書き込まれるのを防止する誤情報書込防止部を有していることを特徴としている。
図1は、本発明の第1実施形態の半導体記憶装置を示す図である。この半導体記憶装置は、不揮発性のメモリセルMC0、MC1、・・・をマトリクス状に配置してなるメモリセルアレイ100を備える。このメモリセルアレイ100の行方向には、同一行に並ぶメモリセルの制御ゲートに接続された複数のワード線WL・・・が延在している。
図14は、本発明の第2実施形態の半導体記憶装置を示す図である。
図16は、本発明の第3実施形態の半導体記憶装置を示す図である。
図18は、本発明の第4実施形態の半導体記憶装置に用いる電流センスアンプ2500を示す図である。
図19は、本発明の第5実施形態の半導体記憶装置に用いる電流センスアンプを示す図である。
101 ビット線充放電回路
102 CUT信号発生回路
103 第1パルス発生回路
104 第2パルス発生回路
105 第1マルチプレクサ
106 第2マルチプレクサ
107 電圧センスアンプ
108 ビット線選択回路
109,2500,2600 電流センスアンプ
110 パルス信号発生部
111 パルス幅制御回路
112 第1パルス発生回路
113 第2パルス発生回路
300 デジタルカメラ
301 パワースイッチ
302 電池
303 DC/DCコンバータ
304 シャッター
306 CPU
307 DRAM
308 フラッシュメモリ
310 映像処理部
311 データバッファ
312 JPEG処理部
313 MPEG処理部
314 ビデオエンコーダ
316 レンズ
317 光学系駆動部
318 CCD
319 不揮発性メモリ
320 A/Dコンバータ
321 液晶ドライバ
322 液晶パネル
500,600,900 インバータ列
2000 サイドウォールメモリ
2001 基板
2002 ゲート絶縁膜
2003 第1シリコン窒化膜
2004 第2シリコン窒化膜
2005 ワード線
2006,2007 シリコン酸化膜
2009,2010 拡散層
2011 第1ビット線
2012 第2ビット線
2013 第2拡散層
Claims (10)
- 第1入力端子および第2入力端子を有する電圧センスアンプと、
情報を記憶できる記憶領域、第1入出力端子および第2入出力端子を有する第1メモリセルと、
情報を記憶できる記憶領域と、上記第1メモリセルの上記第2入出力端子に接続された第1入出力端子と、第2入出力端子とを有する第2メモリセルと、
上記第1メモリセルの上記第1入出力端子に接続された第1ビット線と、
上記第2メモリセルの上記第2入出力端子に接続された第2ビット線と、
上記第1メモリセルの上記第2入出力端子と、上記第2メモリセルの上記第1入出力端子とに接続された第3ビット線と、
上記第1ビット線、上記第2ビット線および上記第3ビット線に対して充電または放電を行うビット線充放電回路と、
上記第1ビット線に接続された第1端子と、上記電圧センスアンプの上記第1入力端子に接続された第2端子と、制御端子とを有し、上記電圧センスアンプの上記第1入力端子と、上記第1ビット線とを接離する第1スイッチング素子と、
上記第2ビット線に接続された第1端子と、上記電圧センスアンプの上記第2入力端子に接続された第2端子と、制御端子とを有し、上記電圧センスアンプの上記第2入力端子と、上記第2ビット線とを接離する第2スイッチング素子と、
上記第1スイッチング素子の制御端子に接続された第1出力端子と、上記第2スイッチング素子の制御端子に接続された第2出力端子とを有し、上記第1スイッチング素子の制御端子と、上記第2スイッチング素子の制御端子とにパルス信号を出力するパルス信号発生部と
を備え、
上記第1メモリセルと上記第2メモリセルとで1ビットの情報を記憶することを特徴とする半導体記憶装置。 - 請求項1に記載の半導体記憶装置において、
上記第1メモリセルの上記記憶領域は、互いに独立に情報を記憶できる第1記憶領域および第2記憶領域からなり、上記第2メモリセルの上記記憶領域は、互いに独立に情報を記憶できる第1記憶領域および第2記憶領域からなることを特徴とする半導体記憶装置。 - 請求項1に記載の半導体記憶装置において、
上記パルス信号発生部は、
第1のパルス幅を有するパルス信号を出力する第1パルス発生回路と、
上記第1のパルス幅と異なる第2のパルス幅を有するパルス信号を出力する第2パルス発生回路と、
上記第1パルス発生回路からの信号が入力される第1入力端子と、上記第2パルス発生回路からの信号が入力される第2入力端子と、制御信号入力端子とを有する第1マルチプレクサと、
上記第1パルス発生回路からの信号が入力される第1入力端子と、上記第2パルス発生回路からの信号が入力される第2入力端子と、制御信号入力端子とを有する第2マルチプレクサと、
上記第1マルチプレクサの上記制御信号入力端子に接続された第1出力端子と、上記第2マルチプレクサの上記制御信号入力端子に接続された第2出力端子とを有し、上記第1マルチプレクサが出力する信号を、上記第1パルス発生回路からの信号にするか、または、上記第2パルス発生回路からの信号にするかを制御すると共に、上記第2マルチプレクサが出力する信号を、上記第1パルス発生回路からの信号にするか、または、上記第2パルス発生回路からの信号にするかを制御するパルス幅制御回路と
を備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - 請求項1に記載の半導体記憶装置において、
上記パルス信号発生部は
第1パルス信号と、上記第1パルス信号とパルス幅が異なる第2パルス信号とを出力可能な第1パルス発生回路と、
上記第1パルス発生回路と同一である第2パルス発生回路と、
上記第1パルス発生回路が出力する信号を、上記第1パルス信号にするか、または、上記第2パルス信号にするかを制御すると共に、上記第2パルス発生回路が出力する信号を、上記第1パルス信号にするか、または、上記第2パルス信号にするかを制御するパルス幅制御回路と
を備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - 情報を記憶できる記憶領域、第1入出力端子および第2入出力端子を有する第1メモリセルと、
情報を記憶できる記憶領域と、上記第1メモリセルの上記第2入出力端子に接続された第1入出力端子と、第2入出力端子とを有する第2メモリセルと、
上記第1メモリセルの上記第1入出力端子に接続された第1ビット線と、
上記第2メモリセルの上記第2入出力端子に接続された第2ビット線と、
上記第1メモリセルの上記第2入出力端子と、上記第2メモリセルの上記第1入出力端子とに接続された第3ビット線と、
上記第1ビット線、上記第2ビット線および上記第3ビット線に対して充電または放電を行うビット線充放電回路と、
上記第1ビット線が接続される第1入力端子と、上記第2ビット線が接続される第2入力端子と、第1出力端子と、第2出力端子とを有するビット線選択回路と、
上記ビット線選択回路の上記第1出力端子に接続された第1入力端子と、上記ビット線選択回路の上記第2出力端子に接続された第2入力端子とを有する電流センスアンプと
を備え、
上記第1メモリセルと上記第2メモリセルとで1ビットの情報を記憶し、
上記電流センスアンプは、上記第1メモリセルと上記第2メモリセルとに間違った情報が書き込まれるのを防止する誤情報書込防止部を有していることを特徴とする半導体記憶装置。 - 請求項5に記載の半導体記憶装置において、
上記第1メモリセルの上記記憶領域は、互いに独立に情報を記憶できる第1記憶領域および第2記憶領域からなり、上記第2メモリセルの上記記憶領域は、互いに独立に情報を記憶できる第1記憶領域および第2記憶領域からなることを特徴とする半導体記憶装置。 - 請求項5に記載の半導体記憶装置において、
上記誤情報書込防止部は、上記電流センスアンプの上記第1入力端子にバイアス電流を印加すると共に、上記電流センスアンプの上記第2入力端子にバイアス電流を印加するバイアス電流印加部であることを特徴とする半導体記憶装置。 - 請求項5に記載の半導体記憶装置において、
上記誤情報書込防止部は、上記電流センスアンプが有する複数の電流経路のうちの一部の電流経路を遮断する電流経路遮断部であることを特徴とする半導体記憶装置。 - 請求項2または6に記載の半導体記憶装置において、
上記第1メモリセルおよび上記第2メモリセルは、サイドウォールメモリであることを特徴とする半導体記憶装置。 - 請求項1乃至9のいずれか1つに記載の半導体記憶装置を備えることを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006254174A JP4809169B2 (ja) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | 半導体記憶装置および電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006254174A JP4809169B2 (ja) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | 半導体記憶装置および電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008077725A true JP2008077725A (ja) | 2008-04-03 |
JP4809169B2 JP4809169B2 (ja) | 2011-11-09 |
Family
ID=39349630
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006254174A Expired - Fee Related JP4809169B2 (ja) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | 半導体記憶装置および電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4809169B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020535574A (ja) * | 2017-09-14 | 2020-12-03 | シリコン ストーリッジ テクノロージー インコーポレイテッドSilicon Storage Technology, Inc. | プログラミング動作を最適化することによって推論エンジンを実装するためのシステム及び方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62275394A (ja) * | 1986-05-23 | 1987-11-30 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH04360096A (ja) * | 1991-06-06 | 1992-12-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置へのデータの書込み読出し方法 |
JPH06268180A (ja) * | 1993-03-17 | 1994-09-22 | Kobe Steel Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
JPH0877787A (ja) * | 1994-06-28 | 1996-03-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JP2004349355A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Sharp Corp | 半導体記憶装置、その冗長回路及び携帯電子機器 |
JP2005243127A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Sanyo Electric Co Ltd | 紫外線消去型半導体メモリ装置 |
JP2007087441A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2008041210A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Sharp Corp | 半導体記憶装置及び電子機器 |
-
2006
- 2006-09-20 JP JP2006254174A patent/JP4809169B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62275394A (ja) * | 1986-05-23 | 1987-11-30 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH04360096A (ja) * | 1991-06-06 | 1992-12-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置へのデータの書込み読出し方法 |
JPH06268180A (ja) * | 1993-03-17 | 1994-09-22 | Kobe Steel Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
JPH0877787A (ja) * | 1994-06-28 | 1996-03-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JP2004349355A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Sharp Corp | 半導体記憶装置、その冗長回路及び携帯電子機器 |
JP2005243127A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Sanyo Electric Co Ltd | 紫外線消去型半導体メモリ装置 |
JP2007087441A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2008041210A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Sharp Corp | 半導体記憶装置及び電子機器 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020535574A (ja) * | 2017-09-14 | 2020-12-03 | シリコン ストーリッジ テクノロージー インコーポレイテッドSilicon Storage Technology, Inc. | プログラミング動作を最適化することによって推論エンジンを実装するためのシステム及び方法 |
JP7116787B2 (ja) | 2017-09-14 | 2022-08-10 | シリコン ストーリッジ テクノロージー インコーポレイテッド | プログラミング動作を最適化することによって推論エンジンを実装するためのシステム及び方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4809169B2 (ja) | 2011-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100632330B1 (ko) | 불휘발성 반도체 기억 장치 | |
KR100744256B1 (ko) | 반도체 기억 장치 | |
KR100903839B1 (ko) | 불휘발성 반도체 메모리 및 그 동작 방법 | |
KR101053002B1 (ko) | 비휘발성 반도체 기억 장치 및 그 소거 검증 방법 | |
KR100635924B1 (ko) | 플래시 메모리 장치의 동작 방법 | |
KR20050025907A (ko) | 불휘발성 반도체 기억 장치, 전자 카드 및 전자 장치 | |
JPH10255487A (ja) | 半導体メモリ装置 | |
JP4338656B2 (ja) | 半導体記憶装置の書き込み方法 | |
KR20030009056A (ko) | 비휘발성 반도체 메모리의 판독 동작 방법 및 비휘발성반도체 메모리 | |
JP2007087441A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
US7385848B2 (en) | Semiconductor storage device and electronic equipment | |
JP4241780B2 (ja) | 半導体記憶装置及び電子機器 | |
US7630242B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
JP2006196700A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
JP4809169B2 (ja) | 半導体記憶装置および電子機器 | |
KR20020096876A (ko) | 반도체 기억장치 | |
JP4809170B2 (ja) | 半導体記憶装置及び電子機器 | |
JP2007299456A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置及びその書き込み方法 | |
KR100365872B1 (ko) | 비휘발성 반도체 메모리 | |
JP4317543B2 (ja) | 半導体記憶装置及び電子機器 | |
JP4878222B2 (ja) | 半導体記憶装置および電子機器 | |
JP4879656B2 (ja) | センスアンプ、半導体記憶装置、および、電子機器 | |
JP4322238B2 (ja) | 半導体記憶装置および電子機器 | |
US8537622B2 (en) | Semiconductor device and method for controlling | |
JP5045696B2 (ja) | 半導体記憶装置及びその書き込み方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080806 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110425 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110816 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110818 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140826 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |