JP2008060292A - 気相成長装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】サセプタ130が盤面と平行に支持機構140にスライド自在に支持されることで、ヒータユニット120に対向される。このため、工具による手作業もヒータユニット120の移動も必要とすることなく、ヒータユニット120と対向する位置にサセプタ130が着脱される。
【選択図】図1
Description
110 回転部材
120 ヒータユニット
130 サセプタ
131 ガイド部
132 凹穴
133 肉抜穴
140 支持機構
141 レール部
142 凹部
143 ボルト孔
150 伝熱板
C 軸心
G 重心
W 半導体ウェハ
Claims (9)
- 処理対象を加熱しながら層膜を気相成長させる気相成長装置であって、
前記処理対象を加熱するヒータユニットと、
前記処理対象を保持する円盤状のサセプタと、
前記サセプタを盤面と平行な方向にスライド自在に支持して前記ヒータユニットと対向する位置に配置する支持機構と、
を有する気相成長装置。 - 前記サセプタは、スライド方向と平行な一対のガイド部が外周部に形成されており、
前記支持機構は、一対の前記ガイド部がスライド自在に個々に係合する平行な一対のレール部が形成されている請求項1に記載の気相成長装置。 - 前記支持機構は、一端が開口して他端が閉塞した凹部の両内側面に前記レール部が形成されている請求項2に記載の気相成長装置。
- 軸心方向が上下方向となる状態に配置されている中空の円筒状の回転部材を、さらに有し、
前記ヒータユニットが前記回転部材の内部に配置されており、
前記支持機構が前記回転部材の下端に形成されており、
前記回転部材が軸心を中心に回転自在に軸支されており、
前記支持機構の凹部に開口した前記一端から挿入される前記サセプタが閉塞した前記他端に当接することで保持され、
前記支持機構に保持された状態の前記サセプタの重心が前記回転部材の軸心より前記凹部の閉塞した他端に近接している請求項3に記載の気相成長装置。 - 前記サセプタは、前記支持機構に保持された状態で前記凹部の閉塞した他端より開口した一端に近接した位置に肉抜穴が形成されている請求項4に記載の気相成長装置。
- 前記サセプタの上面に前記肉抜穴が形成されている請求項5に記載の気相成長装置。
- 前記支持機構に前記サセプタが保持された状態の前記サセプタと前記支持機構と前記回転部材との合成された重心が前記軸心に位置している請求項4ないし6の何れか一項に記載の気相成長装置。
- 請求項1ないし7の何れか一項に記載の気相成長装置のサセプタであって、
前記処理対象を保持する円盤状に形成されており、
前記支持機構に盤面と平行な方向にスライド自在に支持されて前記ヒータユニットと対向する位置に配置されるサセプタ。 - スライド方向と平行な一対のガイド部が外周部に形成されている請求項8に記載のサセプタ。
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