KR100734109B1 - 지그 장치 및 이를 포함하는 증착장치 - Google Patents
지그 장치 및 이를 포함하는 증착장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100734109B1 KR100734109B1 KR1020060002935A KR20060002935A KR100734109B1 KR 100734109 B1 KR100734109 B1 KR 100734109B1 KR 1020060002935 A KR1020060002935 A KR 1020060002935A KR 20060002935 A KR20060002935 A KR 20060002935A KR 100734109 B1 KR100734109 B1 KR 100734109B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- support plate
- deposition
- lower support
- jig device
- cups
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23P—METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; COMBINED OPERATIONS; UNIVERSAL MACHINE TOOLS
- B23P15/00—Making specific metal objects by operations not covered by a single other subclass or a group in this subclass
- B23P15/28—Making specific metal objects by operations not covered by a single other subclass or a group in this subclass cutting tools
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
Claims (10)
- 증착이 이루어지는 다수의 증착 대상물을 각각 수납하도록 구성되며, 각각의 한 끝에 체결돌기가 구성되는 다수의 컵;상기 다수의 컵을 각각 고정지지하도록, 상기 다수의 컵 각각의 상기 체결돌기와 체결되도록 체결공이 형성된 하부 지지판;상기 하부 지지판과 이격되어 상기 다수의 컵 각각을 고정하도록 고정공이 형성된 상부 지지판; 및상기 하부 지지판을 관통지지하며 회전가능하도록 구성되는 축;을 포함하며,상기 축은, 상기 상부 지지판까지 관통지지하도록 연장구성되며, 상기 축에는 축방향으로 돌기가 형성되고, 상기 하부 지지판 및 상기 상부 지지판에는 상기 돌기와 부합되도록 요(凹)홈을 가지는 축 결합공이 형성되는 것을 특징으로 하는 지그 장치.
- 제1항에 있어서,상기 컵은 D의 지름을 가지며, 상기 하부 지지판의 상기 체결공 및 상기 상부 지지판의 상기 고정공 간의 간격은 D/2인 지그 장치.
- 제1항에 있어서,상기 상부 지지판 및 상기 하부 지지판의 간격을 유지하면서 상호 체결고정하도록 체결부재가 더 포함되는 지그 장치.
- 제1항에 있어서,상기 컵의 한 끝에 구성된 상기 체결돌기는, 상기 컵의 전장방향에 대하여 수직방향으로 형성된 돌출부를 구비하며, 상기 하부 지지판의 상기 체결공은 상기 체결돌기의 상기 돌출부와 부합되도록 홈이 형성되는 지그 장치.
- 제1항에 있어서,상기 상부 지지판 또는 상기 하부 지지판에는, 상기 고정공 이외의 영역에 보조공이 형성되는 지그 장치.
- 제1항에 있어서,상기 상부 지지판 및 상기 하부 지지판 중 적어도 하나 이상에는, 상기 고정공 및 상기 축 결합공 이외의 영역에 보조공이 형성되는 지그 장치.
- 제1항에 있어서,상기 축에는 상기 하부 지지판의 직경에 대응하여 고정 로드가 더 구성되며,상기 고정 로드에는 상기 축에 의한 상기 하부 지지판의 회전에 대응하여, 상기 다수의 컵에 연차적으로 접촉하여 이의 자전이 이루어지도록 자전편이 형성되는 것을 특징으로 하는 지그 장치.
- 제7항에 있어서,상기 다수의 컵 각각의 어느 한 부위에는 상기 고정 로드의 상기 자전편에 감응하도록 거치가 형성되는 것을 특징으로 하는 지그 장치.
- 그 내부에 공간이 형성된 개폐가능한 챔버;상기 챔버 내에 수납되는 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서의 지그 장치; 및상기 지그 장치의 상기 증착 대상물에 증착물질을 공급하도록 상기 챔버 내부에 장착구성되는 증착원;을 포함하여 이루어지는 지그 장치를 포함하는 증착장치.
- 제9항에 있어서,상기 증착원은 물리기상 증착원인 것을 특징으로 하는 증착장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060002935A KR100734109B1 (ko) | 2006-01-10 | 2006-01-10 | 지그 장치 및 이를 포함하는 증착장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060002935A KR100734109B1 (ko) | 2006-01-10 | 2006-01-10 | 지그 장치 및 이를 포함하는 증착장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100734109B1 true KR100734109B1 (ko) | 2007-06-29 |
Family
ID=38373831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060002935A KR100734109B1 (ko) | 2006-01-10 | 2006-01-10 | 지그 장치 및 이를 포함하는 증착장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100734109B1 (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012134084A3 (en) * | 2011-03-25 | 2013-01-03 | Lg Electronics Inc. | Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same |
KR20200021698A (ko) * | 2018-08-21 | 2020-03-02 | (주)보림시스템 | 공구의 균일한 코팅을 위한 사선 지그 |
CN117403192A (zh) * | 2023-12-15 | 2024-01-16 | 怀来才八斗玻璃科技有限公司 | 一种玻璃杯自动化真空镀膜设备 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6362875A (ja) | 1986-09-01 | 1988-03-19 | Kobe Steel Ltd | 真空成膜装置 |
JPH09157844A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-17 | Nippon Piston Ring Co Ltd | 回転式コンプレッサ用ベーンの物理蒸着膜形成方法および装置 |
JP2003268544A (ja) | 2002-03-11 | 2003-09-25 | Mitsubishi Materials Kobe Tools Corp | 工具の成膜装置および成膜方法 |
KR20040102538A (ko) * | 2003-05-28 | 2004-12-08 | 주식회사 솔고 바이오메디칼 | 3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더 |
-
2006
- 2006-01-10 KR KR1020060002935A patent/KR100734109B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6362875A (ja) | 1986-09-01 | 1988-03-19 | Kobe Steel Ltd | 真空成膜装置 |
JPH09157844A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-17 | Nippon Piston Ring Co Ltd | 回転式コンプレッサ用ベーンの物理蒸着膜形成方法および装置 |
JP2003268544A (ja) | 2002-03-11 | 2003-09-25 | Mitsubishi Materials Kobe Tools Corp | 工具の成膜装置および成膜方法 |
KR20040102538A (ko) * | 2003-05-28 | 2004-12-08 | 주식회사 솔고 바이오메디칼 | 3차원 구조물에 백금을 코팅하기 위해 사용되는 홀더 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012134084A3 (en) * | 2011-03-25 | 2013-01-03 | Lg Electronics Inc. | Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same |
CN103443327A (zh) * | 2011-03-25 | 2013-12-11 | Lg电子株式会社 | 等离子体增强式化学气相沉积设备及其控制方法 |
KR20200021698A (ko) * | 2018-08-21 | 2020-03-02 | (주)보림시스템 | 공구의 균일한 코팅을 위한 사선 지그 |
KR102118319B1 (ko) | 2018-08-21 | 2020-06-03 | (주)보림시스템 | 공구의 균일한 코팅을 위한 사선 지그 |
CN117403192A (zh) * | 2023-12-15 | 2024-01-16 | 怀来才八斗玻璃科技有限公司 | 一种玻璃杯自动化真空镀膜设备 |
CN117403192B (zh) * | 2023-12-15 | 2024-02-06 | 怀来才八斗玻璃科技有限公司 | 一种玻璃杯自动化真空镀膜设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100734109B1 (ko) | 지그 장치 및 이를 포함하는 증착장치 | |
KR101665197B1 (ko) | 성막 장치 | |
JP2007083232A (ja) | コンポーネントを製造するための方法および装置 | |
US8475596B2 (en) | Apparatus to process coating material using flame nozzle and evaporation deposition device having same | |
WO2011135810A1 (ja) | 成膜装置 | |
US20070080059A1 (en) | Sputtering device | |
JP2010192720A (ja) | 半導体気相成長装置 | |
EP2921572A1 (en) | Film deposition device | |
JP2016148106A (ja) | 物理的気相堆積用のチャンバ | |
JP4660241B2 (ja) | スパッタ装置 | |
US8137511B2 (en) | Film forming apparatus and film forming method | |
JP2016132811A (ja) | 蒸着装置及び蒸着装置用光学基板保持部材 | |
JP6955983B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPH09162128A (ja) | 気相成長方法及び気相成長装置用基板保持装置 | |
KR101076227B1 (ko) | 진공증착장치 | |
JP2000299962A (ja) | 回転電機の設置位置調整装置および方法 | |
JP2009099770A (ja) | 気相成長装置 | |
WO2016114343A1 (ja) | 回転刃用ホルダ、切断装置用ユニット及び切断装置 | |
KR200412088Y1 (ko) | 지그 장치 | |
KR200412089Y1 (ko) | 지그 장치 | |
JP2000190155A (ja) | ハブブレ―ド | |
JP2008081769A (ja) | 真空成膜装置 | |
JP6815153B2 (ja) | 成膜装置 | |
CN212770932U (zh) | 渐变色镀膜治具 | |
US20100319622A1 (en) | Film coating apparatus for chemical vapor deposition and physical vapor deposition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
G170 | Publication of correction | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130504 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140430 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150625 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160622 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170620 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180619 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190513 Year of fee payment: 13 |