JP2008042086A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この半導体装置は第1および第2の組立体12A,12Bを含む。第1の組立体は、第1の半導体チップ、第1の半導体チップの一面に接合される高圧バスバー21、第1の半導体チップの他面にボンディングワイヤで接続される第1金属配線板24−1、第1金属配線板に連結される第3金属配線板24−3を備える。第2の組立体は、第2の半導体チップ、第2の半導体チップの一面にボンディングワイヤで接続される低圧バスバー23、第2の半導体チップの他面に接合される第2金属配線板24−2、第2金属配線板の端部から折り返して連結され、第2金属配線板に平行に配置する第4金属配線板24−4を備える。第1の組立体と第2の組立体は離間した積層構造で配置される。
【選択図】図1
Description
上記において、上記の半導体チップの電力用半導体素子がIGBT素子(Nチャンネル型)である場合、第1の半導体チップの一面はコレクタ側の面、他面はエミッタ側の面であり、第2の半導体チップの一面はエミッタ側の面、他面はコレクタ側の面である。
さらに本発明によれば、高圧側の第1の組立体と低圧側の第2の組立体で半導体素子モジュールを形成し、第1および第2の組立体を離間させた積層構造により立体的に形成するようにしたため、小型かつコンパクトに作ることができる。また第1および第2の組立体に生じるスペースを利用して制御基板を配置するようにし、半導体素子モジュールの内部に設けるようにしたため、制御基板までの制御用配線が極めて短くなり、配線インピーダンスを小さくでき、耐ノイズ性能を向上することができる。さらに、制御基板のための固定部材やケース等が不要になり、半導体装置を全体として小型化することができる。
上記の場合に、ダイオード素子に比べてIGBT素子に流れる電流の割合が多くなる半導体装置の駆動を行う場合(力行運転の場合)には、一方の半導体チップのIGBT素子は高圧バスバーで高圧端子に対して近い側に配置され、他方の半導体チップのIGBT素子は第2金属配線板で低圧端子に対して遠い側に配置される。他方、ダイオード素子に比べてIGBT素子に流れる電流の割合が少なくなる半導体装置の駆動を行う場合(回生運転等の場合)には、一方の半導体チップのIGBT素子は高圧バスバーで高圧端子に対して遠い側に配置され、他方の半導体チップのIGBT素子は第2金属配線板で低圧端子に対して近い側に配置されることになる。
次に、ヒートシンク32Aの上面に絶縁層22Aを介して高圧バスバー21をセットする。またヒートシンク32Bの上面に絶縁層22Bを介して第2金属配線板24−2をセットする。
次に、ヒートシンク32Aの上面にワイヤボンド治具をセットし、ワイヤボンド治具の上に高圧バスバー21と第3金属配線板24−3を配置する。
ヒートシンク32Bの上面に対して同様に第2金属配線板24−2および低圧バスバー23をセットする。
次に、ヒートシンク32Aの上面に信号コネクタ406を接着し、ヒートシンク32Bの上面に信号コネクタ407を接着する。
次に、第1および第2の組立体12A,12Bのそれぞれで主電力ワイヤと信号ワイヤをワイヤ・ボンディングする。
次に、第1金属配線板24−1と第3金属配線板24−3を接合し、第2金属配線板24−2と第4金属配線板24−4を接合する。
次に、第1の組立体と第2の組立体を立体的に積層配置し、第1および第2の組立体と出力端子を接合する。
次に、ワイヤボンド治具を取り外し、最後に樹脂モールド(ブロック11)を行う。
また電力用半導体素子としてIGBT素子の以外のその他の任意の電力用半導体素子を使用する場合には、その一面と他面は、上記IGBT素子の上記の各面に対して機能的に対応する面となる。例えばNチャンネルのMOS−FETの場合には、IGBT素子のコレクタは「ドレイン」に対応し、IGBT素子のエミッタは「ソース」に対応する。
12 IGBTモジュール
12A 第1の組立体
12B 第2の組立体
21 高圧バスバー
22A,22B 絶縁膜
23 低圧バスバー
24,24A 出力バスバー
24−1 第1金属配線板
24−2 第2金属配線板
24−3 第3金属配線板
24−4 第4金属配線板
32A,32B ヒートシンク
41 第1の制御基板
42 第2の制御基板
43 電流センサ
402,404 IGBT素子
409,410 ダイオード素子
411,412 ゲートドライバ
Claims (7)
- 第1の半導体チップと、この第1の半導体チップの一面に接合されると共に高圧端子を有する高圧バスバーと、前記第1の半導体チップの他面にボンディングワイヤで接続される第1金属配線板と、前記第1金属配線板に連結され、前記第1の半導体チップの他面に接続される前記ボンディングワイヤに対して所定間隔離間すると共に前記高圧バスバーに平行に配置する第3金属配線板とを備えた第1の組立体と、
第2の半導体チップと、この第2の半導体チップの一面にボンディングワイヤで接続されると共に低圧端子を有する低圧バスバーと、前記第2の半導体チップの他面に接合される第2金属配線板と、前記第2金属配線板の端部から折り返して連結され、前記第2の半導体チップに接続される前記ボンディングワイヤに対して所定間隔離間すると共に前記第2金属配線板に平行に配置する第4金属配線板とを備えた第2の組立体と、
前記第3金属配線板と前記第4金属配線板のそれぞれの端部から延在する出力端子を有する出力バスバーとから成り、
前記第1の組立体と前記第2の組立体は離間した積層構造で配置され、前記出力バスバーは前記積層構造の中間に配置されることを特徴とする半導体装置。 - 前記第1金属配線板と前記第3金属配線板を別部材として形成し、かつ前記第2金属配線板と前記第4金属配線板を別部材として形成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 前記第1金属配線板および前記第3金属配線板の間と、前記第2金属配線板および前記第4金属配線板の間のそれぞれに金属スペーサを備え、前記第3金属配線板と前記ボンディングワイヤとの間隙、および前記第4金属配線板と前記ボンディングワイヤとの間隙を調整可能に構成したことを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。
- 前記第1および第2の半導体チップの各々は電力用半導体素子と整流用半導体素子を備え、
前記整流用半導体素子に比べて前記電力用半導体素子に流れる電流の割合が多くなる半導体装置の駆動を行う場合、前記第1の半導体チップの前記電力用半導体素子は前記高圧バスバー上で前記高圧端子に対して近い側に配置され、前記第2の半導体チップの前記電力用半導体素子は前記第2金属配線板上で前記低圧端子に対して遠い側に配置され、
前記整流用半導体素子に比べて前記電力用半導体素子に流れる電流の割合が少なくなる半導体装置の駆動を行う場合、前記第1の半導体チップの前記電力用半導体素子は前記高圧バスバー上で前記高圧端子に対して遠い側に配置され、前記第2の半導体チップの前記電力用半導体素子は前記第2金属配線板上で前記低圧端子に対して近い側に配置され、
前記電力用半導体素子に接続されるボンディングワイヤを前記整流用半導体素子に接続されるボンディングワイヤよりも長くする、
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記第3の金属配線板に平行に配置され、前記第1の半導体チップを制御する第1の制御基板と、前記第3の金属配線板に平行に配置され、前記第2の半導体チップを制御する第2の制御基板とを備えたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記第1および第2の制御基板のそれぞに第1および第2の磁気抵抗素子が対向する位置で実装され、前記出力バスバーの一部が前記第1の磁気抵抗素子と前記第2の磁気抵抗素子の間を通って延設されていることを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
- 前記出力バスバーは、前記第1および第2の金属配線板との接合部から前記磁気抵抗素子までの部位を、前記制御基板の外側で面直角に配設したことを特徴とする請求項6記載の半導体装置。
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