JP2008028211A - 固体電解コンデンサの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表面に陽極酸化皮膜が形成された陽極体を有するコンデンサ素子を形成し(エッチング〜切り口化成・炭化処理)、該コンデンサ素子をエタノールまたはメタノールの濃度が20〜40wt%の範囲にあるブタノールまたはイソプロパノ−ルとエタノールまたはメタノールとの混合液を溶媒とする酸化剤溶液に浸漬することによって、該コンデンサ素子に酸化剤を含浸させ(酸化剤含浸)、その後、該コンデンサ素子をモノマー溶液に浸漬することによって、該コンデンサ素子にモノマーを含浸させる(モノマー含浸)。続いて、該コンデンサ素子に含浸させた酸化剤とモノマーとを化学重合させることによって、酸化皮膜上に導電性高分子からなる固体電解質を形成する(固体電解質形成)。
【選択図】図3
Description
酸化皮膜には電解質が接触しており、この電解質が、酸化皮膜からの電極の引き出しを行う真の陰極として機能する。
ここで、この真の陰極としての電解質は、電解コンデンサの電気特性に大きな影響を及ぼすことから、従来から、様々な種類の電解質が採用された電解コンデンサが提案されている。
この固体電解質においては、コンデンサ素子を酸化剤溶液に浸漬して、酸化剤を含浸させた後、重合性モノマー溶液に浸漬して、重合性モノマーを含浸させることによって、コンデンサ素子の酸化皮膜上において、酸化剤と重合性モノマーとの重合反応を促進して固体電解質を形成する方法が知られている。
この点、エタノールまたはメタノールのみを酸化剤溶液の溶媒として用いる場合は、粘度が低いため、酸化剤溶液の粘度も低くなり、酸化剤溶液が陽極体のエッチングピットの深部に浸透しやすくなる。しかしながら、エタノールまたはメタノールは揮発性が高いため、時間が経過すると、揮発して酸化剤の濃度が高くなる。
このため、コンデンサ素子を酸化剤溶液に浸漬するタイミングが異なると、コンデンサ素子ごとに陽極体のエッチングピットの深部への酸化剤の浸透具合が異なることになる。これにより、固体電解コンデンサ毎に固体電解質の形成状態が異なり、固体電解コンデンサ同士の間で等価直列抵抗がばらつく問題がある。
前記酸化剤含浸工程の後、モノマー溶液に前記コンデンサ素子を浸漬することによって、前記コンデンサ素子にモノマーを含浸させるモノマー含浸工程と、前記コンデンサ素子に含浸させた前記酸化剤と前記モノマーとを化学重合させることによって、前記酸化皮膜上に導電性高分子からなる固体電解質を形成する固体電解質形成工程とを備えている。
このとき、前記混合液中の前記エタノールまたは前記メタノールの濃度は20〜40wt%の範囲である。
加えて、前記モノマーが、アニリン、ピロール、チオフェン、およびこれらの誘電体の何れか1種を含んでいてもよい。
これにより、コンデンサ素子を酸化剤溶液に浸漬するタイミングが異なっても、酸化剤溶液が陽極体のエッチングピットの深部に安定して浸透するため、固体電解コンデンサの等価直列抵抗の増加を抑制するとともに、ばらつきを低減することができる。
まず、図1に示すように、本実施形態の製造方法により製造した固体電解コンデンサ1のコンデンサ素子10は、陽極箔2と陰極箔3とを備えており、これら陽極箔2と陰極箔3とがセパレータ4を介して巻回された構造を有する。
また、陰極箔3も陽極箔2と同様にアルミニウム等で形成されており、その表面はエッチング処理によりエッチングピットが形成され、粗面化されるとともに自然酸化皮膜3aが形成されている。
図1、図2に示すように、陽極箔2と陰極箔3とからはそれぞれリードタブが接続され、リードタブを介して陽極箔2と陰極箔3とからリード線6がそれぞれ引き出されている。
まず、電極の実効表面積を大きくするために、陽極箔2および陰極箔3の表面にエッチング処理を施して粗面化する。さらに、粗面化された陽極箔2の表面に化成処理を施して陽極酸化皮膜2aを形成し、陰極箔3は、耐水性処理および/または熱処理にて自然酸化皮膜3aを形成する。
そして、陽極酸化皮膜2a、自然酸化皮膜3aが形成された陽極箔2と陰極箔3とを所定の寸法に裁断後、それぞれにリードタブを介してリード線6を接続するとともに、これら陽極箔2と陰極箔3とをセパレータ4を介して巻回させ、さらに、切り口化成・セパレータの炭化処理を経て、円筒形のコンデンサ素子10を作製する。
続いて、重合層内で所定の温度で一定時間加熱することで、含浸した酸化剤とモノマーとを化学重合させて、陽極箔2および陰極箔3とセパレータ4との間に、導電性高分子からなる固体電解質5を形成する(固体電解質形成工程)。
また、揮発性が低いブタノールと揮発性が高いエタノールとが混合された混合液を溶媒とする酸化剤溶液は揮発性が低く抑えられるので、時間が経過しても酸化剤の濃度は高くなりにくい。そのため、コンデンサ素子10を酸化剤溶液に浸漬するタイミングが異なっても、酸化剤溶液における酸化剤の濃度が安定する。
以下、固体電解質を形成するための工程についてのみ説明する。なお、各固体電解コンデンサの定格は全て4.0V−560μFである。
実施例1においては、コンデンサ素子10を、ブタノールの濃度が60wt%、エタノールの濃度が40wt%の混合液を溶媒とするp−トルエンスルホン酸鉄溶液に浸漬して、コンデンサ素子10にp−トルエンスルホン酸鉄(酸化剤)を含浸(酸化剤含浸工程)させた後、80℃で30分間加熱し、乾燥させた。
その後、コンデンサ素子10を、ブタノールを溶媒とする3,4−エチレンジオキシチオフェン溶液に浸漬して、コンデンサ素子10に3,4−エチレンジオキシチオフェン(モノマー)を含浸(モノマー含浸工程)させた。
さらに、コンデンサ素子10を180℃で30分間加熱し、p−トルエンスルホン酸鉄と3,4−エチレンジオキシチオフェンとの化学重合により導電性高分子であるPEDTを生成し、固体電解質5を形成した(固体電解質形成工程)。
[実施例2〜5](比較例1および2)
実施例2〜5、および、比較例1および2においては、ブタノールとエタノールとの混合比のみが異なっており、他の条件は実施例1と同様である。
具体的には、実施例2においては、ブタノールの濃度が65wt%、エタノールの濃度が35wt%の混合液とした。実施例3においては、ブタノールの濃度が70wt%、エタノールの濃度が30wt%の混合液とした。
実施例4においては、ブタノールの濃度が75wt%、エタノールの濃度が25wt%の混合液とした。実施例5においては、ブタノールの濃度が80wt%、エタノールの濃度が20wt%の混合液とした。
比較例1においては、ブタノールの濃度が55wt%、エタノールの濃度が45wt%の混合液とした。比較例2においては、ブタノールの濃度が85wt%、エタノールの濃度が15wt%の混合液とした。
このように、ブタノールとエタノールとの混合液において、エタノールの濃度は20〜40wt%の範囲であることが好適であることが確認された。
2 陽極箔
2a 陽極酸化皮膜
3 陰極箔
3a 自然酸化皮膜
4 セパレータ
5 固体電解質
6 リード線
10 コンデンサ素子
Claims (3)
- 表面に酸化皮膜が形成された陽極体を有するコンデンサ素子を形成するコンデンサ素子形成工程と、
酸化剤を溶質とし、ブタノールおよび/またはイソプロパノールと、エタノールおよび/またはメタノールとの混合液を溶媒とする酸化剤溶液に前記コンデンサ素子を浸漬することによって、前記コンデンサ素子に酸化剤を含浸させる酸化剤含浸工程と、
前記酸化剤含浸工程の後、モノマー溶液に前記コンデンサ素子を浸漬することによって、前記コンデンサ素子にモノマーを含浸させるモノマー含浸工程と、
前記コンデンサ素子に含浸させた前記酸化剤と前記モノマーとを化学重合させることによって、前記酸化皮膜上に導電性高分子からなる固体電解質を形成する固体電解質形成工程とを備えており、
前記混合液中の前記エタノールまたは前記メタノールの濃度が20〜40wt%の範囲にあることを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。 - 前記酸化剤が、p−トルエンスルホン酸、メトキシベンゼンスルホン酸、およびドデシルベンゼンスルホン酸の何れか1種の金属塩を含んでいることを特徴とする請求項1または2に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
- 前記モノマーが、アニリン、ピロール、チオフェン、およびこれらの誘導体の何れか1種を含んでいることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
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